JPH01290366A - Electrostatic charge image recording and reproducing method - Google Patents

Electrostatic charge image recording and reproducing method

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JPH01290366A
JPH01290366A JP63121592A JP12159288A JPH01290366A JP H01290366 A JPH01290366 A JP H01290366A JP 63121592 A JP63121592 A JP 63121592A JP 12159288 A JP12159288 A JP 12159288A JP H01290366 A JPH01290366 A JP H01290366A
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layer
potential
photoreceptor
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誠 松尾
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内海 実
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Abstract

PURPOSE:To make the recording and reproducing system simple and low in the cost by using a photosensitive body so as to record a picture as an electrostatic latent image optically and analogically and reading and outputting a local potential of the electrostatic latent image with a scanning density at an optional point of time. CONSTITUTION:When a voltage is applied to electrode 7, 13 from a power supply 17, no change is caused between the electrodes since a photoconductive layer 9 is a high resistance at a dark place. However, when light is made incident from the photosensitive body 1, the part of the photoconductive layer 9 in which a light is made incident shows conductivity, discharge is caused with an insulation layer 11 and an electronic charge is stored in the insulation layer 11. A charge storage medium 3 is taken out to form an electrostatic latent image. A potential signal at an optical point on the storage medium 3 is collected as a data from the electrostatic latent image by using X, Y stages or the like by means of the electrostatic potential measuring means such as electron beam type or CT scanning type, the data is displayed while being picture processing.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は画像を静電的に記録し、任意時点で画像再生を
行うことができる静電画像記録再生方法に関するもので
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an electrostatic image recording and reproducing method capable of electrostatically recording an image and reproducing the image at any time.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、高感度撮影技術として銀塩写真法が知られている
。この写真法においては、撮影像は現像工程を経てフィ
ルム等に記録され、画像を再現する場合には銀塩乳剤(
印画紙等)を用いるか、または現像フィルムを光学走査
して陰極線管(以下CRT)に再現させる等により行わ
れている。
Conventionally, silver halide photography is known as a high-sensitivity photographing technique. In this photography method, the photographed image goes through a development process and is recorded on film, etc., and when reproducing the image, a silver salt emulsion (
This is done by using a photographic paper (such as photographic paper) or by optically scanning a developed film and reproducing it on a cathode ray tube (hereinafter referred to as CRT).

また、光導電層に電極を蒸着し、暗所で光導電層上にコ
ロナ帯電により全面IFWさせ、次いで強い光で露光し
て光の当たった部位の光導電層を導電性にし、その部位
の電荷をリークさせて除去することにより静電荷潜像を
光導電層の面上に光学的に形成させ、その残留静電荷と
逆極性の電荷(または同極性の電荷)を有するトナーを
付着させて現像する電子写真技術があるが、これは主と
して複写用に用いられており、一般に低感度のため撮影
用としては使用できず、静電荷の保持時間が短いために
静電潜像形成後、直ちにトナー現像するのが普通である
In addition, electrodes are deposited on the photoconductive layer, and the entire surface of the photoconductive layer is IFWed by corona charging in a dark place, and then exposed to strong light to make the photoconductive layer conductive in the areas exposed to the light. By leaking and removing the charge, an electrostatic latent image is optically formed on the surface of the photoconductive layer, and a toner having a charge of the opposite polarity (or a charge of the same polarity) as the residual electrostatic charge is deposited. There is an electrophotographic technology that involves developing, but this is mainly used for copying and cannot be used for photography due to its low sensitivity.The retention time of electrostatic charge is short, so it is not possible to use it immediately after forming an electrostatic latent image. It is common to use toner for development.

また、TV撮影技術は撮像管で撮影し、光半導体を利用
して得た画像情報を電気信号として取り出し、そのまま
CRTに出力させるか、磁気記録等を用いて、ビデオ記
録し、任意の時にCRT上に像出力させる等の方法があ
る。
In addition, TV photography technology takes pictures with an image pickup tube, extracts the image information obtained using an optical semiconductor as an electrical signal, outputs it as it is to a CRT, or records it as a video using magnetic recording, etc. There are methods such as outputting an image on top.

〔発明が解決すべき課題〕[Problem to be solved by the invention]

銀塩写真法は被写体像を保存する手段として優れている
が、銀塩像を形成させるために現像工程を必要とし、像
再現においてはハードコピー、ソフトコピー(CRT出
力)等に至る複雑な光学的、電気的、または化7的処理
が必要である。
Silver halide photography is an excellent means of preserving images of subjects, but it requires a developing process to form silver halide images, and image reproduction involves complex optical processes such as hard copy and soft copy (CRT output). physical, electrical, or chemical treatment is required.

電子写真技術は、得られた静電潜像の顕像化は銀塩写真
法よりも簡単、迅速であるが潜像保存は極めて短く、現
像剤の解離性、画質等は銀塩に劣る。
In electrophotographic technology, the visualization of the obtained electrostatic latent image is easier and faster than in silver salt photography, but the storage time of the latent image is extremely short, and the developer dissociation properties, image quality, etc. are inferior to silver salt.

TV撮影技術は撮像管で得られた電気的像信号を取り出
し、また記録するためには線順次走査が必要となる。v
A順次走査は撮像管内では電子ビームで、ビデオ記録で
は磁気ヘッドで行うが、解像性は走査線数に依存するた
め、銀塩写真のような面状アナログ記録に比して著しく
劣化する。
TV photographing technology requires line-sequential scanning in order to extract and record electrical image signals obtained by an image pickup tube. v
A progressive scanning is performed by an electron beam in the image pickup tube and by a magnetic head in video recording, but since the resolution depends on the number of scanning lines, it is significantly degraded compared to planar analog recording such as silver halide photography.

また、近年発達しつつある固体撮像素子(CCD等)を
利用したTV撮像系も解像性に関しては本質的に同様で
ある。
Furthermore, TV imaging systems using solid-state imaging devices (CCDs, etc.), which have been developing in recent years, are essentially the same in terms of resolution.

これらの技術の内蔵する問題点は画像記録が高品質、高
解像であれば処理工程が複雑であり、工程が簡便であれ
ば記憶機能の欠如、あるいは画質の基本的劣化等があっ
た。
Problems inherent in these technologies include a complicated processing process if the image recording is of high quality and high resolution, and a lack of storage function or basic deterioration of image quality if the process is simple.

本発明は上記問題点を解決するためのもので、高品質、
高解像であると共に、処理工程が簡便で、長時間の記憶
が可能で、記憶した文字、線画、画像、コード、(1,
0)情報を目的に応じた画質で、任意に反復再生するこ
とができる静電画像記録再生方法を提供することを目的
とする。
The present invention is intended to solve the above problems, and has high quality,
In addition to high resolution, the processing process is simple and long-term storage is possible.Memorized characters, line drawings, images, codes, (1,
0) It is an object of the present invention to provide an electrostatic image recording and reproducing method that can arbitrarily and repeatedly reproduce information with image quality according to the purpose.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

第1図は本発明の静電画像記録再生方法における記録方
法を説明するための図で、図中、1は感光体、3は電荷
保持媒体、5は光導電層支持体、7は感光体電極、9は
光導電層、11は絶縁層、13は電荷保持媒体電極、1
5は絶縁層支持体、17は電源である。
FIG. 1 is a diagram for explaining the recording method in the electrostatic image recording and reproducing method of the present invention, in which 1 is a photoreceptor, 3 is a charge retention medium, 5 is a photoconductive layer support, and 7 is a photoreceptor. 9 is a photoconductive layer, 11 is an insulating layer, 13 is a charge retention medium electrode, 1
5 is an insulating layer support, and 17 is a power source.

第1図においては、感光体1側から露光を行うa様であ
り、まず1ffIIIrg、のガラスからなる光導電層
支持体5上に1000人厚の1TOからなる透明な感光
体電極7を形成し、この上に10pm程度の光導電71
9を形成して感光体1を構成している。この感光体1に
対して、1101I程度の空隙を介して電荷保持媒体3
が配置される。電荷保持媒体3は1■厚のガラスからな
る絶縁層支持体15上に1000人厚の1T!、電極を
蒸着し、この電極上に10μm厚9絶縁層11を形成し
たものである。
In FIG. 1, exposure is performed from the side of the photoreceptor 1. First, a transparent photoreceptor electrode 7 made of 1TO with a thickness of 1000 is formed on a photoconductive layer support 5 made of glass of 1ffIIIrg. , on top of this is a photoconductive layer 71 of about 10 pm.
9 is formed to constitute the photoreceptor 1. A charge holding medium 3 is connected to the photoreceptor 1 through a gap of about 1101I.
is placed. The charge holding medium 3 is a 1T film having a thickness of 1000 layers on an insulating layer support 15 made of glass having a thickness of 1 mm. , an electrode was vapor-deposited, and an insulating layer 11 with a thickness of 10 μm was formed on the electrode.

先ず、第1図(イ)に示すように感光体1に対して、1
0μm程度の空隙を介して電荷保持媒体3をセットし、
第1図(ロ)に示すように電源17により電極7.13
間に電圧を印加する。暗所であれば光導電層9は高抵抗
体であるため、電極間には何の変化も生じない、感光体
1側より光が入射すると、光が入射した部分の光導電層
9は導電性を示し、絶縁層11との間に放電が生じ、絶
縁N11に電荷が蓄積される。
First, as shown in FIG. 1(A), 1
The charge retention medium 3 is set through a gap of about 0 μm,
As shown in FIG. 1 (b), the electrodes 7.13 are
A voltage is applied between them. In a dark place, the photoconductive layer 9 is a high-resistance material, so no change occurs between the electrodes. When light enters from the photoreceptor 1 side, the photoconductive layer 9 in the part where the light enters becomes conductive. A discharge occurs between the insulating layer 11 and the insulating layer 11, and charges are accumulated in the insulating layer N11.

露光が終了したら、第1図(ハ)に示すように電圧をO
FFにし、次いで、第1図(ニ)に示すように電荷保持
媒体3を取り出すことにより静電潜像の形成が終了する
After the exposure is completed, the voltage is turned off as shown in Figure 1 (c).
The formation of the electrostatic latent image is completed by setting the FF to FF and then taking out the charge holding medium 3 as shown in FIG. 1(d).

なお、感光体1と電荷保持媒体3とは上記のように非接
触でなく接触式でもよく、接触式の場合には、感光体電
極7側から光導電層9の露光部に正または負の電荷が注
入され、この電荷は電荷保持媒体3側の電極13に引か
れて光導電層9を通過し、絶縁7111面に達した所で
電荷移動が停止し、その部位に注入電荷が蓄積される。
Note that the photoreceptor 1 and the charge holding medium 3 may be of a contact type instead of a non-contact type as described above, and in the case of a contact type, a positive or negative charge is applied from the photoreceptor electrode 7 side to the exposed portion of the photoconductive layer 9. Charge is injected, this charge is attracted to the electrode 13 on the charge holding medium 3 side, passes through the photoconductive layer 9, and the charge movement stops when it reaches the insulating 7111 surface, and the injected charge is accumulated at that location. Ru.

そして、感光体1と電荷保持媒体3とを分離すると、絶
縁層11は電荷を蓄積したままの状態で分離される。
Then, when the photoreceptor 1 and the charge holding medium 3 are separated, the insulating layer 11 is separated with the charges stored therein.

この記録方法は面状アナログ記録とした場合、銀塩写真
法と同様に高解像度が得られ、また形成される絶縁N1
1上の表面電荷は空気環境に曝されるが、空気は良好な
絶縁性能を持っているので、明所、暗所に関係なく放電
せず長期間保存される。
When this recording method is used for planar analog recording, high resolution can be obtained similar to silver halide photography, and the insulation N1 formed
The surface charge on 1 is exposed to the air environment, but since air has good insulating properties, it can be stored for a long time without discharging regardless of whether it is in a bright or dark place.

この絶縁層11上の電荷保存期間は、絶縁体の性質によ
って定まり、空気の絶縁性以外に絶縁体の電荷捕捉特性
が影響する。前述の説明では電荷は表面電荷として説明
しているが、注入電荷は単に表面に蓄積させる場合もあ
り、また微視的には絶縁体表面付近内部に侵入し、その
物質の構造内に電子またはホールがトラップされる場合
もあるので長期間の保存が行われる。また電荷保持媒体
の物理的損傷や湿度が高い場合の放電等を防ぐために絶
縁性フィルム等で覆って保存するようにしてもよい。
The charge storage period on the insulating layer 11 is determined by the properties of the insulator, and is affected by the charge trapping properties of the insulator in addition to the insulating properties of air. In the above explanation, charge is explained as a surface charge, but injected charge may simply accumulate on the surface, or it may microscopically penetrate into the interior near the surface of an insulator, creating electrons or In some cases, holes may be trapped, resulting in long-term storage. Further, in order to prevent physical damage to the charge holding medium and discharge when the humidity is high, the charge holding medium may be covered with an insulating film or the like for storage.

以下、本願発明蝉用いられる感光体、および電荷保持媒
体の構成材料について説明する。
Hereinafter, the constituent materials of the photoreceptor and the charge retention medium used in the present invention will be explained.

光導電層支持体5としては、感光体を支持することがで
きるある程度の強度を有していれば、その材質、厚みは
特に制限がなく、例えば可撓性のあるプラスチックフィ
ルム、金属箔、紙、或いは硝子、プラスチックシート、
金属板(電極を兼ねることもできる)等の剛体が使用さ
れる。但し、感光体側から光を入射して情報を記録する
装置に用いられる場合には、当然その光を透過させる特
性が必要となり、例えば自然光を入射光とし、感光体側
から入射するカメラに用いられる場合には、厚み1mm
程度の透明なガラス板、或いはプラスチックのフィルム
、シートが使用される。
The material and thickness of the photoconductive layer support 5 are not particularly limited as long as they have a certain level of strength to support the photoreceptor, such as flexible plastic film, metal foil, and paper. , or glass, plastic sheet,
A rigid body such as a metal plate (which can also serve as an electrode) is used. However, if it is used in a device that records information by entering light from the photoconductor side, it will naturally need to have the property of transmitting that light. For example, if it is used in a camera that uses natural light as incident light and enters from the photoconductor side. The thickness is 1mm.
A transparent glass plate or a plastic film or sheet is used.

感光体電極7は、光導電層支持体5に金属のものが使用
される場合を除いて光導電層支持体5に形成され、その
材質は比抵抗値が106Ω・C−以下であれば限定され
なく、無機金属導電膜、無機金属酸化物導電膜、有機導
電膜等である。このような感光体電極7は、光導電層支
持体5上に、蒸着、スパッタリング、CVD、コーティ
ング、メツキ、ディッピング、電解重合等により形成さ
れる。またその厚みは、感光体電極7を構成する材質の
電気特性、および情報の記録の際の印加電圧により変化
させる必要があるが、例えばアルミニウムであれば、1
00〜3000人程度である。
The photoreceptor electrode 7 is formed on the photoconductive layer support 5 except when metal is used for the photoconductive layer support 5, and its material is limited as long as the specific resistance value is 106Ω·C- or less. Rather, they are inorganic metal conductive films, inorganic metal oxide conductive films, organic conductive films, etc. Such a photoreceptor electrode 7 is formed on the photoconductive layer support 5 by vapor deposition, sputtering, CVD, coating, plating, dipping, electrolytic polymerization, or the like. Further, the thickness needs to be changed depending on the electrical properties of the material forming the photoreceptor electrode 7 and the applied voltage when recording information.
Approximately 00 to 3000 people.

この感光体電極7も光導電層支持体5と同様に、情報光
を入射させる必要がある場合には、上述した光学特性が
要求され、例えば情報光が可視光(400〜700 n
m)であれば、I T O(Int。
Similar to the photoconductive layer support 5, this photoreceptor electrode 7 is also required to have the above-mentioned optical characteristics when information light needs to be incident thereon.
m), then I T O(Int.

5−3nO2) 、S n Oz等をスパッタリング、
蒸着、またはそれらの微粉末をバインダーと共にインキ
化してコーティングしたような透明電極や、Au。
Sputtering 5-3nO2), SnOz, etc.
Transparent electrodes coated by vapor deposition or by making ink with their fine powders together with a binder, and Au.

AI、Ag、Ni、Cr等を蒸着、またはスパッタリン
グで作製する半透明電極、テトラシアノキノジメタン(
TCNQ) 、ポリアセチレン等のコーティングによる
有機透明電極等が使用される。
Translucent electrode made by vapor deposition or sputtering of AI, Ag, Ni, Cr, etc., tetracyanoquinodimethane (
TCNQ), an organic transparent electrode coated with polyacetylene, etc. is used.

また情報光が赤外(700nm以上)光の場合も上記電
極材料が使用できるが、場合によっては可視光をカット
するために、着色された可視光吸収電極も使用できる。
The above electrode materials can also be used when the information light is infrared light (700 nm or more), but in some cases, colored visible light absorbing electrodes can also be used to cut visible light.

更に、情報光が紫外(400nm以下)光の場合も、上
記電極材料を基本的には使用できるが、電極基板材料が
紫外光を吸収するもの(有機高分子材料、ソーダガラス
等)は好ましくなく、石英ガラスのような紫外光を透過
する材料が好ましい。
Furthermore, when the information light is ultraviolet light (400 nm or less), the above electrode materials can basically be used, but electrode substrate materials that absorb ultraviolet light (organic polymer materials, soda glass, etc.) are not preferred. A material that transmits ultraviolet light, such as quartz glass, is preferred.

光導電層9は、光が照射されると照射部分で光キャリア
(電子、正孔)が発生し、それらのキャリアが層幅を移
動することができる導電性層であり、特に電界が存在す
る場合にその効果が顕著である層である。材料は無機光
導電材料、有機光導電材料、有機無機複合型光導電材料
等で構成され以下、これら光導電材料、および光導電層
の形成方法について説明する。
The photoconductive layer 9 is a conductive layer in which photocarriers (electrons, holes) are generated in the irradiated area when light is irradiated, and these carriers can move across the layer width, especially in the presence of an electric field. This is the layer where the effect is noticeable in some cases. The materials include inorganic photoconductive materials, organic photoconductive materials, organic-inorganic composite photoconductive materials, etc. These photoconductive materials and methods for forming the photoconductive layer will be described below.

(A)無機感光体(光導電体) 無機感光体材料としてはアモルファスシリコン、アモル
ファスセレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等がある。
(A) Inorganic photoreceptor (photoconductor) Inorganic photoreceptor materials include amorphous silicon, amorphous selenium, cadmium sulfide, zinc oxide, and the like.

(イ)アモルファスシリコン感光体 アモルファスシリコン感光体としては ■水素化アモルファスシリコン(a−5i:H)■フッ
素化アモルファスシリコン(a−3t:F) ・これらに対して不純物をドーピングしないもの、。
(a) Amorphous silicon photoreceptor Amorphous silicon photoreceptors include: ■ Hydrogenated amorphous silicon (a-5i:H) ■ Fluorinated amorphous silicon (a-3t:F) - These are not doped with impurities.

・B、AI、Ga、In、TI等をドーピングによりP
型(ホール輸送型)にしたも   の、・PSAg、S
b、、Bi等をドーピングによりN型(電子輸送型)に
したもの、 がある。
・P by doping B, AI, Ga, In, TI, etc.
Type (hole transport type),・PSAg,S
b, Bi, etc., are made into N type (electron transport type) by doping.

感光体層の形成方法としては、シランガス、不純物ガス
を水素ガスなどと共に低真空中に導入しく 10−t〜
I Torr) 、グロー放電により加熱、或いは加熱
しない電極基板上に堆積して成膜するか、単に加熱した
電極基板上に熱化学的に反応形成するか、或いは固体原
料を蒸着、スパッター法により成膜し、単層、或いは積
層で使用する0M厚は11−50tIである。
As a method for forming the photoreceptor layer, silane gas and impurity gas are introduced into a low vacuum together with hydrogen gas, etc.
I Torr), the film can be formed by depositing it on an electrode substrate heated or not heated by glow discharge, it can be formed by a thermochemical reaction on a heated electrode substrate, or it can be formed by vapor deposition or sputtering of a solid raw material. The 0M thickness used as a film, single layer, or laminated is 11-50 tI.

また、透明電極7から電荷が注入され、露光してないの
にもかかわらず恰も露光したような帯電を防止するため
に、感光体電極7の表面に電荷注入防止層を設けること
ができる。この電荷注入防止層として、電極基板上と感
光体最上層(表面層)の一方或いは両方に、グロー放電
、蒸着、スパッター法等によりa−3iN層、a−5i
C層、Si01層、Al2O2層等の絶縁層を設けると
よい、この絶縁層を余り厚くしすぎると露光したとき電
流が流れないので、少なくとも1000Å以下とする必
要があり、作製し易さ等を考慮すると400〜500人
程度が望ましい。
Further, in order to prevent charge from being injected from the transparent electrode 7 and charging as if it were exposed to light even though it was not exposed, a charge injection prevention layer can be provided on the surface of the photoreceptor electrode 7. As this charge injection prevention layer, an a-3iN layer, an a-5iN layer, or an a-5iN layer is formed on one or both of the electrode substrate and the top layer (surface layer) of the photoreceptor by glow discharge, vapor deposition, sputtering, etc.
It is advisable to provide an insulating layer such as a C layer, Si01 layer, Al2O2 layer, etc. If this insulating layer is made too thick, no current will flow when exposed, so the thickness must be at least 1000 Å or less, and ease of fabrication etc. Considering this, it is desirable to have around 400 to 500 people.

また、電荷注入防止層として、整流効果を利用して電極
基板上に電極基板における極性と逆極性の電荷輸送能を
有する電荷輸送層を設けるとよ(、電極がマイナスの場
合はホール輸送層、電極がプラスの場合は電子輸送層を
設ける0例えば、Slにボロンをドープしたa −3i
 : H(n’ )は、ホールの輸送特性が上がって整
流効果が得られ、電荷注入防止層として機能する。
In addition, as a charge injection prevention layer, a charge transport layer having a charge transport ability with a polarity opposite to that of the electrode substrate may be provided on the electrode substrate by utilizing a rectifying effect (if the electrode is negative, a hole transport layer, If the electrode is positive, an electron transport layer is provided.For example, a-3i in which Sl is doped with boron.
: H(n') improves hole transport properties, provides a rectifying effect, and functions as a charge injection prevention layer.

(ロ)アモルファスセレン感光体 アモルファスセレン感光体としては、 ■アモルファスセレン(a−3e) ■アモルファスセレンテルル(a −3e−Te)■ア
モルフアスひ素セレン化合物(a −AszSe3)■
アモルファスひ素セレン化合物+Teがある。
(b) Amorphous selenium photoreceptor The amorphous selenium photoreceptor includes: ■Amorphous selenium (a-3e) ■Amorphous selenium telluride (a-3e-Te) ■Amorphous arsenic selenium compound (a-AszSe3)■
There is an amorphous arsenic selenium compound +Te.

この感光体は蒸着、スパッター法により作製し、また電
荷注入阻止層としてSing、A jzos 、、5i
C2SiN層を蒸着、スパッター、グロー放電法等によ
り電極基板上に設けられる。また上記■〜■を組み合わ
せ、積層型感光体としてもよい、感光体層の膜厚はアモ
ルファスシリコン感光体と同様である。
This photoreceptor was fabricated by vapor deposition or sputtering, and was coated with a charge injection blocking layer as described by Sing, Ajzos, 5i
A C2SiN layer is provided on the electrode substrate by vapor deposition, sputtering, glow discharge method, or the like. Moreover, a laminated type photoreceptor may be formed by combining the above items (1) to (4).The film thickness of the photoreceptor layer is the same as that of an amorphous silicon photoreceptor.

(ハ)硫化カドミウム(CdS ) この感光体は、コーティング、蒸着、スパッタリング法
により作製する。蒸着の場合はCdSの固体粒をタング
ステンボードにのせ、抵抗加熱により蒸着するか、EB
(エレクトロンビーム)蒸着により行う。またスパッタ
リングの場合はCdSターゲットを用いてアルゴンプラ
ズマ中で基板上に堆積させる。この場合、通常はアモル
ファス状態でCdSが堆積されるが、スパッタリング条
件を選択することにより結晶性の配向P!(膜厚方向に
配向)を得ることもできる。コーティングの場合は、C
dS粒子(粒径1〜100μm)をバインダー中に分散
させ、溶媒を添加して基板上にコーティングするとよい
(c) Cadmium sulfide (CdS) This photoreceptor is manufactured by coating, vapor deposition, and sputtering methods. In the case of vapor deposition, solid particles of CdS are placed on a tungsten board and vapor deposited by resistance heating, or by EB.
(electron beam) vapor deposition. In the case of sputtering, a CdS target is used to deposit on the substrate in argon plasma. In this case, CdS is normally deposited in an amorphous state, but by selecting sputtering conditions it can be changed to a crystalline orientation P! (orientation in the film thickness direction) can also be obtained. For coating, C
It is preferable to disperse dS particles (particle size 1 to 100 μm) in a binder, add a solvent, and coat on the substrate.

(ニ)酸化亜鉛(Zn O) この感光体はコーティング法、或いはCVD法で作製さ
れる。コーティング法としては、ZnS粒子(粒径1〜
100μm)をバインダー中に分散させ、溶媒を添加し
て基板上にコーティングを行って得られる。またCVD
法としては、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛等の有機金属
と酸素ガスを低真空中(10−”〜ITorr)で混合
し、加熱した電極基板(150〜400°C)上で化学
反応させ、酸化亜鉛膜として堆積させる。この場合も膜
厚方向に配向した膜が得られる。
(d) Zinc oxide (Zn 2 O) This photoreceptor is produced by a coating method or a CVD method. As a coating method, ZnS particles (particle size 1~
100 μm) in a binder, add a solvent, and coat on a substrate. Also CVD
The method involves mixing organic metals such as diethylzinc and dimethylzinc with oxygen gas in a low vacuum (10-''~ITorr) and causing a chemical reaction on a heated electrode substrate (150~400°C) to form zinc oxide. It is deposited as a film.In this case as well, a film oriented in the film thickness direction is obtained.

(B)有機感光体 有機感光体としては、単層系感光体、機能分離型感光体
とがある。
(B) Organic photoreceptor Organic photoreceptors include single-layer photoreceptors and functionally separated photoreceptors.

(イ)単層系感光体 単層系感光体は電荷発生物質と電荷輸送物質の混合物か
らなっている。
(a) Single-layer photoreceptor A single-layer photoreceptor is made of a mixture of a charge-generating material and a charge-transporting material.

〈電荷発生物質系〉 光を吸収して電荷を生じ易い物質であり、例えば、アゾ
系顔料、ジスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料、フタロシ
アニン系顔料、ペリレン系顔料、ピリリウム染料系、シ
アニン染料系、メチン染料系が使用される。
<Charge-generating substances> Substances that easily generate charges by absorbing light, such as azo pigments, disazo pigments, trisazo pigments, phthalocyanine pigments, perylene pigments, pyrylium dyes, cyanine dyes, and methine. A dye system is used.

く電荷輸送物質系〉 電離した電荷の輸送特性がよい物質であり、例えばヒド
ラゾン系、ピラゾリン系、ポリビニルカルバゾール系、
カルバゾール系、スチルベン系、アントラセン系、ナフ
タレン系、トリジフェニルメタン系、アジン系、アミン
系、芳香族アミン系等がある。
Charge transport material system> A material with good transport properties for ionized charges, such as hydrazone-based, pyrazoline-based, polyvinylcarbazole-based,
There are carbazole-based, stilbene-based, anthracene-based, naphthalene-based, tridiphenylmethane-based, azine-based, amine-based, aromatic amine-based, etc.

また、電荷発生系物質と電荷輸送系物質により錯体を形
成させ、電荷移動錯体としてもよい。
Alternatively, a charge-transfer complex may be obtained by forming a complex with a charge-generating substance and a charge-transporting substance.

通常、感光体は電荷発生物質の光吸収特性で決まる感光
特性を有尤るが、電荷発生物質と電荷輸送物質とを混ぜ
て錯体をつくると、光吸収特性が変わり、例えばポリビ
ニルカルバゾール(PVK)は紫外域でしか感ぜず、ト
リニトロフルオレノン(T N F )は400nm波
長近傍しか感じないが、PVK−TNF錯体は650n
m波長域まで感じるようになる。
Normally, photoreceptors have photosensitive properties determined by the light absorption properties of the charge generating substance, but when a charge generating substance and a charge transporting substance are mixed to form a complex, the light absorption properties change; for example, polyvinylcarbazole (PVK) is only felt in the ultraviolet region, and trinitrofluorenone (TNF) is only felt in the vicinity of 400nm wavelength, but the PVK-TNF complex is only felt in the 650nm wavelength range.
You will be able to feel up to the m wavelength range.

このような単層系感光体の膜厚は、10〜50μmが好
ましい。
The thickness of such a single-layer photoreceptor is preferably 10 to 50 μm.

(ロ)機能分離型感光体 電荷発生物質は光を吸収し易いが、光をトラップする性
質があり、電荷輸送物質は電荷の輸送特性はよいが、光
吸収特性はよくない。そのため両者を分離し、それぞれ
の特性を十分に発揮させようとするものであり、電荷発
生層と電荷輸送層を積層したタイプである。
(b) Functionally separated photoreceptor Charge generating materials easily absorb light but have the property of trapping light, while charge transporting materials have good charge transport properties but poor light absorption properties. Therefore, it is a type in which a charge generation layer and a charge transport layer are laminated in order to separate the two and fully exhibit their respective characteristics.

く電荷発生層〉 電荷発生層を形成する物質としては、例えばアゾ系、ジ
スアゾ系、トリスアゾ系、フタロシアニン系、酸性ザン
セン染料系、シアニン系、スチリル色素系、ピリリウム
色素系、ペリレン系、メチン系、a−3e 、 a−5
t 、アズレニウム塩系、スクアリウム塩基等がある。
Charge generation layer> Examples of substances forming the charge generation layer include azo, disazo, trisazo, phthalocyanine, acidic xanthene dyes, cyanine, styryl dyes, pyrylium dyes, perylene, methine dyes, a-3e, a-5
t, azulenium salts, squalium bases, etc.

く電荷輸送層〉 電荷輸送層を形成する物質としては、例えばヒドラゾン
系、ピラゾリン系、PVK系、カルバゾール系、オキサ
ゾール系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン系
、トリフェニルメタン系、多環芳香族化合物系等がある
Charge Transport Layer> Examples of the substances forming the charge transport layer include hydrazone-based, pyrazoline-based, PVK-based, carbazole-based, oxazole-based, triazole-based, aromatic amine-based, amine-based, triphenylmethane-based, and polycyclic aromatic. There are group compounds, etc.

機能分離型感光体の作製方法としては、まず電荷発生物
質を溶剤に溶かして、電極上に塗布し、次に電荷輸送層
を溶剤に溶かして電荷輸送層に塗布し、電荷発生層を0
.1〜10μm、電荷輸送層を10〜50μmの膜厚と
するとよい。
The method for manufacturing a functionally separated photoreceptor is to first dissolve the charge generating substance in a solvent and apply it on the electrode, then dissolve the charge transport layer in the solvent and apply it to the charge transport layer, and then remove the charge generating layer from zero.
.. The thickness of the charge transport layer is preferably 1 to 10 μm, and the thickness of the charge transport layer is 10 to 50 μm.

なお、単層系感光体、機能分離型感光体の何れの場合に
も、バインダーとしてシリコーン樹脂、スチレン−ブタ
ジェン共重合体樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、飽
和又は不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂
、ポリビニルアセクール樹脂、フェノール樹脂、ポリメ
チルメタアクリレート(PMMA)樹脂、メラミン樹脂
、ポリイミド樹脂等を電荷発生材料と電荷輸送材料名1
部に対し、0.1〜10部添加して付着し易いようにす
る。コーティング法としては、ディッピング法、蒸着法
、スパッター法等を使用することができる。
In addition, in the case of either a single-layer photoconductor or a functionally separated photoconductor, silicone resin, styrene-butadiene copolymer resin, epoxy resin, acrylic resin, saturated or unsaturated polyester resin, polycarbonate resin, polyvinyl is used as a binder. Acecool resin, phenol resin, polymethyl methacrylate (PMMA) resin, melamine resin, polyimide resin, etc. are used as charge generating materials and charge transport materials 1
0.1 to 10 parts to make it easier to adhere. As the coating method, a dipping method, a vapor deposition method, a sputtering method, etc. can be used.

次ぎに、電荷注入防止層について詳述する。Next, the charge injection prevention layer will be described in detail.

電荷注入防止層は、光導電層9の両表面の少なくとも一
方か、両方の面に、光導電層9の電圧印加時の暗電流(
電極からの電荷注入)、すなわち露光していないにもか
かわらず恰も露光したように感光層中を電荷が移動する
現象を防止するために設けることができるものである。
The charge injection prevention layer prevents dark current (
This can be provided to prevent charge injection from the electrode), that is, a phenomenon in which charges move in the photosensitive layer as if it had been exposed even though it had not been exposed.

この電荷注入防止層は、いわゆるトンネリング効果を利
用した層と整流効果を利用した層との二種類のものがあ
る。まず、いわゆるトンネリング効果を利用したものは
、電圧印加のみではこの電荷注入防止層により、光導電
層、あるいは絶縁層表面まで電流が流れないが、光を入
射した場合には、入射部分に相当する電荷注入防止層に
は先導Ti層で発生した電荷の一方(電子、またはホー
ル)が存在するため高電界が加わり、トンネル効果を起
こして、電荷注入防止層を通過して電流が流れるもので
ある。このような電荷注入防止層は無機絶縁性膜、有機
絶縁性高分子膜、絶縁性単分子膜等の単層、あるいはこ
れらを積層して形成され、無機絶縁性膜としては、例え
ばASz03 、this、Bite、 、CdS %
 CaO、Cents Cry’s 、Coo 、、G
e0ts1(fox、Fe!gs 、LazOs 、M
gO、Mn01、NdtOs 、NbzOs 、、 P
bO,5bzOs 、5ift、5eO1、Taxes
 5Tion、WOs 、VzOs、 YJs、Y2O
1、Zr(h、BaTiOs、Altos、BizTt
Os s CaO−3rO、Ca0−YtOs、Cr−
3inSLITa01、PbTi0.、PbZrOs、
Zr0l−Co  、Zr0l−5iO1、AIN  
、BN、NbN  、5hy4 、TaN  s  T
iN  、VN、ZrN  。
There are two types of charge injection prevention layers: a layer that utilizes a so-called tunneling effect and a layer that utilizes a rectification effect. First, in a device that utilizes the so-called tunneling effect, when only a voltage is applied, current does not flow to the photoconductive layer or the surface of the insulating layer due to this charge injection prevention layer, but when light is incident, the current does not flow to the surface of the photoconductive layer or the insulating layer. Since one of the charges (electrons or holes) generated in the leading Ti layer is present in the charge injection prevention layer, a high electric field is applied, causing a tunnel effect, and current flows through the charge injection prevention layer. . Such a charge injection prevention layer is formed of a single layer such as an inorganic insulating film, an organic insulating polymer film, an insulating monomolecular film, or a stack of these. Examples of the inorganic insulating film include ASz03, this, etc. ,Bite, ,CdS%
CaO,Cents Cry's,Coo,,G
e0ts1(fox, Fe!gs, LazOs, M
gO, Mn01, NdtOs, NbzOs,, P
bO, 5bzOs, 5ift, 5eO1, Taxes
5Tion, WOs, VzOs, YJs, Y2O
1, Zr(h, BaTiOs, Altos, BizTt
Os s CaO-3rO, Ca0-YtOs, Cr-
3inSLITa01, PbTi0. , PbZrOs,
Zr0l-Co, Zr0l-5iO1, AIN
, BN, NbN, 5hy4, TaNsT
iN, VN, ZrN.

SiC、TiC、肛、^14C1等をグロー放電、蒸着
、スパッタリング等により形成される。尚、この層の膜
厚は電荷の注入を防止する絶縁性と、トンネル効果の点
を考慮して使用される材質ごとに決められる。次ぎに整
流効果を利用した電荷注入防止層は、整流効果を利用し
て電極基板の極性と逆極性の電荷輸送能を有する電荷輸
送層を設ける。即ち、このような電荷注入防止層は無機
光導電層、有機光導電層、有機無機複合型光導電層で形
成され、その膜厚は0.1〜10μm程度である。具体
的には、電極がマイナスの場合はB、Al5Ga、In
等をドープしたアモルファスシリコン光導電層、アモル
ファスセレン、またはオキサシアソール、ヒラゾリン、
ポリビニルカルバゾール、スチルベン、アントラセン、
ナフタレン、トリフェニルメタン、トリフェニルメタン
、アジン、アミン、芳香族アミン等を樹脂中に分散して
形成した有機光導電層、電極がプラスの場合は、P、N
、As、5bSBi等をドープしたアモルファスシリコ
ン光導電層、ZnO光導電層等をグロー放電、蒸着、ス
パッタリング、CVD、コーティング等の方法により形
成される。
It is formed by glow discharge, vapor deposition, sputtering, etc. of SiC, TiC, 14C1, etc. The thickness of this layer is determined depending on the material used, taking into account the insulating properties to prevent charge injection and the tunnel effect. Next, the charge injection prevention layer utilizing a rectifying effect is provided with a charge transporting layer having a charge transporting ability of opposite polarity to the polarity of the electrode substrate using a rectifying effect. That is, such a charge injection prevention layer is formed of an inorganic photoconductive layer, an organic photoconductive layer, and an organic-inorganic composite photoconductive layer, and has a thickness of about 0.1 to 10 μm. Specifically, when the electrode is negative, B, Al5Ga, In
Amorphous silicon photoconductive layer doped with amorphous selenium, or oxacyazole, hilazoline, etc.
polyvinylcarbazole, stilbene, anthracene,
An organic photoconductive layer formed by dispersing naphthalene, triphenylmethane, triphenylmethane, azine, amine, aromatic amine, etc. in a resin. If the electrode is positive, P, N
An amorphous silicon photoconductive layer doped with , As, 5bSBi, etc., a ZnO photoconductive layer, etc. are formed by methods such as glow discharge, vapor deposition, sputtering, CVD, and coating.

次ぎに、電荷保持媒体材料、および電荷保持媒体の作製
方法について説明する。
Next, a charge retention medium material and a method for manufacturing the charge retention medium will be described.

電荷保持媒体3は感光体1と共に用いられて、電荷保持
媒体3を構成する絶縁層11の表面、もしくはその内部
に情報を静電荷の分布として記録するものであるから、
電荷保持媒体自体が記録媒体として使用されるものであ
る。従って記録される情報、あるいは記録の方法により
この電荷保持媒体の形状は種々の形状をとることができ
る。例えば静電カメラ(同一出願人による同日出@)に
用いられる場合には、一般のフィルム(単コマ、連続コ
マ用)形状、あるいはディスク状となりレーザー等によ
りデジタル情報、またはアナログ情報を記録する場合に
は、テープ形状、ディスク形状、あるいはカード形状と
なる。
The charge retention medium 3 is used together with the photoreceptor 1 to record information as a distribution of electrostatic charges on the surface or inside of the insulating layer 11 constituting the charge retention medium 3.
The charge retention medium itself is used as a recording medium. Therefore, the shape of this charge retention medium can take various shapes depending on the information to be recorded or the recording method. For example, when used in an electrostatic camera (same sunrise @ by the same applicant), it is in the form of a general film (single frame or continuous frame) or in the form of a disk, and when digital or analog information is recorded using a laser, etc. It can be tape-shaped, disk-shaped, or card-shaped.

絶縁層支持体15は、上記のような電荷保持媒体3を強
度的に支持するものであるが、基本的には光導電層支持
体5と同様な材質で構成され、光透過性も同様に要求さ
れる場合がある。具体的には、電荷保持媒体3がフレキ
シブルなフィルム、テープ、ディスク形状をとる場合に
は、フレキシブル性のあるプラスチックフィルムが使用
され、強度が要求される場合には両性のあるシート、ガ
ラス等の無機材料等が使用される。
The insulating layer support 15 strongly supports the charge holding medium 3 as described above, and is basically made of the same material as the photoconductive layer support 5, and has the same light transmittance. May be required. Specifically, when the charge retention medium 3 takes the form of a flexible film, tape, or disk, a flexible plastic film is used, and when strength is required, amphoteric sheets, glass, etc. are used. Inorganic materials etc. are used.

電荷保持媒体電極13は、基本的には感光体電極7と同
じでよく、上述した感光体電極7と同様の形成方法によ
って、絶縁層支持体15上に形成される。
The charge retention medium electrode 13 may basically be the same as the photoreceptor electrode 7, and is formed on the insulating layer support 15 by the same formation method as the photoreceptor electrode 7 described above.

絶縁層11は、その表面、もしくはその内部に情報を静
電荷の分布として記録するものであるから、電荷の移動
を抑えるため高絶縁性が必要であり、比抵抗で1014
Ω・C11以上の絶縁性を有することが要求される。こ
のような絶縁1’illは、樹脂、ゴム類を溶剤に溶解
させ、コーティング、ディッピングするか、または蒸着
、スパッタリング法により層形成させることができる。
Since the insulating layer 11 records information as a distribution of static charges on its surface or inside it, it needs to have high insulation properties to suppress the movement of charges, and has a specific resistance of 1014.
It is required to have an insulation property of Ω·C11 or more. Such insulation 1'ill can be formed into a layer by dissolving resin or rubber in a solvent and coating or dipping it, or by vapor deposition or sputtering.

ユニで、上記樹脂、ゴムとしては、例えばポリエチレン
、ポリプロピレン、ビニル樹脂、スチロール樹脂、アク
リル樹脂、ナイロン66、ナイロン6、ポリカーボネー
トアセタールホモポリマー、弗素樹脂、セルロース樹脂
、フェノール樹脂。
Examples of the resins and rubbers include polyethylene, polypropylene, vinyl resin, styrene resin, acrylic resin, nylon 66, nylon 6, polycarbonate acetal homopolymer, fluororesin, cellulose resin, and phenol resin.

ユリア樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂。Urea resin, polyester resin, epoxy resin.

可撓性エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂、フ
ェノオキシ樹脂、芳香族ポリイミド、PPO,ポリスル
ホン等、またポリイソプレン、ポリブタジェン、ポリク
ロロプレン、イソブチレン。
Flexible epoxy resin, melamine resin, silicone resin, phenoxy resin, aromatic polyimide, PPO, polysulfone, etc., as well as polyisoprene, polybutadiene, polychloroprene, isobutylene.

極高ニトリル、ポリアクリルゴム、クロロスルホン化ポ
リエチレン、エチレン・プロピレンラバー。
Extremely high nitrile, polyacrylic rubber, chlorosulfonated polyethylene, ethylene/propylene rubber.

弗素ゴム、シリコンラバー、多硫化系合成ゴム。Fluororubber, silicone rubber, polysulfide synthetic rubber.

ウレタンゴム等のゴムの単体、あるいは混合物が使用さ
れる。
A single rubber such as urethane rubber or a mixture thereof is used.

またシリコンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリイ
ミドフィルム、含弗素フィルム、ポリエチレンフィルム
、ポリプロピレンフィルム、ポリパラバン酸フィルム、
ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム等を電
荷保持媒体電極13上に接着剤等を介して貼着すること
により層形成させるか、あるいは熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ゴム等
に必要な硬化剤、溶剤等を添加してコーティング、ディ
ッピングすることにより層形成してもよい。
Also silicone film, polyester film, polyimide film, fluorine-containing film, polyethylene film, polypropylene film, polyparabanic acid film,
A layer may be formed by pasting a polycarbonate film, a polyamide film, etc. on the charge holding medium electrode 13 via an adhesive, or a thermoplastic resin, thermosetting resin, ultraviolet curable resin, electron beam curable resin. The layer may be formed by adding necessary hardening agents, solvents, etc. to rubber, etc., and coating or dipping the mixture.

また絶縁層11として、ラングミュア−・プロシェド法
により形成される単分子膜、または単分子累積膜も使用
することができる。
Further, as the insulating layer 11, a monomolecular film or a monomolecular cumulative film formed by the Langmuir-Proschede method can also be used.

またこれら絶縁層11には、電極面との間、または絶縁
層11上に電荷保持強化層を設けることができる。電荷
保持強化層とは、強電界(104V / c m以上)
が印加された時には電荷が注入するが、低電界(10’
V/cm以下)では電荷が注入しない層のことをいう、
電荷保持強化層としては、例えばSiO□、Ah(h 
、SiC、SiN等が使用でき、有機系物質としては例
えばポリエチレン蒸着膜、ポリバラキシレン蒸着膜が使
用できる。
Further, a charge retention reinforcing layer can be provided between these insulating layers 11 and the electrode surface or on the insulating layer 11. The charge retention enhancement layer is a strong electric field (104V/cm or more)
is applied, charge is injected, but at a low electric field (10'
V/cm or less) refers to a layer in which no charge is injected.
As the charge retention reinforcing layer, for example, SiO□, Ah(h
, SiC, SiN, etc. can be used, and as the organic material, for example, a polyethylene vapor deposited film or a polyvaraxylene vapor deposited film can be used.

また静電荷をより安定に保持させるために、絶縁層11
に、電子供与性を有する物質(ドナー材料)、あるいは
電子受容性を有する物質(アクセプター材料)を添加す
るとよい。ドナー材料としてはスチレン系、ピレン系、
ナフタレン系、アントラセン系、ピリジン系、アジン系
化合物があり、具体的にはテトラチオフルバレン(TT
F)、ポリビニルピリジン、ポリビニルナフタレン、ポ
リビニルアントラセン、ボリアジン、ポリビニルピレン
、ポリスチレン等が使用され、一種、または混合して用
いられる。またアクセプター材料としてはハロゲン化合
物、シアン化合物、ニトロ化合物等があり、具体的には
テトラシアノキノジメタン(TCNQ)トリニトロフル
オレノン(TNF)等が使用され、一種、または混合し
て使用される。ドナー材料、アクセプター材料は、樹脂
等に対して0.001〜10%程度添加して使用される
In addition, in order to hold static charge more stably, the insulating layer 11
It is preferable to add a substance having electron-donating properties (donor material) or a substance having electron-accepting properties (acceptor material) to the material. Donor materials include styrene, pyrene,
There are naphthalene-based, anthracene-based, pyridine-based, and azine-based compounds, specifically tetrathiofulvalene (TT
F), polyvinylpyridine, polyvinylnaphthalene, polyvinylanthracene, polyazine, polyvinylpyrene, polystyrene, etc. are used, and they are used alone or in combination. Further, as the acceptor material, there are halogen compounds, cyan compounds, nitro compounds, etc., and specifically, tetracyanoquinodimethane (TCNQ), trinitrofluorenone (TNF), etc. are used, and they are used singly or as a mixture. The donor material and acceptor material are used by adding about 0.001 to 10% to the resin and the like.

さらに電荷を安定に保持させるために、電荷保持媒体中
に元素単体微粒子を添加することができる。元素単体と
しては周期律表第1A族(アルカリ金属)、同IB族(
銅族)、同I[A族(アルカリ土類金属)、同IIB族
(亜鉛族)、同mA族(アルミニウム族)、同11B族
(希土類)、同■B族(チタン族)、同VB族(バナジ
ウム族)、同VIB族(クロム族)、同■B族(マンガ
ン族)、同■族(鉄族、白金族)、また同IVA族(炭
素族)としては珪素、ゲルマニウム、錫、鉛、同VA族
(窒素族)としてはアンチモン、ビスマス、同VIA族
(酸素族)としては硫黄、セレン、テルルが微細粉状で
使用される。また上記元素単体のうち金属類は金属、イ
オン、微細粉状の合金、有機金属、錯体の形態としても
使用することができる。
Further, in order to stably retain the charge, elemental fine particles can be added to the charge retention medium. Single elements include Group 1A (alkali metals) of the periodic table and Group IB (alkali metals) of the periodic table.
Copper group), I[A group (alkaline earth metals), IIB group (zinc group), mA group (aluminum group), 11B group (rare earths), B group (titanium group), VB (vanadium group), VIB group (chromium group), VIB group (manganese group), same group (iron group, platinum group), and IVA group (carbon group) such as silicon, germanium, tin, Lead, VA group (nitrogen group) antimony and bismuth, and VIA group (oxygen group) sulfur, selenium, and tellurium are used in fine powder form. Further, among the above elements, metals can be used in the form of metals, ions, fine powder alloys, organic metals, and complexes.

更に上記元素単体は酸化物、燐酸化物、硫酸化物、ハロ
ゲン化物の形態で使用することができる。これらの添加
物は、上述した樹脂、ゴム等の電荷保持媒体にごく僅か
添加すればよく、添加量は電荷保持媒体に対して0.0
1〜10重景%程度でよい。 また絶縁層11は、絶縁
性の点からは少なくても1000人(0,1μm)以上
の厚みが必要であり、フレキシビル性の点からは100
μm以下が好ましい。
Furthermore, the above elements can be used in the form of oxides, phosphorus oxides, sulfides, and halides. These additives need only be added in a very small amount to the charge retention medium such as the resin or rubber mentioned above, and the amount added is 0.0% relative to the charge retention medium.
It may be about 1 to 10% of the heavy background. In addition, the insulating layer 11 needs to have a thickness of at least 1000 mm (0.1 μm) or more from the viewpoint of insulation, and from the viewpoint of flexibility, the thickness must be at least 1000 μm.
It is preferably less than μm.

このようにして形成される絶縁層11は、破損、または
その表面の情報電荷の放電を防止するために、その表面
に保護膜を設けることができる。保ff1lffとして
は粘着性を有するシリコンゴム等のゴム類、ポリテルペ
ン樹脂等の樹脂類をフィルム状にし、絶縁層11の表面
に貼着するか、またプラスチックフィルムをシリコンオ
イル等の密着剤を使用して貼着するとよく、比抵抗10
14Ω・cm以上のものであればよく、膜厚は0.5〜
30μm程度であり、絶縁111の情報を高解像度とす
る必要がある場合には保護膜は薄い程よい。この保護層
は、情報再生時には保護膜上から情報を再生してもよく
、また保1!膜を剥離して絶縁層の情報を再生すること
もできる。
A protective film can be provided on the surface of the insulating layer 11 formed in this manner to prevent damage or discharge of information charges on the surface. For the protection ff1lff, a sticky rubber such as silicone rubber or a resin such as polyterpene resin is formed into a film and adhered to the surface of the insulating layer 11, or a plastic film is used with an adhesive such as silicone oil. It is best to stick it with a resistivity of 10
It only needs to be 14Ω・cm or more, and the film thickness is 0.5~
The thickness is about 30 μm, and if the information on the insulation 111 needs to have high resolution, the thinner the protective film is, the better. When reproducing information, this protective layer may be used to reproduce information from above the protective film, and also protects the information from the protective film. The information in the insulating layer can also be reproduced by peeling off the film.

静電荷保持の方法としては、前述したような表面電荷を
蓄積するいわゆる自由電荷保持方法以外に絶縁媒体内部
に電荷の分布、分極を生じさせるニレクレットがある。
In addition to the so-called free charge retention method in which surface charges are accumulated as described above, electrostatic charge retention methods include Niclet, which generates charge distribution and polarization within an insulating medium.

第2図は光エレクトレットを用いた静電荷保持方法を示
す図で、第1図と同一番号は同一内容を示している。な
お、図中、19は透明電極である。
FIG. 2 is a diagram showing an electrostatic charge holding method using a photoelectret, and the same numbers as in FIG. 1 indicate the same contents. In addition, in the figure, 19 is a transparent electrode.

第2図(イ)に示すようにフィルム等の支持体15上に
電極13を形成し、電極板上にZnS。
As shown in FIG. 2(a), an electrode 13 is formed on a support 15 such as a film, and ZnS is deposited on the electrode plate.

CdS、ZnOを、蒸着スパッター、CVD、 コーテ
ィング法等で1層1〜5μm形成する。そしてこの感光
層表面に透明電極19を接触あるいは非接触で重ね、電
圧印加露光で露光すると(第2図(ロ))、露光部で光
によって電荷が発生し、電場によって分極し、電荷は電
場を取り去ってもその位置にトランプされる(第2図(
ハ))# こうして、露光量に応じたエレクトレットが
得られる。なお、第2図の電荷保持媒体の場合は別体の
感光体を必要としない利点がある。
CdS and ZnO are formed in a thickness of 1 to 5 μm per layer by vapor deposition sputtering, CVD, coating method, etc. Then, when the transparent electrode 19 is placed on the surface of this photosensitive layer in contact or non-contact and is exposed to light by applying a voltage (FIG. 2 (b)), charges are generated in the exposed area by the light and polarized by the electric field. Even if you remove , the cards will be played in that position (Figure 2 (
c))# In this way, electrets corresponding to the exposure amount are obtained. Note that the charge retention medium shown in FIG. 2 has the advantage of not requiring a separate photoreceptor.

第3図は熱ニレクレットを用いた静電荷保持方法を示す
図で、第1図と同一番号は同一内容である。
FIG. 3 is a diagram showing a method for holding an electrostatic charge using a thermosiliclet, and the same numbers as in FIG. 1 have the same contents.

熱エレクトレツト材料としては、例えばポリ弗化ビニリ
デン(PVDF)、ポリ(VDF/三フッ化エチレン)
、ポリ(VDF/四フッ化エチレン)、ポリフッ化ビニ
ル5ポリ塩化ビニリデン2ポリアクリロニトリル、ポリ
−α−クロロアクリロニトリル、ポリ(アクリロニトリ
ル/塩化ビニル)、ポリアミド11.ポリアミド3.ポ
リ−m−フェニレンイソフタルアミド、ポリカーボネー
ト、ポリ(ビニリデンシアナイド酢酸ビニル)。
Examples of thermoelectret materials include polyvinylidene fluoride (PVDF) and poly(VDF/trifluoroethylene).
, poly(VDF/tetrafluoroethylene), polyvinyl fluoride 5 polyvinylidene chloride 2 polyacrylonitrile, poly-α-chloroacrylonitrile, poly(acrylonitrile/vinyl chloride), polyamide 11. Polyamide 3. Poly-m-phenylene isophthalamide, polycarbonate, poly(vinylidene cyanide vinyl acetate).

PVDF/PZT複合体等からなり、これを電極MtH
,xs上に1〜50um単層で設けるかあるいは2種類
以上のものを積層する。
It consists of a PVDF/PZT composite, etc., and is used as an electrode MtH.
, xs as a single layer with a thickness of 1 to 50 um, or two or more types are laminated.

そして露光前に抵抗加熱等で上記媒体材料のガラス転移
以上に媒体を加熱しておき、その状態で電圧印加露光を
行う(第3図(ロ))。高温ではイオンの移動度が大き
くなっており、露光部では絶縁層に高電界が加わり、熱
的に活性化されたイオンの内、負電荷は正電極に、正電
荷は負電極に集まって空間電荷を形成し、分極を生じる
。その後、媒体を冷却すると、発生した電荷は電場を取
り去ってもその位置にトラップされ露光量に応じたエレ
クトレットを生じる(第3図(ハ))。
Then, before exposure, the medium is heated to a temperature above the glass transition of the medium material by resistance heating or the like, and in this state, voltage is applied and exposure is performed (FIG. 3(b)). At high temperatures, the mobility of ions increases, and a high electric field is applied to the insulating layer in the exposed area, and among the thermally activated ions, negative charges gather at the positive electrode, and positive charges gather at the negative electrode, causing them to flow into space. Forms a charge and causes polarization. Thereafter, when the medium is cooled, the generated charges are trapped at that position even when the electric field is removed, producing electrets corresponding to the exposure amount (FIG. 3 (c)).

次ぎに、絶縁層11に情報を入力する方法としては高解
像度静電カメラによる方法、またレーザーによる記録方
法がある。まず本願発明で使用される高解像度静電カメ
ラは、通常のカメラに使用されている写真フィルムの代
わりに、前面に感光体電極7を設けた光導′r4層9か
らなる感光体1と、感光体1に対向し、後面に電荷保持
媒体電極13を設けた絶縁層IIからなる電荷保持媒体
とにより記録部材を構成し、画電極へ電圧を印加し、入
射光に応じて光導電層を導電性として入射光量に応じて
絶縁層上に電荷を蓄積させることにより入射光学像の静
電潜像を電荷蓄積媒体上に形成するもので、機械的なシ
ャッタも使用しうるし、また電気的なシャッタも使用し
うるちのであり、また静電潜像は明所、暗所に関係なく
長期間保持することが可能である。またプリズムにより
光情報を、R,G、B光成分に分離し、平行光として取
り出すカラーフィルターを使用し、R,G、B分解した
電荷保持媒体3セントで1コマを形成するか、または】
平面上にR,G、、B像を並べて1セツトで1コマとす
ることにより、カラー撮影することもできる。
Next, methods for inputting information to the insulating layer 11 include a method using a high-resolution electrostatic camera and a recording method using a laser. First, the high-resolution electrostatic camera used in the present invention uses a photoreceptor 1 consisting of four light guide layers 9 with a photoreceptor electrode 7 provided on the front surface, and a photoreceptor instead of the photographic film used in ordinary cameras. A recording member is constituted by a charge retention medium consisting of an insulating layer II facing the body 1 and provided with a charge retention medium electrode 13 on the rear surface, and a voltage is applied to the picture electrode to make the photoconductive layer conductive in accordance with incident light. A latent electrostatic image of an incident optical image is formed on a charge storage medium by accumulating charges on an insulating layer according to the amount of incident light.A mechanical shutter can also be used, or an electric shutter can be used. Also, the electrostatic latent image can be retained for a long period of time regardless of bright or dark places. Also, use a prism to separate the optical information into R, G, and B light components, and use a color filter to extract them as parallel light, and form one frame with 3 cents of charge retention medium separated into R, G, and B, or]
Color photography is also possible by arranging R, G, and B images on a plane so that one set constitutes one frame.

またレーザーによる記録方法としては、光源としてはア
ルゴンレーザー(514,488nm)、ヘリウム−ネ
オンレーザ−(633nm)、半導体レーザー(780
nm、810nm等)が使用でき、感光体と電荷保持媒
体を面状で表面同志を、密着させるか、一定の間隔をお
いて対向させ、電圧印加する。この場合感光体のキャリ
アの極性と同じ極性に感光体電極をセットするとよい、
この状態で画像信号、文字信号、コード信号、線画信号
に対応したレーザー露光をスキャニングにより行うもの
である。画像のようなアナログ的な記録は、レーザーの
光強度を変調して行い、文字、コード、線画のようなデ
ジタル的な記録は、レーザー光の0N−OFF制御によ
り行う。また画像において網点形成されるものには、レ
ーザー光にドツトジェネレーター0N−OFF制御をか
けて形成するものである。尚、感光体における光導電層
の分光特性は、パンクロマティックである必要はなく、
レーザー光源の波長に感度を有していればよい。
For recording methods using lasers, the light sources include argon laser (514,488 nm), helium-neon laser (633 nm), and semiconductor laser (780 nm).
(nm, 810 nm, etc.), and a voltage is applied to the photoreceptor and the charge holding medium with their surfaces brought into close contact with each other or facing each other at a fixed interval. In this case, it is best to set the photoreceptor electrode to the same polarity as the carrier of the photoreceptor.
In this state, laser exposure corresponding to image signals, character signals, code signals, and line drawing signals is performed by scanning. Analog recording such as images is performed by modulating the light intensity of the laser, and digital recording such as characters, codes, and line drawings is performed by ON-OFF control of the laser light. Further, halftone dots in an image are formed by applying dot generator ON-OFF control to laser light. Note that the spectral characteristics of the photoconductive layer in the photoreceptor do not need to be panchromatic;
It only needs to be sensitive to the wavelength of the laser light source.

第4図は本発明の静電画像記録再生方法における電位読
み取り方法の例を示す図で、第1図と同一番号は同一内
容を示している。なお、図中、21は電位読み取り部、
23は検出電極、25はガード電極、27はコンデンサ
、29は電圧計である。
FIG. 4 is a diagram showing an example of a potential reading method in the electrostatic image recording and reproducing method of the present invention, and the same numbers as in FIG. 1 indicate the same contents. In addition, in the figure, 21 is a potential reading section,
23 is a detection electrode, 25 is a guard electrode, 27 is a capacitor, and 29 is a voltmeter.

電位読み取り部21.を電荷保持媒体3の電荷蓄積面に
対向させると、検出電極23に電荷保持媒体3の絶縁層
11上に蓄積された電荷によって生じる電界が作用し、
検出電極面上に電荷保持媒体上の電荷と等量の誘導電荷
が生ずる。この誘導電荷と逆極性の等量の電荷でコンデ
ンサ27が充電されるので、コンデンサの電極間に蓄積
電荷に応じた電位差が生じ、この値を電圧計29で読む
ことによって電荷保持体の電位を求めることができる。
Potential reading section 21. When facing the charge storage surface of the charge storage medium 3, an electric field generated by the charges accumulated on the insulating layer 11 of the charge storage medium 3 acts on the detection electrode 23,
An induced charge equal to the charge on the charge retention medium is generated on the detection electrode surface. Since the capacitor 27 is charged with an equal amount of charge of opposite polarity to this induced charge, a potential difference corresponding to the accumulated charge is generated between the electrodes of the capacitor, and by reading this value with a voltmeter 29, the potential of the charge carrier is determined. You can ask for it.

そして、電位読み取り部21で電荷保持媒体面上を走査
することにより静電潜像を電気信号として出力すること
ができる。なお、検出電極23だけでは電荷保持媒体の
検出電極対向部位よりも広い範囲の電荷による電界(電
気力線)が作用して分解能が落ちるので、検出電極の周
囲に接地したガード電極25を配置するようにしてもよ
い。
Then, by scanning the surface of the charge holding medium with the potential reading section 21, the electrostatic latent image can be output as an electrical signal. Note that if only the detection electrode 23 is used, the electric field (electric line of force) due to charges in a wider area than the area of the charge holding medium that faces the detection electrode will act, reducing resolution, so a grounded guard electrode 25 is placed around the detection electrode. You can do it like this.

これによって、電気力線は面に対して垂直方向を向くよ
うになるので、検出電極23に対向した部位のみの電気
力線が作用するようになり、検出電極面積に略等しい部
位の電位を読み取ることができる。電位読み取りの精度
、分解能は検出電極1、ガード電極の形状、大きさ、及
び電荷保持媒体との間隔によって大きく変わるため、要
求される性能に合わせて最適条件を求めて設計する必要
がある。
As a result, the lines of electric force are oriented perpendicularly to the surface, so that the lines of electric force only act on the area facing the detection electrode 23, and the potential of the area approximately equal to the area of the detection electrode 23 is read. be able to. The accuracy and resolution of potential reading vary greatly depending on the shape and size of the detection electrode 1 and the guard electrode, and the distance between them and the charge retention medium, so it is necessary to find and design optimal conditions according to the required performance.

第5図は電位読み取り方法の他の例を示す図で、検出電
極、ガード電極を絶縁性保護膜31上に設け、絶縁性保
護膜を介して電位を検出する点以外は第4図の場合と同
様である。
FIG. 5 is a diagram showing another example of the potential reading method, which is the same as in FIG. 4 except that the detection electrode and the guard electrode are provided on the insulating protective film 31 and the potential is detected through the insulating protective film. It is similar to

この方法によれば、電荷保持媒体に接触させて検出でき
るため検出1を極との間隔を一定にすることができる。
According to this method, since the detection can be performed by contacting the charge holding medium, the distance between the detection 1 and the pole can be made constant.

第6図は電位読み取り方法の他の例を示す図で、針状電
極33を直接電荷保持媒体に接触させ、その部分の電位
を検出するもので、検出面積を小さくすることができる
ので、高分解能を得ることができる。なお、針状電極を
複数設けて検出するようにすれば読み取り速度を向上さ
せることが可能となる。
FIG. 6 is a diagram showing another example of the potential reading method, in which the needle-like electrode 33 is brought into direct contact with the charge holding medium and the potential of that portion is detected. resolution can be obtained. Note that if a plurality of needle-like electrodes are provided for detection, the reading speed can be improved.

以上は接触または非接触で直流信号を検出する直流増幅
型のものであるが、次に交流増幅型の例を説明する。
The above is a direct current amplification type that detects a direct current signal with or without contact, but an example of an alternating current amplification type will be explained next.

第7図は振動電極型の電位読取り方法を示す図で、22
は検出電極、24は増幅器、26はメータである。
FIG. 7 is a diagram showing a method for reading the potential of a vibrating electrode type.
is a detection electrode, 24 is an amplifier, and 26 is a meter.

検出電極22は振動し、電荷保持媒体3の帯電面に対し
て時間的に距離が変化するように駆動されており、その
結果、検出電極22における電位は、帯電面の静電電位
に応じた振幅で時間的に変化する。この時間的な電位変
化をインピーダンスZの両端の電圧変化として取り出し
、コンデンサCを通して交流分を増幅器24で増幅し、
メータ26により読み取ることにより帯電面の静電電位
を測定することができる。
The detection electrode 22 is driven to vibrate and change its distance with respect to the charged surface of the charge holding medium 3 over time, and as a result, the potential at the detection electrode 22 changes according to the electrostatic potential of the charged surface. Changes over time with amplitude. This temporal potential change is extracted as a voltage change across the impedance Z, and the alternating current component is amplified by the amplifier 24 through the capacitor C.
By reading with the meter 26, the electrostatic potential of the charged surface can be measured.

第8図は回転型検出器の例を示し、図中28は回転羽根
である。
FIG. 8 shows an example of a rotating type detector, and 28 in the figure is a rotating blade.

電極22と電荷保持媒体3の帯電面の間には導電性の回
転羽12Bが設けられて図示しない駆動手段により回転
駆動されている。その結果、検出N極22と電荷保持媒
体3との間は周期的に電気的に遮蔽される。そのため、
検出電極22には帯電面の静電電位に応じた振幅の周期
的に変化する電位信号が検出され、この交流成分を増幅
器24で増幅して読み取ることになる。
A conductive rotary blade 12B is provided between the electrode 22 and the charging surface of the charge holding medium 3 and is rotationally driven by a driving means (not shown). As a result, the detection north pole 22 and the charge retention medium 3 are electrically shielded periodically. Therefore,
A potential signal whose amplitude changes periodically according to the electrostatic potential of the charged surface is detected by the detection electrode 22, and this alternating current component is amplified by the amplifier 24 and read.

第9図は振動容量型検出器の例を示し、28は駆動回路
、30は振動片である。
FIG. 9 shows an example of a vibration capacitance type detector, in which 28 is a drive circuit and 30 is a vibrating piece.

駆動回路28によってコンデンサーを形成する一方の電
極の振動片30を振動させて、コンデンサ容量を変化さ
せる。その結果、検出電極22により検出される直流電
位信号は変調を受け、この交流成分を増幅して検出する
。この検出器は直流を交流に変換して高感度で安定性良
く電位測定することができる。
The vibrating piece 30 of one electrode forming the capacitor is vibrated by the drive circuit 28 to change the capacitor capacity. As a result, the DC potential signal detected by the detection electrode 22 is modulated, and this AC component is amplified and detected. This detector converts direct current to alternating current and can measure potential with high sensitivity and stability.

第10図は電位読み取り方法の他の例を示す図で、細長
い検出電極を用い、C7手法(コンピュータ断層映像法
)を用いて電位検出を行うものである。
FIG. 10 is a diagram showing another example of the potential reading method, in which potential is detected using the C7 method (computed tomography imaging method) using a long and thin detection electrode.

検出電極35を電荷蓄積面を横断するように対向配置す
ると、得られるデータは検出電極に沿って線積分した値
、即ちCTにおける投影データに相当するデータが得ら
れる。そこで、この検出電極を第10図(ロ)の矢印の
ように全面に行き渡るように走査し、さらに角度θを変
えて同様に走査していくことにより必要なデータを収集
し、収集したデータにCTアルゴリズムを用いて演算処
理を施すことにより、電荷保持体上の電位分布状態を求
めることができる。
When the detection electrodes 35 are placed opposite each other across the charge storage surface, the data obtained is a value obtained by line integration along the detection electrodes, that is, data corresponding to projection data in CT. Therefore, the necessary data is collected by scanning this detection electrode over the entire surface as shown by the arrow in Figure 10 (b), and then repeating the same scan while changing the angle θ. By performing arithmetic processing using the CT algorithm, the potential distribution state on the charge carrier can be determined.

なお、第11図に示すように検出電極を複数個並べるよ
うにすればデータ収集速度を早くすることができ、全体
としての処理速度を向上させることができる。
Note that by arranging a plurality of detection electrodes as shown in FIG. 11, the data collection speed can be increased, and the overall processing speed can be improved.

第12回は集電型検出器の例を示し、図中、32は接地
型金属円筒、34は絶縁体、36は集電器である。
The 12th article shows an example of a current collector type detector, and in the figure, 32 is a grounded metal cylinder, 34 is an insulator, and 36 is a current collector.

集電器36には放射性物質が内蔵され、そこからα線が
放出されている。そのため、金属円筒内は空気が電離し
て正負のイオン対が形成されている。これらのイオンは
自然の状態では再結合および拡散によって消滅し、平衡
状態を保っているが、電界があると、熱運動による空気
分子との衝突を繰り返しながら統計的には電界の方向に
進み、電荷を運ぶ役割を果たす。
The current collector 36 has a built-in radioactive substance, from which alpha rays are emitted. Therefore, the air inside the metal cylinder is ionized to form positive and negative ion pairs. In their natural state, these ions disappear through recombination and diffusion and maintain an equilibrium state, but in the presence of an electric field, they statistically move in the direction of the electric field while repeatedly colliding with air molecules due to thermal motion. It plays a role in transporting electric charges.

即ち、イオンのため空気が導電化されて、集電器36も
含めたその周りの物体の間には等価的な電気抵抗路が存
在するとみなすことでできる。
That is, the air becomes conductive due to the ions, and it can be considered that an equivalent electrical resistance path exists between the surrounding objects including the current collector 36.

従って、電荷保持媒体3の帯電面と接地金属円筒32、
帯電体と集電器36、および集電器36と接地金属円筒
32の間の抵抗をそれぞれRo、R,、R,とすると、
帯電体の電位をvlとすると、集電器36の電位v2は
、定常状態では、Vi −Rz V+ / (R1+R
1)となる。その結果、集電器36の電位を読み取るこ
とによって電荷保持媒体3の電位を求めることができる
Therefore, the charged surface of the charge holding medium 3 and the grounded metal cylinder 32,
Letting the resistances between the charged body and the current collector 36 and between the current collector 36 and the grounded metal cylinder 32 be Ro, R, ,R, respectively,
When the potential of the charged body is vl, the potential v2 of the current collector 36 is Vi −Rz V+ / (R1+R
1). As a result, the potential of the charge retention medium 3 can be determined by reading the potential of the current collector 36.

第13図は電子ビーム型の電位読取装置の例を示す図で
、37は電子銃、38は電子ビーム、39は第1ダイノ
ード、40は2次電子増倍部である。
FIG. 13 is a diagram showing an example of an electron beam type potential reading device, in which 37 is an electron gun, 38 is an electron beam, 39 is a first dynode, and 40 is a secondary electron multiplier.

電子銃37から出た電子を図示しない静電偏向あるいは
は電磁偏向装置により偏向して帯電面を走査する。走査
電子ビ〒ムのうちの一部は、帯電面の電荷と結合して充
電電流が流れ、その分帯電面の電位は平衡電位に下がる
。残りの変調された電子ビームは電子鳩37の方向に戻
り、第1ダイノード39に衝突し、その2次電子が2次
電子増倍部40で増幅されその陽極から信号出力として
取り出される。この戻りの電子ビームとして反射電子あ
るいは2次電子を使用する。
Electrons emitted from the electron gun 37 are deflected by an electrostatic deflection device or an electromagnetic deflection device (not shown) to scan the charged surface. A portion of the scanning electron beam combines with the charge on the charged surface, causing a charging current to flow, and the potential on the charged surface decreases to the equilibrium potential by that amount. The remaining modulated electron beam returns to the direction of the electron pigeon 37 and collides with the first dynode 39, and its secondary electrons are amplified by the secondary electron multiplier 40 and taken out from the anode as a signal output. Reflected electrons or secondary electrons are used as the returning electron beam.

電子ビーム型の場合には、走査後は媒体上には均一な電
荷が形成されるが、走査時に潜像に対応する電流が検出
される。潜像がマイナス電荷の場合は、電荷が多い部分
(露光部)ではエレクトロンによる蓄積電荷が少なく、
充電電流が小さいが、例えば電荷が存在しない部分では
最大の充電電流が流れる。プラス電荷の場合はこの逆で
ネガ型となる。
In the case of the electron beam type, a uniform charge is formed on the medium after scanning, but a current corresponding to a latent image is detected during scanning. If the latent image has a negative charge, there is less charge accumulated by electrons in the area with more charge (exposed area),
Although the charging current is small, for example, the maximum charging current flows in a portion where no charge exists. In the case of a positive charge, the opposite is true; it becomes a negative type.

第14図は電位読み取り方法の他の例を示す図であり、
静電潜像が形成された電荷保持媒体3をトナー現像し、
着色した面を光ビームにより照射してスキャニングし、
その反射光を光電変換器41で電気信号に変換するもの
であり、光ビーム径を小さくすることにより高分解能を
達成することができ、また光学的に簡便に静電電位の検
出を行うことができる。
FIG. 14 is a diagram showing another example of the potential reading method,
The charge holding medium 3 on which the electrostatic latent image is formed is developed with toner,
The colored surface is irradiated with a light beam and scanned,
The reflected light is converted into an electrical signal by a photoelectric converter 41. By reducing the diameter of the light beam, high resolution can be achieved, and electrostatic potential can be easily detected optically. can.

第15図は電位読み取り方法の他の例を示す図であり、
後述するような微細カラーフィルターにより形成したR
、 G、 B分解像をトナー現像し、着色した面を光ビ
ームにより照射し、その反射光によりY、M、C信号を
得る場合の例を示している。図中、43は走査信号発生
器、45はレーザー、47は反射鏡、49はハーフミラ
−151は光T1変換器、53.55.57はゲート回
路である。
FIG. 15 is a diagram showing another example of the potential reading method,
R formed by a fine color filter as described later
, G, and B separated images are developed with toner, the colored surface is irradiated with a light beam, and Y, M, and C signals are obtained from the reflected light. In the figure, 43 is a scanning signal generator, 45 is a laser, 47 is a reflecting mirror, 49 is a half mirror, 151 is an optical T1 converter, and 53, 55, and 57 are gate circuits.

走査信号発生器43からの走査信号でレーザー45から
のレーザー光を、反射鏡47、ハーフミラ−49を介し
て着色面に当てて走査する0着色面からの反射光をハー
フミラ−49を介して光電変換器51に入射させて電気
信号に変換するや走査信号発生器43からの信号に同期
してゲート回路53.55.57を開閉制御Bすれば、
微細フィルタのパターンに同期してゲート回路53.5
5.57が開閉制御されるので、Y、M、Cに着色して
おかなくてもY、M、Cの信号を得ることができる。
A laser beam from a laser 45 is scanned by applying a scanning signal from a scanning signal generator 43 to a colored surface via a reflecting mirror 47 and a half mirror 49. The reflected light from the colored surface is photoelectrically transmitted via a half mirror 49. Once the signal is input to the converter 51 and converted into an electric signal, the gate circuits 53, 55, and 57 are controlled to open and close in synchronization with the signal from the scanning signal generator 43.
Gate circuit 53.5 in synchronization with the fine filter pattern
Since the opening/closing of 5.57 is controlled, Y, M, and C signals can be obtained without coloring Y, M, and C.

なお、カラー像が後述するように3面分割したものの場
合も、全く同様にY、M、Cの信号を得ることができ、
この場合もY、M、Cに着色しておかなくてもよいこと
は同様である。
Note that even if the color image is divided into three planes as described later, Y, M, and C signals can be obtained in exactly the same way.
In this case as well, Y, M, and C do not need to be colored.

第14図、第15図に示した静電電位検出法においては
、トナー像が静電潜像の帯電量に対応したγ特性を有し
ていることが必要で、そのため帯t[のアナログ的変化
に対してしきい値を持たないようにする必要がある。対
応さえとれていればγ特性が一致していなくても電気的
な処理によってγの補正を行うようにすればよい。
In the electrostatic potential detection method shown in FIGS. 14 and 15, it is necessary that the toner image has a γ characteristic corresponding to the amount of charge of the electrostatic latent image. It is necessary to avoid having thresholds for change. As long as the correspondence is established, even if the γ characteristics do not match, γ can be corrected by electrical processing.

第16図は本発明の静電画像再生方法の概略構成を示す
図で、図中、61は電位読み取り装置、63は増幅器、
65はCRT、67はプリンタである。
FIG. 16 is a diagram showing a schematic configuration of the electrostatic image reproducing method of the present invention, in which 61 is a potential reading device, 63 is an amplifier,
65 is a CRT, and 67 is a printer.

図において、電位読み取り装置61で電荷電位を検出し
、検出出力を増幅器63で増幅してCRT65で表示し
、またプリンタ67でプリントアウトすることができる
。この場合、任意の時に、読み取りたい部位を任意に選
択して出力させることができ、また反復再生することが
可能である。
In the figure, a potential reading device 61 detects the charge potential, and an amplifier 63 amplifies the detected output, which can be displayed on a CRT 65 and printed out using a printer 67. In this case, it is possible to arbitrarily select and output the part to be read at any time, and it is also possible to reproduce it repeatedly.

また静電潜像が電気信号として得られるので、必要に応
じて他の記録媒体への記録等に利用することも可能であ
る。
Furthermore, since the electrostatic latent image is obtained as an electrical signal, it can also be used for recording on other recording media, etc., if necessary.

次にカラー画像を形成するために使用するカラーフィル
タについて説明する。
Next, a color filter used to form a color image will be explained.

第17図はプリズムによる色分解光学系を示す図で、図
中、71.73.75はプリズムブロック、77.79
.81はフィルタ、83.85は反射鏡である。
Figure 17 is a diagram showing a color separation optical system using a prism. In the figure, 71.73.75 is a prism block, 77.79
.. 81 is a filter, and 83.85 is a reflecting mirror.

色分解光学系は3つのプリズムブロックからなり、プリ
ズムブロック71のa面から入射した光情報は、5面に
おいて一部が分離反射され、さらにa面で反射されてフ
ィルタ77からB色光成分が取り出される。残りの光情
報はプリズムブロック73に入射し、C面まで進んで一
部が分離反射され、他は直進してそれぞれフィルタ79
.81からG色光成分、R色光成分が取り出される。そ
して、G、B色光成分を、反射鏡83.85で反射させ
ることにより、R,G、B光を平行光として取り出すこ
とができる。
The color separation optical system consists of three prism blocks, and a part of the light information incident on the a-plane of the prism block 71 is separated and reflected on the five surfaces, further reflected on the a-plane, and the B color light component is extracted from the filter 77. It will be done. The remaining optical information enters the prism block 73, travels to the C plane, where some of it is separated and reflected, and the rest goes straight to the filters 79.
.. A G color light component and an R color light component are extracted from 81. Then, by reflecting the G and B color light components with the reflecting mirrors 83.85, the R, G, and B light can be extracted as parallel light.

このようなフィルタ91を、第18図に示すように感光
体1の前面に配置して撮影することにより、第18図(
ロ)のようにR,G、B分解した電荷保持媒体3セツト
で1コマを形成するか、また第18図(ハ)に示すよう
に1平面上にR,G。
By placing such a filter 91 in front of the photoreceptor 1 as shown in FIG.
Either three sets of charge holding media separated into R, G, and B form one frame as shown in (b), or R, G are separated on one plane as shown in FIG. 18 (c).

B像として並べて1セントで1コマとすることもできる
They can also be lined up as B images and made into one frame for 1 cent.

第19図は微細カラーフィルタの例を示す図で、例えば
、レジストをコーティングしたフィルムをマスクパター
ンで露光してR,G、Bストライブパターンを形成し、
それぞれR,G、B染色することにより形成する方法、
または第17図のような方法で色分解した光を、それぞ
れ細いスリットに通すことにより生じるR、G、Bの干
渉縞をホログラム記録媒体に記録させることにより形成
する方法、または光導電体にマスクを密着させて露晃し
、静電潜像によるR、G、Bストライブパターンを形成
し、これをトナー現像して3回転写することによりカラ
ー合成してトナーのストライブを形成する方法等により
形成する。このような方法で形成されたフィルタのR,
G、Bl&Ilで1画素を形成し、1画素を10μm程
度の微細なものにする。このフィルタを第18図のフィ
ルタ91として使用することによりカラー静電潜像を形
成することができる。この場合、フィルタは感光体と離
して配置しても、あるいは感光体と一体に形成するよう
にしてもよい。
FIG. 19 is a diagram showing an example of a fine color filter. For example, a film coated with resist is exposed with a mask pattern to form an R, G, B stripe pattern,
A method of forming by staining each with R, G, and B,
Alternatively, a method in which R, G, and B interference fringes are formed by passing color-separated light as shown in Figure 17 through narrow slits, respectively, is recorded on a hologram recording medium, or a mask is formed on a photoconductor. A method in which R, G, and B stripe patterns are formed using electrostatic latent images, which are then developed with toner and transferred three times to combine colors and form toner stripes. Formed by R of the filter formed by such a method,
One pixel is formed by G, Bl & Il, and each pixel is made into a fine piece of about 10 μm. By using this filter as filter 91 in FIG. 18, a color electrostatic latent image can be formed. In this case, the filter may be placed separately from the photoreceptor or may be formed integrally with the photoreceptor.

第20図は微細カラーフィルタとフレネルレンズを組み
合わせた例を示す回で、フレネルレンズによってR,G
、Bパターンを縮小して記録することができ、また通常
のレンズに比べて薄くコンパクトなレンズ設計が可能と
なる。
Figure 20 shows an example of a combination of a fine color filter and a Fresnel lens.
, B patterns can be reduced and recorded, and the lens can be designed to be thinner and more compact than a normal lens.

第21図はND (Neutral  DensIty
)フィルタとR,C,、Bフィルターを併用した3面分
割の例を示す図で、入射光をNDフィルター81.83
及び反射ミラー85で3分割し、それぞれRフィルター
87、Gフィルター89、Bフィルター91を通すこと
により、R,、G、B光を平行光として取り出すこりが
できる。
Figure 21 shows ND (Neutral Density).
) filter and R, C, and B filters together. This is a diagram showing an example of three-sided division using a combination of filters and R, C, and B filters.
The R, G, and B lights can be extracted as parallel lights by dividing the light into three by a reflecting mirror 85 and passing them through an R filter 87, a G filter 89, and a B filter 91, respectively.

〔作用〕[Effect]

本発明の静電画像記録再生方法は、電荷保持媒体上に面
状にアナログ量又はディジタル量として静電潜像を形成
し、その電荷電位を読み取ることにより静電潜像に対応
した電気信号を出力させ、CRT表示、或いはプリンタ
によりプリントアウトすることにより、高品質、高解像
であると共に、処理工程が簡便で、長時間の記憶が可能
であり、記憶した像情報を目的に応じた画質で、任意に
反復再生することができる。
The electrostatic image recording and reproducing method of the present invention forms an electrostatic latent image as an analog quantity or a digital quantity on a charge holding medium, and reads the charge potential to generate an electric signal corresponding to the electrostatic latent image. By outputting the image information, displaying it on a CRT, or printing it out using a printer, it is possible to achieve high quality and high resolution, as well as a simple processing process and long-term storage. It can be played repeatedly at will.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例を説明する。 Examples will be described below.

〔実施例1〕・・・電荷保持媒体の作製方法メチルフェ
ニルシリコン樹脂10g、キシレン−ブタノールl:1
溶媒10gの組成を有する混合液に、硬化剤(金属触媒
):商品名 CR−15をIM量%(0,2g)加えて
よく攪拌し、Alを1000人蒸着1たガラス基板上に
ドクターブレード4ミルを用いてコーティングを行った
[Example 1]...Production method of charge retention medium 10 g of methylphenyl silicone resin, 1 xylene-butanol: 1
A curing agent (metallic catalyst): CR-15 (trade name) was added in an amount of IM (0.2 g) to a mixed solution containing 10 g of solvent, and the mixture was thoroughly stirred. Coating was done using 4 mil.

その後150°C11hrの乾燥を行ない、膜厚10μ
mの電荷保持媒体(a)を得た。
After that, it was dried at 150°C for 11 hours, and the film thickness was 10μ.
A charge retention medium (a) of m was obtained.

また上記混合液を、Affiを1000人蒸着1た10
0μmポリエステルフィルム上に同様の方法でコーディ
ングし、次いで乾燥し、フィルム状の電荷保持媒体(b
)を得た。
In addition, the above mixed solution was evaporated by 1000 people using Affi.
Coated in a similar manner onto a 0 μm polyester film, then dried and coated with a film-like charge retention medium (b
) was obtained.

また上記混合液を、Afを1000人蒸着1た4インチ
ディスク形状アクリル(1■W、)11上にスピンナー
2000rpmでコーディングし、50°C,3hr乾
燥させ、膜厚7μmのディスク状電荷保持媒体(C)を
得た。
Further, the above mixed solution was coated on a 1/4-inch disk-shaped acrylic (1■W) 11 coated with Af by 1000 people using a spinner at 2000 rpm, dried at 50°C for 3 hours, and a disk-shaped charge retention medium with a film thickness of 7 μm was coated. (C) was obtained.

また上記混合液に、更にステアリン酸亜鉛を011g添
加し、同様のコーティング、乾燥を行い、10μmの膜
厚を有する電荷保持媒体(d)を得た。
Furthermore, 0.11 g of zinc stearate was added to the above mixed solution, and the same coating and drying were performed to obtain a charge retention medium (d) having a film thickness of 10 μm.

〔実施例2〕 ポリイミド樹脂Log、N−メチルピロリドンLogの
組成を有する混合液を、A2を1000人蒸着1たガラ
ス基板上にスピンナーコーティング(1000rpm、
20秒)した、溶媒を乾燥させるため150°Cで30
分間、前乾燥を行った後、硬化させるため350°C1
2時間加熱した。
[Example 2] A mixed solution having a composition of polyimide resin Log and N-methylpyrrolidone Log was spinner coated (1000 rpm,
20 s) and 30 s at 150 °C to dry the solvent.
After pre-drying for 1 minute, 350°C1 for curing.
Heated for 2 hours.

膜厚8μmを有する均一な被膜が形成された。A uniform film with a film thickness of 8 μm was formed.

〈実施例A〉 ロジンエステル樹脂(ステベライトエステル10)10
gをn−ブチルアルコール90gに溶解した溶液を用い
て、A1.を1000人蒸着1たガラス基板上にスピン
ナーコーティング(1000rpm、、30秒)した。
<Example A> Rosin ester resin (stevelite ester 10) 10
A1.g was dissolved in 90g of n-butyl alcohol. A spinner coating (1000 rpm, 30 seconds) was applied onto a glass substrate that had been evaporated by 1000 people.

溶媒を乾燥させるため、60℃でlhr放置した結果、
膜厚2μmを有する均一な皮膜が形成された。
As a result of leaving it for 1 hour at 60°C to dry the solvent,
A uniform film with a film thickness of 2 μm was formed.

この媒体に、蒸着法でアモルファスセレンを以下の条件
で積層した。
Amorphous selenium was laminated on this medium by vapor deposition under the following conditions.

まず、真空チャンバー内の基板ホルダーにガラス面をホ
ルダーに接触する形で媒体を固定する。
First, a medium is fixed to a substrate holder in a vacuum chamber with the glass surface in contact with the holder.

この、基板ホルダーは加熱(ヒーター)ができ、蒸着時
に基板媒体を100°Cに加熱する。蒸着は通常の抵抗
加熱法であるが、真空度を0 、  I Torrの低
真空状態でセレンを蒸着した。この結果、セレンが微粒
子の形で、ロジンエステル…脂層中に形成され、その粒
子径は平均で0.5μm程度のものである、電荷保持媒
体が得られた。
This substrate holder is capable of heating and heats the substrate medium to 100° C. during deposition. Vapor deposition was carried out using a conventional resistance heating method, and selenium was vapor-deposited in a low vacuum state of 0 degree of vacuum and I Torr. As a result, a charge retention medium was obtained in which selenium was formed in the form of fine particles in the rosin ester oil layer, and the particle size was about 0.5 μm on average.

〔実施例3〕・・・単層系有機感光体(PVに−TNF
 )作製方法 ポリ−N−ビニルカルバゾール10 g (亜南香料(
株)製L2,4.7−)リニトロフルオレノン10g、
ポリエステル樹脂2g(バインダー:バイロン200東
洋紡(株)製)、テトラハイドロフラン(THF)90
gの組成を有する混合液を暗所で作製し、In□(h−
SnOlを約1000人の膜厚でスパッターしたガラス
基板(1ms厚)に、ドクターブレードを用いて塗布し
、60°Cで約1時間通風乾燥し、!1約10μmの光
導電層を有する感光層を得た。又完全に乾燥を行うため
に、更に1日自然乾燥を行って用いた。
[Example 3]...Single layer organic photoreceptor (PV - TNF
) Preparation method Poly-N-vinylcarbazole 10 g (Anan Fragrance (
Co., Ltd. L2,4.7-)linitrofluorenone 10g,
2 g of polyester resin (binder: Byron 200 manufactured by Toyobo Co., Ltd.), 90% tetrahydrofuran (THF)
A mixed solution having a composition of g was prepared in a dark place, and In□(h-
Sputtered SnOl to a thickness of approximately 1000 nm onto a glass substrate (1 ms thick) using a doctor blade, and dried with ventilation at 60°C for approximately 1 hour. A photosensitive layer having a photoconductive layer of about 10 μm was obtained. In addition, in order to completely dry the sample, it was further air-dried for one day before use.

(X施例4)・・・アモルファスシリコンaSi:H無
機感光体の作製方法 ■基板洗浄 S n Ozの薄膜透明電極層を一方の表面に設けたコ
ーニング社7059ガラス(23x、16x0゜9t、
光学研磨済)をトリクロロエタン、アセトン、エタノー
ル各液中、この1順番に各々10分ずつ超音波洗浄する
(Example 4)...Production method of amorphous silicon aSi:H inorganic photoreceptor ■Substrate cleaning Corning 7059 glass (23x, 16x0°9t, with a thin film transparent electrode layer of S n Oz on one surface)
(optically polished) was ultrasonically cleaned in trichloroethane, acetone, and ethanol in this order for 10 minutes each.

■装置の準備 洗浄の済んだ基板を第22図の反応室104内のアノー
ド106上に熱伝導が十分であるようにセットした後、
反応室内を10−’Torr台までり。
■ Preparation of the device After setting the cleaned substrate on the anode 106 in the reaction chamber 104 in FIG. 22 to ensure sufficient heat conduction,
The temperature inside the reaction chamber was increased to 10-' Torr.

Pにより真空引きし、反応容器およびガス管の焼出しを
1506C〜350°Cで約1時間行い、焼出し後装置
を冷却する。
The reaction vessel and gas pipe are baked out at 1506° C. to 350° C. for about 1 hour, and the apparatus is cooled after baking out.

■a−3i:H(n”)の堆積 ガラス基板が350”Cになるようにヒーターを108
調整、加熱し、予めタンク101内で混合しておいたP
 Hs / S i Ha ”=1000ppmのガス
をニードルバルブとPMBの回転数を制御することによ
って反応室104の内圧が200−Torrになるよう
に流し内圧が一定になった後、Matching Bo
x 103を通じて、40WのRf Power 10
2 (13,56KHz)を投入し、カソード・アノー
ド間にプラズマを形成する。堆積は4分間行い、Rfの
投入を止め、ニードルバルブを閉じる。
■a-3i: H(n”) deposition
P that has been adjusted, heated, and mixed in the tank 101 in advance
Hs/S i Ha'' = 1000 ppm gas was flowed into the reaction chamber 104 so that the internal pressure became 200-Torr by controlling the rotation speed of the needle valve and PMB, and after the internal pressure became constant, the Matching Bo
40W Rf Power 10 through x 103
2 (13,56 KHz) to form plasma between the cathode and anode. Deposition is carried out for 4 minutes, then the input of Rf is stopped and the needle valve is closed.

その結果、ブロッキング層を構成する約0. 2μmの
a−3i:H(n’)膜が基板上に堆積された。
As a result, approximately 0.0. A 2 μm a-3i:H(n') film was deposited on the substrate.

■a−3t:Hの堆積 5jHslOO%ガスを■と同じ方法で内圧が200I
ITorrになるように流し、内圧が一定になったとこ
ろで、Matching Box 103を通じて40
WのRfPower 102 C13,56KHz>を
投入し、プラズマを形成して70分間維持する。堆積終
了はRfの投入を止め、ニードルバルブを閉じる。He
ater 10804f後、基板が冷えているがら取り
出す。
■a-3t: Deposition of H 5jHslOO% gas in the same way as ■ until the internal pressure is 200I
When the internal pressure becomes constant, the pressure is increased to 40°C through the Matching Box 103.
RfPower 102 C13, 56 KHz> of W was input to form a plasma and maintain it for 70 minutes. When the deposition is completed, the input of Rf is stopped and the needle valve is closed. He
After ater 10804f, take out the board while it is still cold.

この結果、約18.8μmの膜がa−si:H(no)
膜上に堆積された。
As a result, a film of approximately 18.8 μm was formed using a-si:H(no)
deposited on the membrane.

こうして5nOt /a−3i :H(n” )ブロッ
キングffj/a−3i :H(nor+−dope)
20μmの感光体を作製することができた。
Thus 5nOt /a-3i :H(n'') blockingffj/a-3i :H(nor+-dope)
A 20 μm photoreceptor could be manufactured.

〔実施例5〕・・・アモルファスセレン−テルル無機感
光体の作製方法。
[Example 5] Method for producing an amorphous selenium-tellurium inorganic photoreceptor.

セレン(Se)に対しテルル(Te)が13重量%の割
合で混合された金属粒を用い、蒸着法によりa−Se−
Te FJI膜を真空度10−’Torr、抵抗加熱法
で■TOガラス基板上に蒸着した。W!、厚はIpmと
した。さらに真空度を維持した状態で、同じく抵抗加熱
法でSeのみの蒸着を行いa −3e−Te層上に10
μm a−5e層を積層した。
A-Se-
A Te FJI film was deposited on a TO glass substrate at a vacuum degree of 10-' Torr using a resistance heating method. W! , and the thickness was Ipm. Furthermore, while maintaining the degree of vacuum, only Se was evaporated using the same resistance heating method, and 10
μm a-5e layers were laminated.

〔実施例6〕・・・機能分離型感光体の作製方法(電荷
発生層の形成方法) クロロジアンブルー0.4g、ジクロルエタン40gの
組成を有する混合液を250ml!容積のステンレス容
器に入れ、更にガラスピーズNo3.180mjl!を
加え、振動ミル(安用電機製作所KED9−4)により
、約4時間の粉砕を行い粒径〜5μmのクロロシアンブ
ルーを得る。ガラスピーズを濾過後、ポリカーボネート
、ニーピロンE−2000(三菱ガス化学)を0.4g
加え約4時間攪拌する。この溶液をIn、O,−Sn島
を約1000人スパッターしたガラス基板(1mm厚)
にドクターブレードを用いて塗布し、膜厚約1μmの電
荷発生層を得た。乾燥は室温で1日行った。
[Example 6] Method for producing a functionally separated photoreceptor (method for forming a charge generation layer) 250 ml of a mixed solution containing 0.4 g of chlorodiane blue and 40 g of dichloroethane! Put it in a stainless steel container with a volume of 180 mjl and glass beads No. 3! was added and pulverized for about 4 hours using a vibrating mill (Yasuyo Denki Seisakusho KED9-4) to obtain chlorocyan blue with a particle size of ~5 μm. After filtering the glass peas, add 0.4g of polycarbonate, Kneepilon E-2000 (Mitsubishi Gas Chemical)
Add and stir for about 4 hours. A glass substrate (1 mm thick) on which about 1000 In, O, -Sn islands were sputtered with this solution.
The charge generation layer was coated using a doctor blade to obtain a charge generation layer with a thickness of about 1 μm. Drying was carried out at room temperature for one day.

〔電荷輸送層の形成方法〕[Method for forming charge transport layer]

4−ジベンジルアミノ−2−メチルベンズアルデヒド−
1,1′−ジフェニルヒドラゾン0.1g。
4-Dibenzylamino-2-methylbenzaldehyde-
0.1 g of 1,1'-diphenylhydrazone.

ポリカーボネート(ニーピロンB−2000) 0 、
 1 g 。
Polycarbonate (Kneepilon B-2000) 0,
1 g.

ジクロルエタン2.0gの組成を有する混合液をドクタ
ーブレードにて、上記電荷発生層上に塗布し、約10μ
mの電荷輸送層を得た。乾燥は60℃で2時間行った。
A mixed solution having a composition of 2.0 g of dichloroethane was applied onto the charge generation layer using a doctor blade to form a layer of about 10 μm.
A charge transport layer of m was obtained. Drying was performed at 60°C for 2 hours.

〔実施例7〕 (電荷発生層の形成方法) 酢酸ブチルlogにブチラール樹脂(積木化学、5LE
C)0.25g、下記の構造式を有するアズレニウムC
ZO,塩、 0.5g、ガラ、スビーズN01133gとを混合し、
タッチミキサーで1日間撹拌し、よく分散させものをド
クターブレード、またはアプリケーターでガラス板上に
積層したITO上に塗布し、60°C12時間以上乾燥
させた。乾燥後の膜厚は1μm以下。
[Example 7] (Formation method of charge generation layer) Butyral resin (Building Chemical, 5LE) was added to butyl acetate log.
C) 0.25g, azulenium C having the following structural formula
Mix ZO, salt, 0.5g, Gara, Subies N01133g,
The mixture was stirred with a touch mixer for 1 day to be well dispersed, and then applied with a doctor blade or applicator onto ITO laminated on a glass plate, and dried at 60°C for 12 hours or more. The film thickness after drying is 1 μm or less.

(電荷輸送層の形成方法) テトラヒドロフラン9.5gにポリカーボネート(三菱
ガス化学、ニーピロンE2000)0゜5gと下記の構
造式で示されるヒドラゾン誘導体(阿南香料、CTC1
91) 0.5gとを混合し、ドクターブレードで上記電荷発生
層上に塗布し、60°C,2時間以上乾燥させた。膜厚
10μm以下であった。
(Method for forming a charge transport layer) 9.5 g of tetrahydrofuran, 0.5 g of polycarbonate (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., Nipiron E2000) and a hydrazone derivative represented by the following structural formula (Anan Perfume Co., Ltd., CTC1).
91) and was applied onto the charge generation layer using a doctor blade, followed by drying at 60°C for 2 hours or more. The film thickness was 10 μm or less.

〔実施例8〕 (電荷発生層の形成方法) テトラヒドロフラン20gにブチラール樹脂(積木化学
、5LEC)0.5g、チタニルフタロシアニン0.2
5g、4.10−ジブロモアンスアンスロン0.25g
、ガラスピーズN091を33g1タツチミキサーで1
日間撹拌し、よく分散させものをドクターブレード、ま
たはアプリケーターでガラス板上に積層したITO上に
塗布し、60℃、2時間以上乾燥させた。乾燥後の被膜
は、膜厚1am以下であった。
[Example 8] (Method for forming a charge generation layer) 20 g of tetrahydrofuran, 0.5 g of butyral resin (5LEC, manufactured by Block Chemical), and 0.2 g of titanyl phthalocyanine.
5g, 4.10-dibromoanthrone 0.25g
, Glass Peas N091 33g 1 with 1 touch mixer
The mixture was stirred for several days to be well dispersed, and then applied using a doctor blade or an applicator onto ITO laminated on a glass plate, and dried at 60° C. for 2 hours or more. The film after drying had a film thickness of 1 am or less.

(電荷輸送層の作製方法) ジクロロエタン9.5gに、ポリカーボネート(三菱ガ
ス化学、ニーピロンE2000)0.5g、上記ヒドラ
ゾン誘導体(阿南香料、CTCI91)0.5gを溶解
し、ドクターブレードで、上記電荷発生層上に塗布、6
0’C12時間以上乾燥させた。膜厚は10μm以上で
あった。
(Preparation method of charge transport layer) Dissolve 0.5 g of polycarbonate (Mitsubishi Gas Chemical, Nipiron E2000) and 0.5 g of the above hydrazone derivative (Anan Perfume, CTCI91) in 9.5 g of dichloroethane, and use a doctor blade to generate the above charge. Apply on layer, 6
It was dried for 12 hours or more at 0'C. The film thickness was 10 μm or more.

〔実施例9〕・・・電荷注入防止層を設けた機能分離型
感光体の作製方法 (電荷注入防止層の形成方法) ガラス板上に積層したITO上に可溶性ポリアミド(東
亜合成化学、FS−175SV10)をスピンコーター
により0.5〜1μm塗布、60°C12時間以上乾燥
させた。
[Example 9]... Method for producing a functionally separated photoreceptor provided with a charge injection prevention layer (method for forming a charge injection prevention layer) Soluble polyamide (Toagosei Kagaku, FS- 175SV10) was applied to a thickness of 0.5 to 1 μm using a spin coater and dried at 60° C. for 12 hours or more.

(電荷発生層の形成方法) 酢酸ブチル10gにブチラール樹脂(積木化学、5LE
C)0.25g、前記したアズレニウムC20、塩0.
5g、ガラスピーズN01133gとを混合し、タッチ
ミキサーで1日間撹拌し、よく分散させものをドクター
ブレード、またはアプリケーターで上記電荷注入防止層
上に塗布し、60°C12時間以上乾燥させた。乾燥後
の被膜は、膜厚1μm以下であった。
(Method for forming charge generation layer) Add butyral resin (Building Chemical, 5LE) to 10 g of butyl acetate.
C) 0.25g, azulenium C20 as described above, salt 0.
5 g and 133 g of Glass Peas N01 were mixed, stirred for 1 day with a touch mixer, well dispersed, applied on the charge injection prevention layer using a doctor blade or applicator, and dried at 60° C. for 12 hours or more. The film after drying had a thickness of 1 μm or less.

(電荷輸送層の形成方法) テトラヒドロフラン9.5gにポリカーボネート(三菱
ガス化学、ニーピロンE2000)0゜5gと前記した
ヒドラゾン誘導体(阿南香料、CTC191)0.5g
とを熔解させ、ドクターブレードで上記電荷発生層上に
塗布し、60°C,2時間以上乾燥させた。膜厚10μ
m以下であった。
(Method for forming a charge transport layer) 9.5 g of tetrahydrofuran, 0.5 g of polycarbonate (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., Nipiron E2000), and 0.5 g of the above-mentioned hydrazone derivative (CTC191, manufactured by Anan Kaori Co., Ltd.)
The mixture was melted and applied onto the charge generation layer using a doctor blade, and dried at 60°C for 2 hours or more. Film thickness 10μ
m or less.

〔実施例10] (電荷注入防止層の形成方法) ガラス板上に積層したITO上に可溶性ポリアミド(東
亜合成化学、FS−175SV10)をスピンコーター
により0.5〜1μm塗布、60°C22時間以上乾燥
させた。
[Example 10] (Method for forming charge injection prevention layer) Apply 0.5 to 1 μm of soluble polyamide (Toagosei Kagaku, FS-175SV10) on ITO layered on a glass plate using a spin coater, and heat at 60°C for 22 hours or more. Dry.

(電荷発生層の形成方法) テトラヒドロフラン20gにブチラール樹脂(積木化学
、5LEC)0.5g、チタニルフタロシアニン0.2
5g、4.10−ジブロモアンスアンスロン0.25g
、ガラスピーズN001を33g1タツチミキサーで1
日間撹拌し、よく分散させものをドクターブレード、ま
たはアプリケーターで上記電荷注入防止層上に塗布し1
.60°C12時間以上乾燥させた。乾燥後の被膜は、
膜厚1μm以下であった。
(Method for forming a charge generation layer) 20 g of tetrahydrofuran, 0.5 g of butyral resin (5LEC, manufactured by Building Blocks Chemical), and 0.2 g of titanyl phthalocyanine.
5g, 4.10-dibromoanthrone 0.25g
, Glass Peas N001 33g 1 with 1 touch mixer
Stir for several days, disperse well, and apply the mixture onto the charge injection prevention layer using a doctor blade or applicator.
.. It was dried at 60°C for 12 hours or more. The film after drying is
The film thickness was 1 μm or less.

(電荷輸送層の形成方法) 溶媒であるジクロロエタン9.5gに、ポリカーボネー
ト(三菱ガス化学、ニーピロンE2000)0.5g、
前記ヒドラゾン誘導体(阿南香料、CTC19L)0.
5gを溶解し、ドクターブレードで、上記電荷発生層上
に塗布、60°C12時間以上乾燥させた。膜厚は10
μm以上であった。
(Method for forming a charge transport layer) 0.5 g of polycarbonate (Mitsubishi Gas Chemical, Nipiron E2000) was added to 9.5 g of dichloroethane as a solvent.
The hydrazone derivative (Anan Kaori, CTC19L) 0.
5 g was dissolved and applied onto the charge generation layer using a doctor blade, and dried at 60°C for 12 hours or more. Film thickness is 10
It was more than μm.

〔実施例11〕 (感光体電極層の形成方法) 青板ガラス上に、酸化インジウム錫(ITO。[Example 11] (Method for forming photoreceptor electrode layer) Indium tin oxide (ITO) on blue plate glass.

比抵抗100Ω・cm”)をスパッタリング法により蒸
着させた。
A film with a specific resistance of 100 Ω·cm” was deposited by sputtering.

また、EB法により同様に蒸着させることができる。Further, it can be similarly deposited by the EB method.

(電荷注入防止層の形成方法) 上記感光体電極層上に、二酸化珪素をスパッタリング法
により蒸着させた。
(Method for Forming Charge Injection Prevention Layer) Silicon dioxide was deposited on the photoreceptor electrode layer by sputtering.

膜厚は100〜3000人とすことができ、また二酸化
珪素の代わりに酸化アルミニウムを使用してもよく、ま
たスパッタリング法の代わりにEB法により同様に蒸着
させることができる。
The film thickness can be from 100 to 3,000, and aluminum oxide may be used instead of silicon dioxide, and the EB method can be used instead of the sputtering method.

(電荷発生層の形成方法) 上記電荷注入防止層上に、セレン−テルル(テルル含有
M13重量%)を抵抗加熱により蒸着させた。膜厚は2
μm以下である。
(Method for Forming Charge Generating Layer) Selenium-tellurium (13% by weight of tellurium-containing M) was deposited on the charge injection prevention layer by resistance heating. The film thickness is 2
It is less than μm.

(電荷輸送層の形成方法) 上記電荷発生層上に粒状セレンを使用し、抵抗加熱法に
より蒸着させた。膜厚は10μm以下である。
(Method for Forming Charge Transport Layer) Granular selenium was used on the charge generation layer and deposited by resistance heating. The film thickness is 10 μm or less.

〔実施例12〕・・・熱エレクトレットの作製方法ポリ
弗化ビニリデンフィルム20μm上に真空蒸着(10−
”Torr、抵抗加熱法)によりAj!を1000人蒸
着したものを電荷保持媒体とし、機能分離型感光体の光
導電性感光体と共に静電潜像を形成する。
[Example 12]...Production method of thermal electret Vacuum deposition (10-
1000 Aj! was deposited by ``Torr'' (resistance heating method) as a charge holding medium, and an electrostatic latent image was formed together with the photoconductive photoreceptor of the functionally separated photoreceptor.

まず電荷保持媒体のAi、基板側からホットブレート(
3X3cm)を接触させ、180°Cに媒体を加熱する
。加熱直後に感光体を電荷保持媒体に10tImの空気
ギャップで表面同志を対向させ、貴重極間に一550v
の電圧を印加(感光体電極を負とする)し、露光させた
。露光はハロゲンランプを光源として、1.0ルツクス
で、文字パターン原稿を介して感光体裏面から1秒間行
った。
First, charge holding medium Ai is hot-bladed from the substrate side (
3×3 cm) and heat the medium to 180°C. Immediately after heating, the photoreceptor was placed in a charge holding medium with its surfaces facing each other with an air gap of 10tIm, and a voltage of -550V was applied between the precious electrodes.
A voltage of 200 nm was applied (with the photoreceptor electrode being negative), and exposure was performed. Exposure was carried out at 1.0 lux using a halogen lamp as a light source for 1 second from the back surface of the photoreceptor through the character pattern document.

この後フィルムを自然冷却した結果、露光部(文字部)
には、−150Vの電位が測定され、未露光部には電位
が測定されなかった。この帯電パターンの形成されたフ
ィルム上に水滴を滴下し、回収した後、電位測定を行っ
た結果、前と変わらず、露光部では一150■の電位が
測定された。
After this, the film was naturally cooled, and as a result, the exposed areas (characters)
A potential of -150 V was measured in the area, and no potential was measured in the unexposed area. Water droplets were dropped onto the film on which the charged pattern was formed, and after being collected, the potential was measured. As a result, a potential of -150 cm was measured in the exposed area, which was the same as before.

一方間様の電荷保持媒体に強制的にコロナ放電で表面に
一150vの電荷を形成した後、水滴を滴下し、回収し
たところ、最初−150■を示した露光部がOVと全←
電荷が消失した。従って加熱下での電荷形成はポリ弗化
ビニリデンの内部で分極が生じ、エレクトレット化して
いることがわかった。
On the other hand, after forcibly forming a charge of -150V on the surface of a charge-retaining medium by corona discharge, water droplets were dropped and collected.
The charge disappeared. Therefore, it was found that charge formation under heating causes polarization inside polyvinylidene fluoride, resulting in electret formation.

〔実施例13〕・・・光エレクトレットの作製方法1.
1mm1lのガラス支持体上にAlを、約1000人ス
パッタリング法により積層して基板とし、その1層上に
硫化亜鉛を約1.5μmの膜厚に蒸着(10−’Tor
r、抵抗加熱)させた、この硫化亜鉛層面に、ガラス上
に積層したITO面を空気ギャップ10μm設けて対向
させ、両電極間に+700vの電圧を印加(A/41に
極側を負にする)した状態で、ITO基板側から露光を
行った。
[Example 13] Method for producing photoelectret 1.
Al was laminated on a 1 mm 1 liter glass support by about 1,000 sputtering method to form a substrate, and zinc sulfide was evaporated on one layer to a thickness of about 1.5 μm (10-'Tor).
r, resistance heating), the ITO layer laminated on glass was faced with an air gap of 10 μm, and a voltage of +700 V was applied between both electrodes (with the polar side negative at A/41). ), exposure was performed from the ITO substrate side.

露光は実施例11と同様にして行った。その結果露光部
には+80Vの電位が測定され、未露光部には電位が測
定されなかった。この場合も実施例11と同様な水滴実
験を行ったが、回収後の電位の変化はなく、内部に電荷
の蓄積されたエレクトレットが形成された。
Exposure was performed in the same manner as in Example 11. As a result, a potential of +80 V was measured in the exposed area, and no potential was measured in the unexposed area. In this case as well, a water droplet experiment similar to that in Example 11 was conducted, but there was no change in the potential after recovery, and an electret with charge accumulated inside was formed.

〔実施例14) 実施例3の単層系有機感光体(PVK −TNF )、
実施例1(a)の電荷保持媒体、及びガラス基板を使用
し、これを電極側を外側にして重ねてカメラにセットす
る。その際に感光体lと電荷保持媒体3間に空隙を設け
るため、第23図に示すように10μmのポリエステル
フィルムをスペーサー2として露光面以外の周囲に配置
する。
[Example 14] Single layer organic photoreceptor (PVK-TNF) of Example 3,
Using the charge retention medium of Example 1(a) and the glass substrate, these are stacked with the electrode side facing outward and set in a camera. At this time, in order to provide a gap between the photoreceptor 1 and the charge holding medium 3, a 10 μm polyester film is placed around the area other than the exposed surface as a spacer 2, as shown in FIG.

感光体電極側を負、電荷保持媒体側を正にして電圧を7
00v印加し、その状態で露出f−1゜4、シャッタ−
スピード1/60秒で光学シャッターを切るか、あるい
は露出f−1,4、シャッター開放状態で1760秒電
圧印加を行い、屋外昼間の被写体撮影を行った。
Set the voltage to 7 with the photoreceptor electrode side negative and the charge holding medium side positive.
00V applied, exposure f-1°4, shutter in that state.
The subject was photographed outdoors in the daytime by either turning off the optical shutter at a speed of 1/60 seconds or by applying voltage for 1760 seconds at exposure f-1,4 with the shutter open.

露光OFF、電圧印加OFF後、電荷保持媒体を明るい
所、あるいは暗いで所で取り出し、■微小面積電位読取
り法によるCRT画像形成、■トナー現像による画像形
成を行った。
After turning off the exposure and the voltage application, the charge holding medium was taken out in a bright or dark place, and 1) CRT image formation was performed using a micro-area potential reading method, and 2) image formation was performed using toner development.

■では、100X100μmの微小面積表面電位測定プ
ローブをX−Y軸スキャニングを行い、100μm単位
の電位データを処理し、CRT上に電位−輝度変換によ
り画像形成を行った。電荷保持媒体上には最高露光部電
位200Vから未露光部Ovまでのアナログ電位潜像が
形成されており、その潜像をCRT上で100μmの解
像度で顕像化することができた。
In (2), X-Y axis scanning was performed using a 100×100 μm micro-area surface potential measuring probe, potential data in units of 100 μm was processed, and an image was formed on a CRT by potential-luminance conversion. An analog potential latent image was formed on the charge holding medium from the maximum exposed area potential of 200 V to the unexposed area Ov, and this latent image could be visualized on a CRT with a resolution of 100 μm.

■では、取り出した電荷保持媒体を負に帯電した湿式ト
ナー(黒)に10秒浸漬することによりポジ像が得られ
た。得られたトナー像の解像度は1μmの高解像度であ
った。
In (2), a positive image was obtained by immersing the removed charge holding medium in negatively charged liquid toner (black) for 10 seconds. The resolution of the obtained toner image was as high as 1 μm.

カラー画像の撮影は以下の方法で行った。Color images were taken using the following method.

■プリズム型3面分割法 第17図に示すようにプリズムの3面上にR2O,Bフ
ィルターを配置し、それぞれの面に上記媒体をセットし
、f−1,4、シャッタ−スピード1/30秒で被写体
撮影を行った。
■ Prism type three-plane division method As shown in Figure 17, place R2O and B filters on the three sides of the prism, set the above medium on each side, set f-1, 4, and shutter speed 1/30. The subject was photographed in seconds.

■カラーCRT表示法 R,G、Bm像各々を同様の方法でスキャニングして読
み取り、R,G、B潜像に対応した螢光発色をCRT上
で形成し、3色分解画像をCRT上で合成することによ
りカラー画像を得た。
■Color CRT display method Each R, G, and Bm image is scanned and read using the same method, and fluorescent colors corresponding to the R, G, and B latent images are formed on the CRT, and a three-color separated image is created on the CRT. A color image was obtained by combining the images.

■トナー現像法 分解露光した電荷保持媒体をR,G、B潜像に対して負
に帯電したC(シアン)、M(マゼンダ)、Y(イエロ
ー)トナーで各々現像し、トナー像を形成する。トナー
が乾燥する前にシアントナー像を形成した媒体上に普通
紙を重ね、紙上に正のコロナ帯電を行い、その後、剥離
を行うと、普通紙にトナー像が転写された。さらに、同
様の方法で画像の位置を一致させて、同一箇所にマゼン
ダトナー、イエロートナーを順次転写合成すると、普通
紙上にカラー画像が形成された。
■Toner development method The exposed charge-retaining medium is developed with C (cyan), M (magenta), and Y (yellow) toners that are negatively charged with respect to the R, G, and B latent images, respectively, to form toner images. . Before the toner dried, plain paper was placed on the medium on which the cyan toner image was formed, the paper was positively charged with corona, and then peeled off, and the toner image was transferred to the plain paper. Furthermore, when magenta toner and yellow toner were sequentially transferred and synthesized to the same location by aligning the image positions using the same method, a color image was formed on plain paper.

(発明の効果〕 以上のように本1発明によれば、アナログ的に面状に記
録材に静電潜像として記録しておき、任意の時点で静電
潜像の局部電位を任意の走査密度で読み出し出力するこ
とができるので、恰も銀塩写真を撮影し、適当なときに
その写真を光学走査して再出力する如く、高画質の原画
と任意時点での出力を行うことができる記録再生方法が
得られる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the first invention, an electrostatic latent image is recorded on a recording material in an analog manner, and the local potential of the electrostatic latent image is scanned at an arbitrary time point. Since it can be read out and output at high density, it is like taking a silver halide photograph, optically scanning that photograph at an appropriate time, and re-outputting it, making it possible to output a high-quality original image at any time. A reproduction method is obtained.

また、直接電位検出する場合には現像手段のような物理
的、または化学的手段を必要としないので、安価で簡便
な記録再生システムをつくることができる。
Further, in the case of direct potential detection, no physical or chemical means such as a developing means is required, so that an inexpensive and simple recording/reproducing system can be created.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の静電画像記録再生方法の原理を説明す
るための図、第2図は光エレクトレットを用いた本発明
の静電画像記録再生方法の原理を説明するための図、第
3図は熱エレクトレットを用いた本発明の静電画像記録
再生方法の原理を説明するための図、第4図、第5図、
第6図は直流増幅型の電位読み取り方法の例を示す図、
第7図、第8図、第9図は交流増幅型の電位読み取り方
法の例を示す図、第10@、第11図はCTススキャン
法よる電位読み取り方法の例を示す図、第12図は集電
型の電位読み取り方法の例を示す図、第13図は電子ビ
ーム型の電位読み取り方法の例を示す図、第14図、第
15図はトナー着色を利用した電位読み取り方法を説明
するための図、第16図は本発明の静電画像再生の概略
構成を示す図、第17図は色分解光学系の構成を示す図
、第18図はカラー静電潜像を形成する場合の説明図、
第19図は微細カラーフィルタの例を示す図、第20図
は微細カラーフィルタとフレネルレンズを組み合わせた
例を示す図、第21図はNDフィルタとRlG、、、B
フィルタの併用による3面分割を示す図、第22図はa
−3t:H感光体の作製方法を説明するための図、第2
3図は本発明を適用した静電カメラによる盪影の実施例
を説明するための図である。 1・・・感光体、3・・・電荷保持媒体、5・・・透明
支持体、7・・・透明電極、9・・・光導電層、11・
・・絶縁層、13・・・電極、15・・・支持体、17
・・・電源、21・−・電位読ろ取り部、23・・・検
出電極、25・・・ガードを極、27・・・コンデンサ
。 出  願  人  大日本印刷株式会社代理人 弁理士
  蛭 川 昌 信(外4名)第1図 (ハ) (ニ) 第4図 第5図      第6図 : トド 第8図 2ム 第1o図 第11図 第12図 第13図 第16図 第−17図 第18図 第19図 第20図 第21図 第23区
FIG. 1 is a diagram for explaining the principle of the electrostatic image recording and reproducing method of the present invention, and FIG. 2 is a diagram for explaining the principle of the electrostatic image recording and reproducing method of the present invention using a photoelectret. Figure 3 is a diagram for explaining the principle of the electrostatic image recording and reproducing method of the present invention using a thermal electret, Figures 4, 5,
Figure 6 is a diagram showing an example of a DC amplification type potential reading method;
Figures 7, 8, and 9 are diagrams showing an example of an AC amplification type potential reading method, Figures 10@ and 11 are diagrams showing an example of a potential reading method using the CT scan method, and Figure 12. 13 is a diagram showing an example of a current collecting type potential reading method, FIG. 13 is a diagram showing an example of an electron beam type potential reading method, and FIGS. 14 and 15 explain a potential reading method using toner coloring. 16 is a diagram showing a schematic configuration for electrostatic image reproduction according to the present invention, FIG. 17 is a diagram showing a configuration of a color separation optical system, and FIG. 18 is a diagram showing a configuration for forming a color electrostatic latent image. Explanatory diagram,
Figure 19 is a diagram showing an example of a fine color filter, Figure 20 is a diagram showing an example of a combination of a fine color filter and a Fresnel lens, and Figure 21 is a diagram showing an example of a combination of a fine color filter and a Fresnel lens.
Figure 22 is a diagram showing three-sided division using a filter.
-3t: Diagram for explaining the method for manufacturing the H photoconductor, 2nd
FIG. 3 is a diagram for explaining an example of imaging by an electrostatic camera to which the present invention is applied. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Photoreceptor, 3... Charge retention medium, 5... Transparent support, 7... Transparent electrode, 9... Photoconductive layer, 11...
...Insulating layer, 13...Electrode, 15...Support, 17
...Power source, 21... Potential reading/filtering section, 23... Detection electrode, 25... Guard pole, 27... Capacitor. Applicant Dai Nippon Printing Co., Ltd. Agent Patent Attorney Masanobu Hirukawa (4 others) Figure 1 (C) (D) Figure 4 Figure 5 Figure 6: Todo Figure 8 2m Figure 1o Figure 11 Figure 12 Figure 13 Figure 16 Figure - 17 Figure 18 Figure 19 Figure 20 Figure 21 Figure 23 Section

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)前面に電極が設けられた光導電層からなる感光体
と、感光体に対向し、後面に電極が設けられた絶縁層か
らなる電荷保持媒体を配置し、両電極間への電圧印加し
た状態で感光体側あるいは電荷保持媒体側から像露光し
た後、電荷保持媒体を分離し、電荷保持媒体に像情報と
して蓄積されている電荷電位を増幅して像再生出力する
ことを特徴とする静電画像記録再生方法。
(1) A photoconductor made of a photoconductive layer with an electrode on the front surface and a charge retention medium made of an insulating layer with an electrode on the back surface facing the photoconductor are arranged, and a voltage is applied between both electrodes. After image exposure is performed from the photoreceptor side or the charge holding medium side in a state in which the charge holding medium is held, the charge holding medium is separated, and the charge potential stored in the charge holding medium as image information is amplified and an image is reproduced and output. Electrical image recording and reproducing method.
(2)前記感光体と電荷保持媒体とは接触、または非接
触である請求項1記載の静電画像記録再生方法。
(2) The electrostatic image recording and reproducing method according to claim 1, wherein the photoreceptor and the charge holding medium are in contact or non-contact.
(3)電荷電位の読取りは、電荷保持媒体に検出電極を
対向させ、検出電極に誘起した電荷により生じた電位を
検出する請求項1記載の静電画像記録再生方法。
(3) The electrostatic image recording and reproducing method according to claim 1, wherein the charge potential is read by placing a detection electrode facing the charge holding medium and detecting the potential generated by the charge induced in the detection electrode.
(4)検出電極の周囲にガード電極を設けた請求項1記
載の静電画像記録再生方法。
(4) The electrostatic image recording and reproducing method according to claim 1, wherein a guard electrode is provided around the detection electrode.
(5)検出電極とガード電極の表面に絶縁膜を設けた請
求項1記載の静電画像記録再生方法。
(5) The electrostatic image recording and reproducing method according to claim 1, wherein an insulating film is provided on the surfaces of the detection electrode and the guard electrode.
(6)検出電極が細長い棒状電極からなり、電荷保持媒
体面上を操作してCT法により電位分布を求める請求項
1記載の静電画像記録再生方法。
(6) The electrostatic image recording and reproducing method according to claim 1, wherein the detection electrode is an elongated rod-shaped electrode, and the potential distribution is determined by a CT method by operating on the surface of the charge-retaining medium.
(7)検出電極を電荷保持媒体に接触あるいは非接触で
走査し、蓄積電荷を取り出しながら電位または電流値で
検出する請求項1記載の静電画像記録再生方法。
(7) The electrostatic image recording and reproducing method according to claim 1, wherein the detection electrode is scanned with or without contact with the charge holding medium, and the accumulated charge is detected as a potential or current value while being extracted.
(8)電荷電位の読み取りは、電荷保持媒体をトナー現
像し、光ビームを照射してその反射光を光電変換して行
う請求項1記載の静電画像記録再生方法。
(8) The electrostatic image recording and reproducing method according to claim 1, wherein the charge potential is read by developing the charge holding medium with toner, irradiating it with a light beam, and photoelectrically converting the reflected light.
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