JPH01288381A - 蒸気洗浄装置 - Google Patents
蒸気洗浄装置Info
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- JPH01288381A JPH01288381A JP11614288A JP11614288A JPH01288381A JP H01288381 A JPH01288381 A JP H01288381A JP 11614288 A JP11614288 A JP 11614288A JP 11614288 A JP11614288 A JP 11614288A JP H01288381 A JPH01288381 A JP H01288381A
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- solvent
- liquid level
- amount
- tank
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- Pending
Links
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、蒸気洗浄装置、特に、シリコンウェハー、マ
スクガラス、光デイスク用ガラス原盤等の精密洗浄分野
において用いられる溶剤の蒸気を利用した蒸気洗浄装置
に関する。
スクガラス、光デイスク用ガラス原盤等の精密洗浄分野
において用いられる溶剤の蒸気を利用した蒸気洗浄装置
に関する。
従来の蒸気洗浄装置の例について、図面を参照して説明
する。
する。
第２図は従来の蒸気洗浄装置の一例を示す断面図である
。
。
第２図に示す蒸気洗浄装置は、溶剤２の加熱には温度側
−がしやすくまた接触面積が多くて熱効率が良いことな
どの点から、外槽４に溶剤２よりも沸点の高い液体５を
用いた間接加熱が行なわれる。
−がしやすくまた接触面積が多くて熱効率が良いことな
どの点から、外槽４に溶剤２よりも沸点の高い液体５を
用いた間接加熱が行なわれる。
溶剤槽１に収容された溶剤２をヒータ３で加熱された外
槽４中の液体５で間接的に加熱することにより、溶剤２
は沸点に達し、溶剤槽１の中に溶剤２の蒸気が充満して
溶剤蒸気相６が形成される。
槽４中の液体５で間接的に加熱することにより、溶剤２
は沸点に達し、溶剤槽１の中に溶剤２の蒸気が充満して
溶剤蒸気相６が形成される。
またその発生した蒸気は溶剤槽ｌの上部に配設された冷
却管７に凝集して外部への拡散が防止されており、凝集
液は溶剤槽ｌの水分離器８を経て再び溶剤槽１に供給さ
れる。
却管７に凝集して外部への拡散が防止されており、凝集
液は溶剤槽ｌの水分離器８を経て再び溶剤槽１に供給さ
れる。
この溶剤蒸気相６中にキャリア９に保持された蒸気温度
よりも低い洗浄物１０が挿入されると温度差によって洗
浄物１００表面上に蒸気が凝集し、表面に付着している
汚れを溶解または分散して下部に配設された受皿１１に
流下する。
よりも低い洗浄物１０が挿入されると温度差によって洗
浄物１００表面上に蒸気が凝集し、表面に付着している
汚れを溶解または分散して下部に配設された受皿１１に
流下する。
こうして洗浄物１０が溶剤蒸気温度に達つした時点で溶
剤蒸気の凝縮は起こらなくなり、洗浄が終了する」 例えば、容積あるいは比熱の大きな洗浄物を洗浄する場
合それらに合わせて溶剤の蒸発量を増加させるために外
槽の液体の温度を上げようとするとこのとき相対的な溶
剤の供給量が減少することになる。この相対供給量の減
少に比例して溶剤蒸気の上昇速度が大きくなり、最高許
容蒸気速度を越えると溶剤の小滴が蒸気とともに上方に
運ばれるという現象が起こり、洗浄物表面に付着するこ
とにより洗浄品質の低下を招くことになる。
剤蒸気の凝縮は起こらなくなり、洗浄が終了する」 例えば、容積あるいは比熱の大きな洗浄物を洗浄する場
合それらに合わせて溶剤の蒸発量を増加させるために外
槽の液体の温度を上げようとするとこのとき相対的な溶
剤の供給量が減少することになる。この相対供給量の減
少に比例して溶剤蒸気の上昇速度が大きくなり、最高許
容蒸気速度を越えると溶剤の小滴が蒸気とともに上方に
運ばれるという現象が起こり、洗浄物表面に付着するこ
とにより洗浄品質の低下を招くことになる。
しかしながら、このような上述した従来の蒸気洗浄装置
は溶剤の蒸発量を測定する機能を有していないため、溶
剤加熱温度または溶剤の種類等を変えて洗浄を行なう場
合、蒸発量の変化に合わせて供給量を適正に調整しない
と洗浄品質の低下を招くという欠点がある。
は溶剤の蒸発量を測定する機能を有していないため、溶
剤加熱温度または溶剤の種類等を変えて洗浄を行なう場
合、蒸発量の変化に合わせて供給量を適正に調整しない
と洗浄品質の低下を招くという欠点がある。
本発明の蒸気洗浄装置は、溶剤の液面の変位を検知する
液面センサーと、液面センサーからの出力により単位時
間当りの蒸発量を算出するデータ演算部と、算出された
蒸発量に相当する溶剤量を供給するための流量制御部と
を含んで構成される。
液面センサーと、液面センサーからの出力により単位時
間当りの蒸発量を算出するデータ演算部と、算出された
蒸発量に相当する溶剤量を供給するための流量制御部と
を含んで構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図である。
第１図に示す蒸気洗浄装置は、溶剤２を収容する溶剤槽
１と、前記溶剤２の液面の変位を検出するための液面セ
ンサー１３ａ、１３ｂと、前記冷却部１４と算出された
前記蒸発量に応じた溶剤量を補充するための流量制御部
５とを含んで構成される。
１と、前記溶剤２の液面の変位を検出するための液面セ
ンサー１３ａ、１３ｂと、前記冷却部１４と算出された
前記蒸発量に応じた溶剤量を補充するための流量制御部
５とを含んで構成される。
この蒸気洗浄装置は、溶剤槽１に収容された溶剤２をヒ
ータ３で加熱された外槽４中の液体５の間接加熱により
、溶剤層１中に溶剤蒸気相６が形成される。
ータ３で加熱された外槽４中の液体５の間接加熱により
、溶剤層１中に溶剤蒸気相６が形成される。
洗浄物１０が溶剤槽１の中に挿入される前に溶剤２の供
給を一旦停止させることにより、溶剤２の液面が徐々に
低下し、初めに液面センサー１３ａが、次いで液面セン
サー１３ｂが動作する。予め入力されている液面センサ
ー１３ａ、１３ｂ間の溶剤量と両者の液面センサー１３
ａ、１３ｂが動作する間の時間から単位時間当りの蒸発
量がデータ演算部１４にて算出され、この蒸発量に相当
する量の溶剤２を供給するよう流量制御部１５へ出力さ
れる。
給を一旦停止させることにより、溶剤２の液面が徐々に
低下し、初めに液面センサー１３ａが、次いで液面セン
サー１３ｂが動作する。予め入力されている液面センサ
ー１３ａ、１３ｂ間の溶剤量と両者の液面センサー１３
ａ、１３ｂが動作する間の時間から単位時間当りの蒸発
量がデータ演算部１４にて算出され、この蒸発量に相当
する量の溶剤２を供給するよう流量制御部１５へ出力さ
れる。
第３図は第１図および第２図に示す蒸気洗浄装置の洗浄
結果を比較するグラフで、実際に溶剤槽１に収容する溶
剤２としてフロンを、外槽２の液体５として純水を用い
て光デイスク用ガラス原盤を洗浄したときの洗浄品質に
ついて比較したもので、洗浄曲線Ｂは従来の蒸気洗浄装
置によるもの、洗浄曲線Ａは本発明の蒸気洗浄装置によ
るものであり、その差は図示したとおり歴然としている
。
結果を比較するグラフで、実際に溶剤槽１に収容する溶
剤２としてフロンを、外槽２の液体５として純水を用い
て光デイスク用ガラス原盤を洗浄したときの洗浄品質に
ついて比較したもので、洗浄曲線Ｂは従来の蒸気洗浄装
置によるもの、洗浄曲線Ａは本発明の蒸気洗浄装置によ
るものであり、その差は図示したとおり歴然としている
。
なお、縦軸は洗浄直後のガラス原盤なＨｅ−Ｎｅレーザ
を用いた欠陥自動検査装置で測定した欠陥の数であり、
横軸は溶剤槽のフロンを間接的に加熱するための外槽の
純水の温度である。
を用いた欠陥自動検査装置で測定した欠陥の数であり、
横軸は溶剤槽のフロンを間接的に加熱するための外槽の
純水の温度である。
従来の蒸気洗浄装置ではフロン供給量が一定であるため
、外槽の純水温度を上げていくとフロンの小滴がガラス
原盤表面に付着し、それが欠陥として検出されている。
、外槽の純水温度を上げていくとフロンの小滴がガラス
原盤表面に付着し、それが欠陥として検出されている。
本発明の蒸気洗浄装置では、外槽の純水温度を上げてフ
ロン蒸発量が多くなってもそれに合わせてフロン供給量
を増加させているため安定なフロンの蒸発が起こり良好
な洗浄結果が得られた。
ロン蒸発量が多くなってもそれに合わせてフロン供給量
を増加させているため安定なフロンの蒸発が起こり良好
な洗浄結果が得られた。
本発明の蒸気洗浄装置は、予め単位時間当りの溶剤蒸発
量を測定し、それに相当した量の溶剤を供給する機能を
有することにより、溶剤加熱温度または溶剤種類等を変
えても安定な洗浄を行なうことができ、良好な洗浄結果
が得られるという効果がある。
量を測定し、それに相当した量の溶剤を供給する機能を
有することにより、溶剤加熱温度または溶剤種類等を変
えても安定な洗浄を行なうことができ、良好な洗浄結果
が得られるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は従来
の一例を示す断面図、第３図は第１図および第２図に示
す蒸気洗浄装置の洗浄結果を比較するグラフである。 ・・・冷却管、８・・・・・・水分離器、９・・・・・
・キャリア、１０・・・・・・洗浄物、１１・・・・・
・受皿、１２・・・・・・蒸気ライン、１３ａ、１３ｂ
・・・・・・液面センサー、１４・・・・・・データ演
算部、１５・・・・・・流量制御部、Ａ、Ｂ・・・・・
・洗浄曲線。
の一例を示す断面図、第３図は第１図および第２図に示
す蒸気洗浄装置の洗浄結果を比較するグラフである。 ・・・冷却管、８・・・・・・水分離器、９・・・・・
・キャリア、１０・・・・・・洗浄物、１１・・・・・
・受皿、１２・・・・・・蒸気ライン、１３ａ、１３ｂ
・・・・・・液面センサー、１４・・・・・・データ演
算部、１５・・・・・・流量制御部、Ａ、Ｂ・・・・・
・洗浄曲線。
Claims (1)
- 溶剤を収容するための溶剤槽と、前記溶剤の液面の変位
を検知するための液面センサーと、前記液面センサーか
らの出力により単位時間当りの蒸発量を算出するデータ
演算部と、前記算出された蒸発量に相当する溶剤量を供
給する流量制御部とを含むことを特徴とする蒸気洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11614288A JPH01288381A (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 蒸気洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11614288A JPH01288381A (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 蒸気洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01288381A true JPH01288381A (ja) | 1989-11-20 |
Family
ID=14679787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11614288A Pending JPH01288381A (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 蒸気洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01288381A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100419416B1 (ko) * | 2001-11-21 | 2004-02-19 | 삼성전자주식회사 | 변형 화학기상 증착 공정의 원료물질 제어장치 |
| JP2015206100A (ja) * | 2014-04-23 | 2015-11-19 | 高砂工業株式会社 | 真空洗浄機 |
-
1988
- 1988-05-12 JP JP11614288A patent/JPH01288381A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100419416B1 (ko) * | 2001-11-21 | 2004-02-19 | 삼성전자주식회사 | 변형 화학기상 증착 공정의 원료물질 제어장치 |
| JP2015206100A (ja) * | 2014-04-23 | 2015-11-19 | 高砂工業株式会社 | 真空洗浄機 |
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