JPH01287602A - 光ディスク駆動装置 - Google Patents

光ディスク駆動装置

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JPH01287602A
JPH01287602A JP63117143A JP11714388A JPH01287602A JP H01287602 A JPH01287602 A JP H01287602A JP 63117143 A JP63117143 A JP 63117143A JP 11714388 A JP11714388 A JP 11714388A JP H01287602 A JPH01287602 A JP H01287602A
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optical waveguide
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顕知 伊藤
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和民 川本
Heikichi Tanei
平吉 種井
Yasuo Hiyoshi
日良 康夫
Hidemi Sato
秀己 佐藤
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は集光グレーティングカップラを備えた光素子と
それを用いた光集積ヘッド及び光ディスク駆動装置に係
り、特に光収差低減のパラメータを緩和するに好適な構
造の光素子とその応用装置に関する。
〔従来の技術〕
回折格子を利用して、光導波路から外部に光を取り出し
かつ集光する従来の集光グレーティングカップラについ
ては、例えば電子情報通信学会技術報告○QE86−8
4 (1986)の第15頁から第22頁において、そ
の収差特性が詳細に論じられている。
そのカップラの構造は第3図のようになっている。
すなわち、グレーティングカップラ37は半導体又は誘
導体又はガラスの光学基板31上に形成された導波層3
2上しこ、不等間隔曲線形状の回折格子33を形成し、
これを用いて、導波光34を導波路上部空間へ射出せし
めかつ集束させるものである。
更に、前記集光グレーティングカップラにバルクの対物
レンズ36を組合せたハイブリッド型の集光グレーティ
ングカップラについては、テクニカル・ダイジェスト・
オブ・ファースト・マイクロオプティクス・コンファレ
ンスの第202頁から第205頁、1987年(Tec
hnical Digest of 1stMicro
optics  Conference、  Page
  202 NN205(19?))において、その収
差特性が論じられている。その構造は第4図のように、
第3図で示した不等間隔回折格子33から成る集光グレ
ーティングカップラ37と対物レンズ36を組合せたも
のである。
なお、第5図は、第3図の集光グレーティングカップラ
37を用いた光ディスク駆動装置に使用する光集積ピッ
クアップ(光ヘッド)の具体的構造を示したものである
。図において、31はSi基板、31aはバッファ層、
32は導波層、33は不等間隔曲線形状回折格子、33
aはグレーテイング層、34は導波光、34aは光ディ
スク35の記録情報ピット35aからの戻り反射光、3
6は集光対物レンズ、37は集光グレーティングカップ
ラ、38は戻り反射光を分割するグレーティングビーム
スプリッタ、39はレーザ光源(半導体レーザ)、40
は受光素子(ホトダイオードから成る受光器)をそれぞ
れ示す。
上記集光グレーティングカップラ37は、不等間隔曲線
形状の回折格子から構成され、回折格子33の間隔を光
の進行方向に行くに従って狭くすることにより導波路上
部空間に射出できるようになっている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、上記従来の技術では以下に述べるような二つの
技術課題があった。
その第1の課題は、従来の集光グレーティングカップラ
においては、前述のごとく不等間隔の曲線形状回折格子
により導波光を導波路上部空間に射出する構成となって
いるが、上部空間に射出する光量は導波路に入射したレ
ーザ光の約1/2で。
残りの導波光は大半が基板内に漏れ有効に活用されてい
ない。同様の理由で、光ディスクの記録・再生ピットか
ら反射される光情報も、同じような光路をたどることと
なり、集光グレーティングカップラに入射した光量め何
割かは基板内に漏れ、再び導波路に戻る光量はかなり少
なくなってしまう。この基板内に漏れる導波光を有効に
活用する方法も試みられているが未だ十分なものは報告
されていない。
次に第2の課題は、光の収差を低減させるため各光学系
のパラメータを如何にして緩和させることができるかと
いうことである。これは集光グレーティングカップラの
構造に係わることであり、その構成を基本的に見直す必
要がある6例えば第4図についてみると、光ディスクピ
ックアップの対物レンズ36の収差については以下のよ
うな制限がある。■。を無収差のときの光ディスクのピ
ット(焦点)35aにおける光強度、Φ^(P)を焦点
35を集束点とする球面波と実際の波面のある点Pにお
ける位相のずれとすると、焦点付近の点Qにおける規格
化光強度i (Q)は次式で定義される。
1(Q) =  l f I exp(iΦ^(P)〕
ds l ”  −−(1)工。
ただし、面積分dsはレンズの開口面上で行う。収差が
小さいときは、(1)式のexpを展開し1、= I 
f f ds l”       −(2)であること
を考慮する、3、i (Q)は次式となる。
1(Q)=1−4π2・ΔΦP2      ・・・・
・・・・・(3)ただし 実用上十分な対物レンズを得るには、i (Q)の値を
0.8以上としなければならないとされている(マレシ
ャルの条件)。そのためにはΔΦPをほぼ0.07以下
とするように波面収差の発生を抑制する必要がある。
一方、光ディスクのように高密度に記録された情報を読
み出す場合、焦点における光のスポットサイズを小さく
するためNA(レンズの直径/焦点距離)を0.45以
上にする必要がある。
ところが、前記電気情報通信学会技術報告OQE 86
−84で論じられている第3図のような集光グレーティ
ングカップラの場合、NAを0.45とするとき、レー
ザの波長ずれΔλ、導波光の実効屈折率のずれΔn、レ
ーザ光の光軸からのずれδを、それぞれ以下のようにし
なければならない。
以下余白 しかしながら1例えば通常の波長λ=0.78(77+
11)の半導体レーザを光源として使用する場合、Δλ
として0.5%程度を考えなければならず、前記条件は
極めて厳しい。δの上限値も極めて小さな値であり、こ
れを満足する位置合せを行うことは極めて難しい。
また、前記テクニカル・ダイジェスト・オブ・ファース
ト・マイクロオプティクス・コンファレンスで論じられ
ている第4図のようなハイブリッド型集光グレーティン
グカップラの場合、NAを0.447としたとき、Δλ
、Δn、δの上限値はそれぞれ、 となり、対物レンズを使用しない場合より大幅に改善さ
れるものの、Δλ、δに関してはなお実用化レベルには
達しない。
このように、僅かな構造パラメータのずれが大きな収差
を生じせしめる原因は、集光グレーティングカップラ3
7が、光軸に関して回転対称となっていないためである
。前記電気情報通信学会OQE 86−84で論じられ
ているように、集光グレーティングカップラ37の波面
収差関数Φ^(P)は次式%式% ただしx、yは第3図上に示した平面座標系によるもの
とする。(7)の各項のうちx、yについて最低次であ
る2次の項は、不等間隔曲線形状の回折格子を用いる集
光グレーティングカップラに特有のものであリバルクの
光軸に関して回転対称なレンズには存在しない。これは
光学系が光軸に対して回転対称でないことから生じるも
ので、決して除去できず、また最も大きな値を持つため
、集光グレーティングカップラが大きな収差を持つ原因
となっている。
本発明の目的は、上記二つの課題を解決することにあり
、その第1の目的は各パラメータの許容精度の制限値を
大きく緩和せしめ、改良された実用化可能な集光グレー
ティングカップラを備えた光素子を提供することにあり
、第2の目的はこの光素子を用いた光柴積ヘッドを、そ
して第3の目的はこの光集積ヘッドを備えた光ディスク
駆動装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記第1の目的は、(1)光学基板と、その表面に形成
された前記基板より屈折率の高い導波層から成る光導波
路と、前記光導波路からの導波光を前記光導波路外に射
出させ、かつ、光導波路上部空間に集束させる集光グレ
ーティングカップラとから成る光素子であって、前記集
光グレーティングカップラが、前記光導波路の表面に、
この表面と所定の射出角度θをもって前記導波光を前記
基板内へ射出せしめるように形成された等間隔直線状の
回折格子と、この射出光を前記基板の端面で前記光導波
路表面に垂直な方向に全反射させる基板端面と、前記全
反射光を前記基板の上部空間に集束せしめるレンズ手段
とから成ることを特徴とする集光グレーティングカップ
ラを備えた光素子により。
また、(2)上記導波光の射出角度θが大板の屈折率、
を満足すると共に、上記導波光を基板端面で上記導波路
に垂直な方向に全反射させるよう前記基板端面を前記導
波路面から前記射出角度θと同一の角度で傾斜せしめた
反射面としたことを特徴とする集光グレーティングカッ
プラを備えた光素子により、 さらにまた、(3)上記全反射光を上記基板の上部空間
に集束せしめるレンズ手段として、上記光導波路上に透
過型フレネルレンズを配設したことを特徴とする集光グ
レーティングカップラを備えた光素子により達成される
そして、第2の目的は、(1)レーザ光源と、このレー
ザ光源からのレーザビーム光を光学基板上に設けられた
光導波路に導き、更に集光グレーティングカップラによ
り前記光導波路上部空間に配置される光記録媒体の記録
・再生面上に集光する光素子と、前記記録・再生面から
の反射光を前記光導波路上に形成されたビームスプリッ
タを介して受光検出する手段とを有して成る光集積ヘッ
ドであって、前記集光グレーティングカップラを備えた
光素子が、光学基板と、その表面に形成された前記基板
より屈折率の高い導波層から成る光導波路と、前記光導
波路からの導波光を前記光導波路外に射出させ、かつ、
光導波路上部空間に集束させる集光グレーティングカッ
プラとから成る光素子であって、前記集光グレーティン
グカップラが、前記光導波路の表面に、この表面と所定
の射出角度θをもって前記導波光を前記基板内へ射出せ
しめるように形成された等間隔直線状の回折格子と、こ
の射出光を前記基板の端面で前記光導波路表面に垂直な
方向に全反射させる基板端面と、前記全反射光を前記基
板の上部空間に集束せしめるレンズ手段とから成ること
を特徴とする光集積ヘッドにより、 また、(2)上記導波光の射出角度θが大板の屈折率、
を満足すると共に、上記導波光を基板端面で上記導波路
に垂直な方向に全反射させるよう前記基板端面を前記導
波路面から前記射出角度θと同一の角度で傾斜せしめた
反射面としたことを特徴とする光集積ヘッドにより、 さらにまた、(3)上記全反射光を上記基板の上部空間
に集束せしめるレンズ手段として、上記光導波路上に透
過型フレネルレンズを配設したことを特徴とする光集積
ヘッドにより達成される。
さらに、本発明の第3の目的は、(1)光ディスクを回
転駆動する回転駆動制御手段と、前記回転する光ディス
ク面と所定間隔をおいて前記光ディスクの半径方向に走
査駆動することにより光情報の記録・再生を行なう光ヘ
ッド及び前記光ヘッドを搭載し走査駆動するアクチュエ
ータと、前記光ヘッドの入出力信号処理手段とを有して
成る光ディスク駆動装置であって、前記光ヘッドがレー
ザ光源と、このレーザ光源からのレーザビーム光を光学
基板上に設けられた光導波路に導き、更に集光グレーテ
ィングカップラにより前記光導波路上部空間に配置され
る光記録媒体の記録・再生面上に集光する光素子と、前
記記録・再生面からの反射光を前記光導波路上に形成さ
れたビームスプリッタを介して受光検出する手段とを有
して成る光集積ヘッドから成り、前記集光グレーティン
グカップラを備えた光素子が光学基板と、その表面に形
成された前記基板より屈折率の高い導波層から成る光導
波路と、前記光導波路からの導波光を前記光導波路外に
射出させ、かつ、光導波路上部空間に集束させる集光グ
レーティングカップラとから成る光素子から成り、前記
集光グレーティングカップラが、前記光導波路の表面に
、この表面と所定の射出角度θをもって前記導波光を前
記基板内へ射出せしめるように形成された等間隔直線状
の回折格子と、この射出光を前記基板の端面で前記光導
波路表面に垂直な方向に全反射させる基板端面と、前記
全反射光を前記基板の上部空間に集束せしめるレンズ手
段とから成ることを特徴とする光ディスク駆動装置によ
り。
また、(2)上記導波光の射出角度θが大板の屈折率、
を満足すると共に、上記導波光を基板端面で上記導波路
に垂直な方向に全反射させるよう前記基板端面を前記導
波路面から前記射出角度θと同一の角度で傾斜せしめた
反射面としたことを特徴とする光ディスク駆動装置によ
り、さらにまた、(3)上記全反射光を上記基板の上部
空間に集束せしめるレンズ手段として、上記光導波路上
に透過型フレネルレンズを配設したことを特徴とする光
ディスク駆動装置により達成される。
以下余白 なお、集光グレーティングカップラにおいて、光導波路
から基板内に導波光を効率よく射出させるに際し、射出
角度θが式 ばならない理由について以下詳述する。
つまり、−1次光のみを基板内に効率よく射出させる必
要がある。いま、基板の屈折率ns、導波光の実効屈折
率をN、回折格子のピッチをAとする。このとき第2図
(a)のように−1次光(光路を矢印で示す)を導波路
32からθをなす角度で基板31内方向へ射出せしめる
条件はただし、λ:使用レーザ光の波長 そして−1次光が光導波路32上部の空気側Aへ射出し
ない条件は、 (8) 、 (9)より、n@Cogθ〉1 八θ(c
osθ−1(−)・・・(10)s 一方、射出光は基板端面で全反射する必要があ求める条
件は式(10)で、かつ式(11)を満足するθである
。これを1/n、関数として図示すると第2図(b)の
ようになる。故に1式(11)が満たされれば式(10
)は満たされるので、求める条件は同図に斜線を施した
領域を示す式(11)また、この導波光の射出角度θは
、導波路の屈折率と導波路に隣接して設けた等間隔の直
線状回折格子のピッチとの関係から一義的に設定される
ものであり、これらのパラメータを所定値に設定するこ
とにより容易に任意の値に設定することができる。
〔作用〕
本発明の導波路に隣接して設けた等間隔の直線状回折格
子は、導波光を導波路から基板内に効率よく射出せしめ
る作用をし、射出角度θはこの回折格子のピッチと導波
路を構成する光学材料の屈折率とを任意に選択すること
により一義的に設定することができる。そして基板内に
入射した導波光は基板端面で全反射し、導波路上部空間
に、しかも導波路面に垂直に出射するよう、この基板端
面が導波路面とθの前記導波光の基板内への射出角度θ
と同一の角度をもって傾斜し、鏡面に研磨されている。
前記基板端面で全反射された導波光は、基板表面に形成
されたレンズ手段、例えばフレネルレンズにより上部空
間の一点(通常は光ディスクの情報記録・再生面上)に
収束される。
一方、光路を上記と逆にたどれば、−点に収束された光
はレンズ手段を介して基板内に入射し、基板端面で全反
射し、θの角度をもって導波路に入射すると共に回折格
子の作用により導波路内を直進する。
〔実施例〕
以下、図面を用いて本発明を具体的に説明する。
実施例1 第1図は本発明の一実施例となる集光グレーティングカ
ップラを示したもので、第1図(,1)は断面図、第1
図(b)は平面図をそれぞれ示す。
図において、11は例えば屈折率2.177のニオブ酸
リチウム(L x N b O、)のごとき光学材料か
ら成る基板、12は基板より屈折率の高い導波層で、こ
の例ではニオブ酸リチウム基板上にチタンを蒸着し、こ
れを熱処理して基板表層にチタンを熱拡散して約1.5
/ffiの導波層を形成した。13は導波層上に形成し
た等間隔の直線状回折格子で、導波路よりも屈折率の大
きい光学材料で形成され、この例では屈折率2.4のチ
タン酸化物(TiO2)膜を導波路上に形成し、リング
ラフィによるパターン形成技術によりピッチ2.59−
の直線状回折格子を光の進行方向に4mmにわたり形成
した。14は導波層12上の回折格子13の前方に設け
られたレンズ手段で、この例では導波層12上に周知の
技術で口径約2m+aの透過型フレネルレンズが形成さ
れた。なお、レンズの口径は導波光の幅に等しいかそれ
より大とする。レンズとしては、その他バルクのレンズ
でもよいが、基板上に集積化しコンパクトな構成とする
上からフレネルレンズが好ましい。15は基板表面と3
0度の角度に切断・研磨された反射面からなる基板端面
であり、この傾斜角は導波光16の射出角度θに等しく
形成されている。17は光の焦点fである。また第1図
(b)に示した導波光16はコリメートされた平行光で
ある。
ここで、回折格子を構成する酸化チタン(TiO2)の
厚み、フレネルレンズの焦点距離f及び口径りについて
さらに詳述すると、光ピツクアップヘッドの対物レンズ
としてフレネルレンズを用いる場合には開口数NA〜0
.5としなければならない、このレンズの実質的な開口
数は、回折格子の開口数で決まる。いま、第1図(b)
に図示のように回折格子のX方向の開口長をLx、y方
向の開口長をり、とする。回折格子による射出光が基板
11表面とθの角をなす方向へ射出させるとき、フレネ
ルレンズ14へ入射する光線束の面積なり、cosθX
L、である0例えば1本実施例のように0230度、f
=2m鳳とすると、Lx=2.30m+a、     
Ly=1.15mB+とする必要がある。このとき、フ
レネルレンズの口径りは全光束をカバーするために である必要がある。
また、回折格子から射出する光の振幅はX軸方向にeX
p (−αX)の依存性をもって射出する。ここでαを
放射損失係数とよぶ。開口数を確保するαの値は、基板
11、導波層12、回折格子13の屈折率と厚みで決ま
る。上記のように、屈折率n5=2.177のL x 
N b O3、導波層12の屈折率N=2.187、回
折格子として屈折率n9=2.4のTiO2を用いたと
き、α〜0.4とするためには、回折格子の厚みを約3
0nmとすればよい。
再び、第1図(a)、(b)に示す構成の集光グレーテ
ィングカップラの説明に戻り、各光学系のパラメータに
ついて検討する。
ここで、光源(この図では省略)のレーザ光の波長をλ
、導波光16の実効屈折率をN、基板11の屈折率をn
6、等間隔直線形状の回折格子13の格子間隔をΔとす
る。回折格子13を用いm次光を基板方向に基板表面と
θの角度の方向へ光を射出するためには、 という条件を満たす必要がある。通常、回折光としては
一1次光を用いる。さらに条件式(6)の他に が満たされれば、導波光は基板方向のみに射出され空気
中へは射出されないので大きな効率が得られる。m=−
1としθ=30(度)のとき式(12)例えば基板11
として屈折率n s ” 2.177のLiNb○、を
用い導波層12をTiの熱拡散で作製しN=2.187
とし、光源としてλ=0.78 (虜)の半導体レーザ
を用いたとすると、Δ= 2 、59 (tm )とな
り、フォトリソグラフィ技術で十分作製可能な値となる
。またこのとき条件式(12)も満足されるので、導波
光は基板方向のみに効率よく射出せしめることが可能で
ある。
回折格子13によって射出せしめられた光の入射方向と
、基板端面の研磨面15の法線方向となす角度をφとす
ると、 n6sinφ〉1    ・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・(15)のとき全反射が起こる
。本件実施例の場合、n5=2.177、φ=30(度
)なので全反射が起こる範囲式(15)に含まれている
次にフレネルレンズ14の焦点距離をfとし、フレネル
レンズの中心を原点として第1図(b)のような座標系
をとる。フレネルレンズの形状式は、2π y(x+ y) =  V四7ワで λ =2m′π (m′:整改 ・・・・・・・・・・・・
(16)で与えられる。このフレネルレンズは光軸に関
し軸対称であるから、収差の最低次数は3次である。
3次の波面収差関数は、例えばMeierの文献、J、
Opt、 Sco、 Amer、、 Vol、55. 
No、8 (1965)の987頁から992頁におい
て論じられているように次式となる。
+ −r 3(cosθCX+sinθcy)−−r 
2(co/θAx+sin”OA、+ 2cos Os
inθAXy) −r2F + −r (cosθD、+sinθDy)   −・
−・・−・−(17)ま ただし、x=rcosθ、y=rsinθとして極座標
で表示した。またλ′は実際の光源の波長である。
本実施例の場合、5次以上の収差を十分小さいとして無
視し、式(3)、(4)、(17)を用いて、マレシャ
ル条件を満たすΔn、Δλ、δの許容上限値を求める。
すなわち、1Δn1.1Δλ1.1δ1の上限値は次式
となる。
式(5)、(6)と(18)とを比較すると、本実施例
の上限値となる式(18)は式(5)で示す従来の第3
図の集光グレーティングカップラより大幅に緩和されて
いる。また、式(6)で示す従来の集光バルクレンズを
用いた第4図のハイブリッド型集光グレーティングカッ
プラに対しては、1Δnlでは若干劣るものの、1δ1
.1Δλ1に関しては改善されている。式(18)の1
Δλ1が許容されるならば、波長λ=0.78 (4)
の半導体レーザを用いたとき、実際の波長変動は±4 
(nm)まで許容されるので、実用可能なレベルとなる
。また。
1Δn1に関しても基板として屈折率n、=2.177
のLiNb0.を用い、実効屈折率N=2.187の導
波光16を用いるとき、実際の実効屈折率変動は0.0
035であり、これは熱拡散や成膜など通常のプロセス
でも十分制御できるので問題はない。
実施例2 次に、上記第1図(a)、(b)図示の集光グレーティ
ングカップラを用いて光集積ヘッドを形成する例につい
て説明する。ヘッドの原理は例えば第5図の従来例と同
じであるが、同図の集光グレーティングカップラ37の
部分を前述の本件実施例のそれで置換すれば容易に実現
できる。なお、従来装置の第5図においては、レーザ光
源39からレーザ導波光34が導波路32に導かれる光
路には、コリメータが表示されてないが、本発明実施例
においては、平行光を回折格子13に導入するため上記
光路にコリメータを配設する。本発明の好ましい実施例
によればレーザ光源、集光グレーティングカップラ、集
光レンズ、受光器等の光学系を共通の基板上に集積化す
ることができ、光ヘッドの小型軽量化を可能とする。
実施例3 第6図は、上記実施例2の光集積ヘッドを従来の光ディ
スク駆動装置に応用した場合の光ディスク駆動装置44
の概略図を示したものである。本実施例の特徴は、アク
チュエータ43上に光集積ヘッド41が搭載され、光学
系の構成が簡素化された点にある。光ディスク駆動装置
の動作原理は従来装置と変わらず、回転駆動制御手段で
コントロールされたモータ43により光ディスク35は
回転する。
この回転する光ディスクの半径方向にアクチュエータ4
2に搭載された光集積ヘッド41が走査制御手段により
走査駆動し、それと同期して光ディスク35からの光情
報が電気信号に変換され、必要な信号処理を信号処理手
段で処理されるものである。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、 (1)導波路から一1次光のみを効率よく基板内に射出
することができ、導波光の損失を少なくでき、光信号を
増大させることができた。
(2)光学系の各パラメータの緩和を図ることができた
。すなわち1本発明によれば、第1図のような完全モノ
リシックの集光グレーティングカップラを用いても、第
4図のようなハイブリッド型の集光グレーティングカッ
プラと同等もしくはそれ以上の1Δn1.1Δλ1.1
δ1の許容上限値を与えることができ、第3図のような
構成の集光グレーティングカップラより収差を大幅に低
減することができる。特に、1Δλ1に関しては、波長
λ=0.78 (4)の通常の半導体レーザを用いても
十分の許容範囲を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例となる集光グレーティングカ
ップラの構成図で、第1図(a)は断面図、第1図(b
)はその平面図、第2図(a)、(b)は、本発明の集
光グレーティングカップラにおいて、導波光が基板内に
射出する角度θと基板端面での全反射により上部空間に
出射する機構を説明するための模式図、第3図は従来の
光集積グレーティングカップラの概略図、第4図は同じ
〈従来装置の概略図、第5図は、第4図の装置を用いた
従来の光集積ピックアップの構成図、第6図は本発明の
光集積ヘッドを用いた光ディスク駆動装置の構成を説明
する概略説明図である。 図において、 11・・・基板       12・・・光導波層13
・・・等間隔の直線形状回折格子 14・・・透過型フレネルレンズ 15・・・基板端面斜め研磨面 16・・・導波光      17・・・焦点31・・
・基板       32・・・光導波層33・・・回
折格子     34・・・導波光35・・・光ディス
ク    36・・・対物レンズ37・・・集光グレー
ティングカップラ38・・・グレーティングスプリッタ 39・・・半導体レーザ 40・・・受光器(ホトダイオード) 41・・・光ヘッド     42・・・アクチュエー
タ43・・・モータ      44・・・光ディスク
駆動装置代理人弁理士  中 村 純之助 第1図 第2図 34−−−L−サ”′ビー云 42−−−アク4−Lニー2 43−−−モーフ 44−一一光ガスフ葛Eh裂1 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、光学基板と、その表面に形成された前記基板より屈
    折率の高い導波層から成る光導波路と、前記光導波路か
    らの導波光を前記光導波路外に射出させ、かつ、光導波
    路上部空間に集束させる集光グレーティングカップラと
    から成る光素子であって、前記集光グレーティングカッ
    プラが、前記光導波路の表面に、この表面と所定の射出
    角度θをもって前記導波光を前記基板内へ射出せしめる
    ように形成された等間隔直線状の回折格子と、この射出
    光を前記基板の端面で前記光導波路表面に垂直な方向に
    全反射させる基板端面と、前記全反射光を前記基板の上
    部空間に集束せしめるレンズ手段とから成ることを特徴
    とする集光グレーティングカップラを備えた光素子。 2、上記導波光の射出角度θが式 ▲数式、化学式、表等があります▼、ただし、n_sは
    上記 基板の屈折率、を満足すると共に、上記導波光を基板端
    面で上記導波路に垂直な方向に全反射させるよう前記基
    板端面を前記導波路面から前記射出角度θと同一の角度
    で傾斜せしめた反射面としたことを特徴とする請求項1
    記載の集光グレーティングカップラを備えた光素子。 3、上記全反射光を上記基板の上部空間に集束せしめる
    レンズ手段として、上記光導波路上に透過型フレネルレ
    ンズを配設したことを特徴とする請求項1もしくは請求
    項2記載の集光グレーティングカップラを備えた光素子
    。 4、レーザ光源と、このレーザ光源からのレーザビーム
    光を光学基板上に設けられた光導波路に導き、更に集光
    グレーティングカップラにより前記光導波路上部空間に
    配置される光記録媒体の記録・再生面上に集光する光素
    子と、前記記録・再生面からの反射光を前記光導波路上
    に形成されたビームスプリッタを介して受光検出する手
    段とを有して成る光集積ヘッドであって、前記集光グレ
    ーティングカップラを備えた光素子が光学基板と、その
    表面に形成された前記基板より屈折率の高い導波層から
    成る光導波路と、前記光導波路からの導波光を前記光導
    波路外に射出させ、かつ、光導波路上部空間に集束させ
    る集光グレーティングカップラとから成る光素子であっ
    て、前記集光グレーティングカップラが、前記光導波路
    の表面に、この表面と所定の射出角度θをもって前記導
    波光を前記基板内へ射出せしめるように形成された等間
    隔直線状の回折格子と、この射出光を前記基板の端面で
    前記光導波路表面に垂直な方向に全反射させる基板端面
    と、前記全反射光を前記基板の上部空間に集束せしめる
    レンズ手段とから成ることを特徴とする光集積ヘッド。 5、上記導波光の射出角度θが式 ▲数式、化学式、表等があります▼、ただし、n_sは
    上記 基板の屈折率、を満足すると共に、上記導波光を基板端
    面で上記導波路に垂直な方向に全反射させるよう前記基
    板端面を前記導波路面から前記射出角度θと同一の角度
    で傾斜せしめた反射面としたことを特徴とする請求項4
    記載の光集積ヘッド。 6、上記全反射光を上記基板の上部空間に集束せしめる
    レンズ手段として、上記光導波路上に透過型フレネルレ
    ンズを配設したことを特徴とする請求項4もしくは請求
    項5記載の光集積ヘッド。 7、光ディスクを回転駆動する回転駆動制御手段と、前
    記回転する光ディスク面と所定間隔をおいて前記光ディ
    スクの半径方向に走査駆動することにより光情報の記録
    ・再生を行なう光ヘッド及び前記光ヘッドを搭載し走査
    駆動するアクチュエータと、前記光ヘッドの入出力信号
    処理手段とを有して成る光ディスク駆動装置であって、
    前記光ヘッドがレーザ光源と、このレーザ光源からのレ
    ーザビーム光を光学基板上に設けられた光導波路に導き
    、更に集光グレーティングカップラにより前記光導波路
    上部空間に配置される光記録媒体の記録・再生面上に集
    光する光素子と、前記記録・再生面からの反射光を前記
    光導波路上に形成されたビームスプリッタを介して受光
    検出する手段とを有して成る光集積ヘッドから成り、前
    記集光グレーティングカップラを備えた光素子が光学基
    板と、その表面に形成された前記基板より屈折率の高い
    導波層から成る光導波路と、前記光導波路からの導波光
    を前記光導波路外に射出させ、かつ、光導波路上部空間
    に集束させる集光グレーティングカップラとから成る光
    素子から成り、前記集光グレーティングカップラが、前
    記光導波路の表面に、この表面と所定の射出角度θをも
    って前記導波光を前記基板内へ射出せしめるように形成
    された等間隔直線状の回折格子と、この射出光を前記基
    板の端面で前記光導波路表面に垂直な方向に全反射させ
    る基板端面と、前記全反射光を前記基板の上部空間に集
    束せしめるレンズ手段とから成ることを特徴とする光デ
    ィスイク駆動装置。 8、上記導波光の射出角度θが式 ▲数式、化学式、表等があります▼、ただし、n_sは
    上記 基板の屈折率、を満足すると共に、上記導波光を基板端
    面で上記導波路に垂直な方向に全反射させるよう前記基
    板端面を前記導波路面から前記射出角度θと同一の角度
    で傾斜せしめた反射面としたことを特徴とする請求項7
    記載の光ディスク駆動装置。 9、上記全反射光を上記基板の上部空間に集束せしめる
    レンズ手段として、上記光導波路上に透過型フレネルレ
    ンズを配設したことを特徴とする請求項7もしくは請求
    項8記載の光ディスク駆動装置。
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JPH03256236A (ja) * 1990-03-07 1991-11-14 Hitachi Ltd 光ピックアップ
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