JPH01283749A - 画像表示装置 - Google Patents
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- JPH01283749A JPH01283749A JP11154288A JP11154288A JPH01283749A JP H01283749 A JPH01283749 A JP H01283749A JP 11154288 A JP11154288 A JP 11154288A JP 11154288 A JP11154288 A JP 11154288A JP H01283749 A JPH01283749 A JP H01283749A
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- phosphor
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- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
- H01J2201/30—Cold cathodes
- H01J2201/316—Cold cathodes having an electric field parallel to the surface thereof, e.g. thin film cathodes
- H01J2201/3165—Surface conduction emission type cathodes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、表面伝導形放出素子を電子源として用いた画
像表示装置に関する。
像表示装置に関する。
[従来の技術]
従来、簡単な構造で電子の放出が得られる素子として、
例えば、エム・アイ・エリンソン(M、I。
例えば、エム・アイ・エリンソン(M、I。
Elinson)等によって発表された冷陰極素子が知
られている[ラジオ・エンジニアリング・エレクトロン
・フィシ4−/ス(Radio Eng、 Elect
ron。
られている[ラジオ・エンジニアリング・エレクトロン
・フィシ4−/ス(Radio Eng、 Elect
ron。
Pbys、)第10巻、 12f30〜129B頁、
1985年]。
1985年]。
これは、基板上に形成された小面積の薄膜に。
lり面に平行に電流を流すことにより、電子放出が生ず
る現象を利用するもので、一般には表面伝導形放出素子
と呼ばれている。
る現象を利用するもので、一般には表面伝導形放出素子
と呼ばれている。
この表面伝導形放出素子としては、前記エリンソン等に
より開発された5n02(Sb)薄膜を用いたものの他
、Au薄膜によるもの[ジー・ディトマー:°“スイン
・ソリド・フィルムス°’ (G、 Dittmer:
” Th1n 5olid Films” )、 9巻
、317頁、 (1972年) ] 、 ITOf)I
I’2によるもの[エム・ハートウェル・アンド・シー
・ジー・フォンスタッド: “アイ・イー・イー・イー
・トランス・イー・デイ−”コン7”(M、 Hart
well and C,G、 Fonstad:” T
EEE Trans、 ED Cant、” )519
頁、 (1975年月、カーボン薄膜によるもの[荒木
久他: °“真空″′。
より開発された5n02(Sb)薄膜を用いたものの他
、Au薄膜によるもの[ジー・ディトマー:°“スイン
・ソリド・フィルムス°’ (G、 Dittmer:
” Th1n 5olid Films” )、 9巻
、317頁、 (1972年) ] 、 ITOf)I
I’2によるもの[エム・ハートウェル・アンド・シー
・ジー・フォンスタッド: “アイ・イー・イー・イー
・トランス・イー・デイ−”コン7”(M、 Hart
well and C,G、 Fonstad:” T
EEE Trans、 ED Cant、” )519
頁、 (1975年月、カーボン薄膜によるもの[荒木
久他: °“真空″′。
第26巻、第1号、22頁、 (1983年)]等が報
告されている。
告されている。
これらの表面伝導層放出素子は、
1)高い電子放出効率が得られる、
2)構造が簡単であるため、製造が容易である、3)同
一基板上に多数の素子を配列形成できる、4)応答速度
が速い、 等の利点があり、今後広く応用される可能性をもってい
る。
一基板上に多数の素子を配列形成できる、4)応答速度
が速い、 等の利点があり、今後広く応用される可能性をもってい
る。
一方、面状に展開した複数の電子源と、この電子源から
の電子ビームの照射を各々受ける蛍光体ターゲットとを
、各々相対向させた薄形の画像表示装置が、特開昭58
−28445号で提案されている。
の電子ビームの照射を各々受ける蛍光体ターゲットとを
、各々相対向させた薄形の画像表示装置が、特開昭58
−28445号で提案されている。
この方式によれば、’Ili子ビームを偏向させる必要
がないため、一般のCRTに比べて、奥ゆきの非常に小
さな画像表示装置の実現が期待できる。しかし、残念な
ことに、電子源としてコイル状ヒータ形式の熱カソード
を用いているため、電子放出効率が低く、シかも構造が
複雑化してしまい、装置の消費゛−[力や製造コストが
莫大なものとなることから、実用化されるまでには至っ
ていない。
がないため、一般のCRTに比べて、奥ゆきの非常に小
さな画像表示装置の実現が期待できる。しかし、残念な
ことに、電子源としてコイル状ヒータ形式の熱カソード
を用いているため、電子放出効率が低く、シかも構造が
複雑化してしまい、装置の消費゛−[力や製造コストが
莫大なものとなることから、実用化されるまでには至っ
ていない。
そこで、上記コイル状ヒータ形式の熱カンードに代えて
、電子源として11η記表面伝導形放出素子を使用する
ことにより、電子放出効率の向上並びに構造の簡素化を
図り、実用的な薄形の画像表示装置とすることが考えら
れるが、これには次のような問題がある。
、電子源として11η記表面伝導形放出素子を使用する
ことにより、電子放出効率の向上並びに構造の簡素化を
図り、実用的な薄形の画像表示装置とすることが考えら
れるが、これには次のような問題がある。
従来の薄形表示装置では、面状に展開された電子源の各
々が放出する電子ビームを、核部の法線方向に飛翔させ
ている。しかし、表面伝導層放出素子の場合、素子自体
のもつ電位勾配のために、放出された電子ビームが基板
面の法線方向からはずれて飛翔する傾向があるので、表
面伝導層放出素子と蛍光体ターゲットを相対向させただ
けでは、各蛍光体に正しく電子ビームが照射されない問
題がある。
々が放出する電子ビームを、核部の法線方向に飛翔させ
ている。しかし、表面伝導層放出素子の場合、素子自体
のもつ電位勾配のために、放出された電子ビームが基板
面の法線方向からはずれて飛翔する傾向があるので、表
面伝導層放出素子と蛍光体ターゲットを相対向させただ
けでは、各蛍光体に正しく電子ビームが照射されない問
題がある。
上記問題点を解決するためには、補正用電極を用いて、
電子ビームの軌道を、基板面の法線方向に補正すること
が考えられる。
電子ビームの軌道を、基板面の法線方向に補正すること
が考えられる。
しかしながら、上記補正用電極を用いた場合、電子ビー
ムの一部が補正用電極に捕捉されて失われるうえに、各
表面伝導層放出素子について補正用電極を設けなければ
ならず、真空容器からの取出し線数が増えると共に、電
気回路の規模も大きくなり、製造コストのL昇原因とな
る。
ムの一部が補正用電極に捕捉されて失われるうえに、各
表面伝導層放出素子について補正用電極を設けなければ
ならず、真空容器からの取出し線数が増えると共に、電
気回路の規模も大きくなり、製造コストのL昇原因とな
る。
上記補正用電極以外には、電子レンズを設けて、基板面
の法線上の一点に電子ビームを集束させることも考えら
れるが、実際には、電子レンズの口径が大きくなり過ぎ
て、配列ピッチが大きくなり1画像表示装置として十分
な精細度を実現することが困難である。
の法線上の一点に電子ビームを集束させることも考えら
れるが、実際には、電子レンズの口径が大きくなり過ぎ
て、配列ピッチが大きくなり1画像表示装置として十分
な精細度を実現することが困難である。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、表面伝
導層放出素子から放出される電子ビームを、放出電子の
損失、製造コストの上昇並びに画像精細度低下を招くこ
となく、正しく対応する蛍光体ターゲットに照射できる
ようにすることをその解決すべき課題とするものである
。
導層放出素子から放出される電子ビームを、放出電子の
損失、製造コストの上昇並びに画像精細度低下を招くこ
となく、正しく対応する蛍光体ターゲットに照射できる
ようにすることをその解決すべき課題とするものである
。
[課題を解決するための手段]
本発明者等は、上述の問題点の原因が、熱カソードを電
子源として用いた従来の薄形の画像表示装置の構造を踏
襲したままで1表面伝導形放出素子を電子源として用い
ようとしていることにあるとの考えに基づき1表面伝導
形放出素子の特性に適した画像表示装置の構造を研究し
た結果、以下に述べる本発明を完成するに至ったもので
ある。
子源として用いた従来の薄形の画像表示装置の構造を踏
襲したままで1表面伝導形放出素子を電子源として用い
ようとしていることにあるとの考えに基づき1表面伝導
形放出素子の特性に適した画像表示装置の構造を研究し
た結果、以下に述べる本発明を完成するに至ったもので
ある。
前記課題を解決するために講じられた手段を、本発明の
一実施例に対応する第1図及び第2図で説明すると、本
発明では、基板1上に設けられた複数の表面伝導層放出
素子lOと、対応する表面伝導層放出素子lOからの電
子ビームの照射を各々受ける蛍光体ターゲット8とを有
し、蛍光体ターゲット8が、対応する表面伝導層放出素
子lOの電子放出部5を通る基板1面からの法線に対し
て、当該表面伝導形放出素子10の正極3側に1度以上
45度以下の範囲の方向に配置されている画像表示装置
とするという手段を講じているものである。
一実施例に対応する第1図及び第2図で説明すると、本
発明では、基板1上に設けられた複数の表面伝導層放出
素子lOと、対応する表面伝導層放出素子lOからの電
子ビームの照射を各々受ける蛍光体ターゲット8とを有
し、蛍光体ターゲット8が、対応する表面伝導層放出素
子lOの電子放出部5を通る基板1面からの法線に対し
て、当該表面伝導形放出素子10の正極3側に1度以上
45度以下の範囲の方向に配置されている画像表示装置
とするという手段を講じているものである。
本発明においては、第3図及び第4図に示されるように
、表面伝導形放出素子lOと蛍光体ターゲット8の間に
制御電極9を設けることが好ましい。
、表面伝導形放出素子lOと蛍光体ターゲット8の間に
制御電極9を設けることが好ましい。
[作 用]
本画像形成装置においては1表面伝導形放出素子lOの
正極3と負極4間に電圧Vfを印加すると共に、従来の
ものと同様に、蛍光体ターゲット8側の透明電極7に電
圧Vaを印加することにより、表面伝導形放出素子10
の電子放出部5から電子ビームが放出され、蛍光体ター
ゲット8を照射するものである。
正極3と負極4間に電圧Vfを印加すると共に、従来の
ものと同様に、蛍光体ターゲット8側の透明電極7に電
圧Vaを印加することにより、表面伝導形放出素子10
の電子放出部5から電子ビームが放出され、蛍光体ター
ゲット8を照射するものである。
上記駆動の際の電子ビームの軌道は、電圧vrあるいは
電圧Vaあるいは基板1と透明電極7間の距Rf!+を
変化させると、それにつれて偏位する。
電圧Vaあるいは基板1と透明電極7間の距Rf!+を
変化させると、それにつれて偏位する。
より詳しくは、表面伝導形放出素子lOに印加する電圧
V「の最適値は、薄膜2を形成する材料や、その膜厚に
より異なる0例えば、膜厚1oooAのITOを用いた
場合には15V前後の低電圧ですむが、膜厚1500A
の5na2を用いた場合には200■前後の高電圧が必
要となる。
V「の最適値は、薄膜2を形成する材料や、その膜厚に
より異なる0例えば、膜厚1oooAのITOを用いた
場合には15V前後の低電圧ですむが、膜厚1500A
の5na2を用いた場合には200■前後の高電圧が必
要となる。
透明型8i7に印加する電圧Vdは、蛍光体ターゲット
8の材料により最適値が異なるが、例えば低速電子線用
蛍光体材料を用いた場合には、電圧Vaは50V前後の
低電圧ですむが、高速電子線用蛍光体材料を用いた場合
には、IKV〜20KV程度の高電圧が必要となる。
8の材料により最適値が異なるが、例えば低速電子線用
蛍光体材料を用いた場合には、電圧Vaは50V前後の
低電圧ですむが、高速電子線用蛍光体材料を用いた場合
には、IKV〜20KV程度の高電圧が必要となる。
電子放出素子lOと透明電極7を隔てる距離ハは、装置
の薄形化という点では、50++a+以下が望ましいが
、耐電圧性などの点からは1+am以上必要である。
の薄形化という点では、50++a+以下が望ましいが
、耐電圧性などの点からは1+am以上必要である。
これらの諸条件を組み合せて実験した結果、 Vfを大
きくするほど、Vaを小さくするほどまたはf!Iを大
きくするほど、第1図に示される角αと角βは大きくし
た方が良い傾向にあり、βの上限は45度であった。逆
に、 Vfを小さくするほど、 Vaを大きくするほど
または!!1を小さくするほど、αとβは小さくした方
が良い傾向にあり、αの下限は1度であった・ 従って1本発明においては、蛍光体ターゲット8を1度
を下限とし、45度を上限とする範囲に置くことにより
、複雑な電子光学系を用いなくとも、電子ビームを効率
よく蛍光体ターゲット8に照射することが可能である。
きくするほど、Vaを小さくするほどまたはf!Iを大
きくするほど、第1図に示される角αと角βは大きくし
た方が良い傾向にあり、βの上限は45度であった。逆
に、 Vfを小さくするほど、 Vaを大きくするほど
または!!1を小さくするほど、αとβは小さくした方
が良い傾向にあり、αの下限は1度であった・ 従って1本発明においては、蛍光体ターゲット8を1度
を下限とし、45度を上限とする範囲に置くことにより
、複雑な電子光学系を用いなくとも、電子ビームを効率
よく蛍光体ターゲット8に照射することが可能である。
また、請求項第2項の発明において、制御電極9は、表
面伝導形放出素子lOから放出される電子ビームを、電
圧印加によって遮断する働きをなす。
面伝導形放出素子lOから放出される電子ビームを、電
圧印加によって遮断する働きをなす。
[実施例]
第1図及び第2図において、10は表面伝導形放出素子
で、例えばガラス、石英等の絶縁材料で形成された基板
l上に、例えば金属酸化物、カーボン等を材料とする薄
膜2が設けられており、この薄膜2の一部には、従来公
知のフォーミング処理によって電子放出部5が形成され
ている。また、3と4は、薄膜2に電圧源11から電圧
V「を印加するために設けられた電極で、3が正極、4
が負極である。
で、例えばガラス、石英等の絶縁材料で形成された基板
l上に、例えば金属酸化物、カーボン等を材料とする薄
膜2が設けられており、この薄膜2の一部には、従来公
知のフォーミング処理によって電子放出部5が形成され
ている。また、3と4は、薄膜2に電圧源11から電圧
V「を印加するために設けられた電極で、3が正極、4
が負極である。
6は1例えばガラス等の透明板で、その内面には電圧源
12から電圧Vaが印加される透明電極7を介して蛍光
体ターゲット8が設けられている。この蛍光体ターゲッ
ト8は、電子放出部5と交わる基板1表面との法線に対
して、正極3側に角度がα以1でβ以内の範囲に設けら
れており、かつl°≦αとβ≦45@を満している。
12から電圧Vaが印加される透明電極7を介して蛍光
体ターゲット8が設けられている。この蛍光体ターゲッ
ト8は、電子放出部5と交わる基板1表面との法線に対
して、正極3側に角度がα以1でβ以内の範囲に設けら
れており、かつl°≦αとβ≦45@を満している。
特に第2図に示されるように、X方向に伸びるLeの帯
状の部分が電子放出部5となっており、負極4と正極3
はX方向に沿って設けられている。
状の部分が電子放出部5となっており、負極4と正極3
はX方向に沿って設けられている。
また、蛍光体ターゲット8は、X方向についてはLeと
ほぼ等しいLpの長さにわたり、X方向については前述
した範囲で示される領域にわたり設けられている。
ほぼ等しいLpの長さにわたり、X方向については前述
した範囲で示される領域にわたり設けられている。
膜厚10001000A−cLe=100u ITOt
l)薄膜2を用いた表面伝導形放出素子10を電子ビー
ム源とし、蛍光体ターゲット8をα=2° 、β=45
°+ f!1= 5 ta■の位置に設けて、第1図及
び第2図で説明したような本画像表示装置とした。これ
をVa=IKV。
l)薄膜2を用いた表面伝導形放出素子10を電子ビー
ム源とし、蛍光体ターゲット8をα=2° 、β=45
°+ f!1= 5 ta■の位置に設けて、第1図及
び第2図で説明したような本画像表示装置とした。これ
をVa=IKV。
Vr=15Vで駆動したところ、蛍光体ターゲット8を
法線方向に配置して、補正電極で電子ビーム軌道の補正
を行う装置を同じ電圧で駆動した場合と比較して、約3
0%輝度を向上させることに成功した。これは、補正電
極を用いた装置では、電子ど−ム軌道の補正に伴ない、
電子ビームの一部が、補正電極に捕捉されて失われるが
1本装置ではほとんど損失なしに蛍光体ターゲット8に
照射できるためである。
法線方向に配置して、補正電極で電子ビーム軌道の補正
を行う装置を同じ電圧で駆動した場合と比較して、約3
0%輝度を向上させることに成功した。これは、補正電
極を用いた装置では、電子ど−ム軌道の補正に伴ない、
電子ビームの一部が、補正電極に捕捉されて失われるが
1本装置ではほとんど損失なしに蛍光体ターゲット8に
照射できるためである。
尚、この場合、電子ビームの照射位置は、実質的にはα
= 26 、β=45°よりも狭い範囲にあり。
= 26 、β=45°よりも狭い範囲にあり。
蛍光体ターゲット8をα=15° 、β=25@の範囲
にまで狭めても1発光輝度はほとんど低下せず、むしろ
にじみのないシャープな発光点が得られるために、画質
が向上することがわかった。
にまで狭めても1発光輝度はほとんど低下せず、むしろ
にじみのないシャープな発光点が得られるために、画質
が向上することがわかった。
また、低速電子線用蛍光体を蛍光体ターゲット8の材ネ
1として用い、V3=300Vで駆動した場合には、α
=30° 、β=45@で最適状態を得る苔ができた。
1として用い、V3=300Vで駆動した場合には、α
=30° 、β=45@で最適状態を得る苔ができた。
第3図は本発明の他の実施例を示すもので。
1〜8及びlO〜12の各構成要素は前記第1図と同様
であり、蛍光体ターゲット8は、電子放出部5を通る基
板1の表面の法線に対して、前記αとβで規定される範
囲に設けられている。また、9は、表面伝導形放出素子
10から放出される電子ビームの飛翔をルJulするた
めに設けられたl1m電極で、薄板状の金属に、電子ビ
ームを通過させるための空孔13が開けられている。
であり、蛍光体ターゲット8は、電子放出部5を通る基
板1の表面の法線に対して、前記αとβで規定される範
囲に設けられている。また、9は、表面伝導形放出素子
10から放出される電子ビームの飛翔をルJulするた
めに設けられたl1m電極で、薄板状の金属に、電子ビ
ームを通過させるための空孔13が開けられている。
Slは1表面伝導形放出素子lOを駆動するための印加
電圧VrのON、 OFFを制御するスイー、チである
。また、14はグリッド電極9に正電圧VC+ を印加
するための電圧源、15はグリッド電極9に負電圧VG
2を印加するための電圧源、SGI とSG2は、グリ
ッド電極9に接続する電圧源14又は15を選択するた
めのスイッチで、相互に逆動作をする。
電圧VrのON、 OFFを制御するスイー、チである
。また、14はグリッド電極9に正電圧VC+ を印加
するための電圧源、15はグリッド電極9に負電圧VG
2を印加するための電圧源、SGI とSG2は、グリ
ッド電極9に接続する電圧源14又は15を選択するた
めのスイッチで、相互に逆動作をする。
尚、前記Sl、 SGI、 SG2の各スイッチは、機
械的スイッチに限らず、トランジスタの様なスイッチン
グ素子であってもよい。
械的スイッチに限らず、トランジスタの様なスイッチン
グ素子であってもよい。
発明者らが試作した第3図に示されるような装置の中か
ら一例を示せば、薄膜2として膜厚1000A前後のI
TO薄膜を形成した表面伝導形放出素子10を、Vr=
18Vで駆動した時、制u4電極9にVG、 =40V
を印加すれば、″FL子ビームは蛍光体ターゲット8を
照射するが、VG2=−5Vを印加すれば、電子ビーム
は遮断される。各パラメータ値の一例をあげれば、!!
2= 1100p 、 13= 5ts。
ら一例を示せば、薄膜2として膜厚1000A前後のI
TO薄膜を形成した表面伝導形放出素子10を、Vr=
18Vで駆動した時、制u4電極9にVG、 =40V
を印加すれば、″FL子ビームは蛍光体ターゲット8を
照射するが、VG2=−5Vを印加すれば、電子ビーム
は遮断される。各パラメータ値の一例をあげれば、!!
2= 1100p 、 13= 5ts。
Va=2KVで、グリッド9に設けられた空孔13は、
直径D = 1100pの円であり、蛍光体ターゲット
8の位置はα=10° 、β=20°の領域である。
直径D = 1100pの円であり、蛍光体ターゲット
8の位置はα=10° 、β=20°の領域である。
次に、第4図に示すのは、前記第3図のユニットを複数
個並べ1表面伝導形放出素子lOと制御電極9でxYマ
トリクスを構成した装置である。
個並べ1表面伝導形放出素子lOと制御電極9でxYマ
トリクスを構成した装置である。
図において、表面伝導形放出素子lOは、X方向に共通
配線され、一方制′4B電極9はX方向にストライブ状
に共通配線されている。また、3は各々共通配線された
正極、4は各々共通配線された負極、9は空孔13を有
する制御電極、8は各表面伝導形放出素子lOに対応し
て設けられた蛍光体ターゲットで、X方向の一列を共通
の色とし、X方向にレッド、グリーン、ブルーの順で塗
り分けられている。
配線され、一方制′4B電極9はX方向にストライブ状
に共通配線されている。また、3は各々共通配線された
正極、4は各々共通配線された負極、9は空孔13を有
する制御電極、8は各表面伝導形放出素子lOに対応し
て設けられた蛍光体ターゲットで、X方向の一列を共通
の色とし、X方向にレッド、グリーン、ブルーの順で塗
り分けられている。
第4図においては、3X2素子のみが示されているが、
実際には840X 640素子を1つの真空容器に納め
た装置を試作した。−列島だり640素子を共通配線し
た素子列を一利毎に順次駆動して行き、これと同期して
、各制御電極9に制御信号を印加することにより1画像
の1ラインを単位とするライン順次の走査を行なった。
実際には840X 640素子を1つの真空容器に納め
た装置を試作した。−列島だり640素子を共通配線し
た素子列を一利毎に順次駆動して行き、これと同期して
、各制御電極9に制御信号を印加することにより1画像
の1ラインを単位とするライン順次の走査を行なった。
毎秒60画面の走査を行なったところ、最高輝度100
fL以上の明るい画像を表示することができた。
fL以上の明るい画像を表示することができた。
[発明の効果]
以上説明したように、蛍光体ターゲット8を、表面伝導
形放出素子lOの電子放出部5を通る基板1表面からの
法線に対して、1度以上45度以下の範囲内で正極3側
に配置することにより、電子ビーム軌道の補正手段が不
要となり、装置の構造を簡単化することができる。その
ため、装置の製造コストを大幅に引下げることが可能と
なり、装置の薄形化もより一層容易になる。また、補正
手段で失われていた電子ビームも、有効に蛍光体ターゲ
ット8を照射するため、輝度の向上や、消費電力の低減
も可能となる。
形放出素子lOの電子放出部5を通る基板1表面からの
法線に対して、1度以上45度以下の範囲内で正極3側
に配置することにより、電子ビーム軌道の補正手段が不
要となり、装置の構造を簡単化することができる。その
ため、装置の製造コストを大幅に引下げることが可能と
なり、装置の薄形化もより一層容易になる。また、補正
手段で失われていた電子ビームも、有効に蛍光体ターゲ
ット8を照射するため、輝度の向上や、消費電力の低減
も可能となる。
更に請求項第2項の発明によれば、電子ビームの照射と
遮断を確実にすることができ、画像をより鮮明なものと
することができる。
遮断を確実にすることができ、画像をより鮮明なものと
することができる。
第1図は本発明の一実施に係る画像表示装置の一部断面
図、第2図はその一部の部材を省略した斜視図、第3図
は本発明の他の実施例の一部断面図、第4図はその斜視
図である。 l二基板 3:正極
図、第2図はその一部の部材を省略した斜視図、第3図
は本発明の他の実施例の一部断面図、第4図はその斜視
図である。 l二基板 3:正極
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)基板上に設けられた複数の表面伝導形放出素子と、
対応する表面伝導形放出素子からの電子ビームの照射を
各々受ける蛍光体ターゲットとを有し、蛍光体ターゲッ
トが、対応する表面伝導形放出素子の電子放出部を通る
基板面からの法線に対して、当該表面伝導形放出素子の
正極側に1度以上45度以下の範囲の方向に配置されて
いることを特徴とする画像表示装置。 2)表面伝導形放出素子と蛍光体ターゲットとの間に制
御電極が設けられていることを特徴とする請求項第1項
記載の画像表示装置。
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ID=14564011
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-
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- 1988-05-10 JP JP63111542A patent/JP2610160B2/ja not_active Expired - Fee Related
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