JPH01283282A - N−保護アスパラギン酸無水物の製造法 - Google Patents
N−保護アスパラギン酸無水物の製造法Info
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- JPH01283282A JPH01283282A JP63110403A JP11040388A JPH01283282A JP H01283282 A JPH01283282 A JP H01283282A JP 63110403 A JP63110403 A JP 63110403A JP 11040388 A JP11040388 A JP 11040388A JP H01283282 A JPH01283282 A JP H01283282A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、N−保護アスパラギン酸をホスゲンと反応さ
せてN−保護アスパラギン酸無水物を製造する方法に関
するものである。
せてN−保護アスパラギン酸無水物を製造する方法に関
するものである。
本発明の目的物であるN−保護アスパラギン酸無水物は
、アミノ酸エステルの中間体として、またペプチド合成
の中間体としてよく知られており、最近ではジペプチド
系甘味料アスパルテームの原料として注目されているも
のである。
、アミノ酸エステルの中間体として、またペプチド合成
の中間体としてよく知られており、最近ではジペプチド
系甘味料アスパルテームの原料として注目されているも
のである。
従来、N−保護アスパラギン酸無水物を合成する方法と
しては、N−保護アスパラギン酸に無水酢酸を作用さゼ
る方法が公知である(ジャーナル・オブ・アメリカン・
ケミカル・ソサエティ。
しては、N−保護アスパラギン酸に無水酢酸を作用さゼ
る方法が公知である(ジャーナル・オブ・アメリカン・
ケミカル・ソサエティ。
8L 167、1959年)。また、N−保護基がホル
ミル基の場合は、ギ酸中でL−アスパラギン酸に無水酢
酸を作用させることにより、N−ポルミル化と無水物化
を同時に行う方法もよく知られている(特開昭46−1
370 )。
ミル基の場合は、ギ酸中でL−アスパラギン酸に無水酢
酸を作用させることにより、N−ポルミル化と無水物化
を同時に行う方法もよく知られている(特開昭46−1
370 )。
しかし、これらの方法ではN−保護アスパラギン酸無水
物の収率を上げるために、過剰の無水酢酸を使用する必
要があった。また、このようにして得られたN〜保護ア
スパラギン酸無水物は、そのまま溶液として次の工程に
用いることが工業的には有利であるが、反応液中に残存
する無水酢酸が次の工程で副反応を起こすことが多い。
物の収率を上げるために、過剰の無水酢酸を使用する必
要があった。また、このようにして得られたN〜保護ア
スパラギン酸無水物は、そのまま溶液として次の工程に
用いることが工業的には有利であるが、反応液中に残存
する無水酢酸が次の工程で副反応を起こすことが多い。
例えば、上記の方法で得られたN−ホルミル−し−アス
パラキン酸無水物?8?aに、L−フェニルアラニンメ
チルエステルを作用させてN−ホルミル−α−L−アス
パルチルーL−フェニルアラニンメチルエステルを製造
する場合には?8a中に残存した無氷酢酸によるし一フ
ェニルアラニンメチルエステルのアセチル化が起こり好
ましくない。
パラキン酸無水物?8?aに、L−フェニルアラニンメ
チルエステルを作用させてN−ホルミル−α−L−アス
パルチルーL−フェニルアラニンメチルエステルを製造
する場合には?8a中に残存した無氷酢酸によるし一フ
ェニルアラニンメチルエステルのアセチル化が起こり好
ましくない。
N−保護アスパラギン酸無水物を単離して用いることも
行われる(特公昭53−364/16)が、過剰の無水
酢酸や生成した酢酸を除くのが容易でない上に、高温で
この操作を行うとアスパラギン酸のラセミ化をまねく恐
れがあった。
行われる(特公昭53−364/16)が、過剰の無水
酢酸や生成した酢酸を除くのが容易でない上に、高温で
この操作を行うとアスパラギン酸のラセミ化をまねく恐
れがあった。
この発明は上記の従来法の欠点を除去したN−保護アス
パラギン酸無水物の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
パラギン酸無水物の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
本発明者らは、無水酢酸を使わないN−保護アスパラギ
ン酸無水物の製造方法を鋭意検討した結果、不活性有機
溶媒中でN−保護アスパラギン酸にホスゲンを作用させ
ることにより、N−保8Wアスパラギン酸無水物がほぼ
定量的収率で得られることを見出し、本発明を完成した
。
ン酸無水物の製造方法を鋭意検討した結果、不活性有機
溶媒中でN−保護アスパラギン酸にホスゲンを作用させ
ることにより、N−保8Wアスパラギン酸無水物がほぼ
定量的収率で得られることを見出し、本発明を完成した
。
通常用いられるN−保護基は、酸性条件で脱保護基が起
こるものも有るため、N−保護アスパラギン酸とホスゲ
ンとの反応で副生ずる塩化水素の作用で、脱保=W基し
た副生物が生成することが予想されたが、意外にも本発
明の反応条件下ではそのような副反応がほとんど起きな
いことが判明した。
こるものも有るため、N−保護アスパラギン酸とホスゲ
ンとの反応で副生ずる塩化水素の作用で、脱保=W基し
た副生物が生成することが予想されたが、意外にも本発
明の反応条件下ではそのような副反応がほとんど起きな
いことが判明した。
本発明に使用されるN−保護基は、ホルミル基、アセチ
ル基、トリフロロアセチル基、フタリル基、トシル基等
のアシル型保護基、ヘンシルオキシカルボニル基、第三
ブトキシカルボニル基等のウレタン型保護基、トリチル
基、ヘンシル基等のアルキル型保護基が挙げられる。
ル基、トリフロロアセチル基、フタリル基、トシル基等
のアシル型保護基、ヘンシルオキシカルボニル基、第三
ブトキシカルボニル基等のウレタン型保護基、トリチル
基、ヘンシル基等のアルキル型保護基が挙げられる。
本発明に使用する有機溶媒は反応に不活性であり、特に
、ホスゲンに対して不活性なものが用いられる。代表的
なものとしてはエチルエーテル、ブチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、クロロホ
ルム、ジクロルメタン、四塩化炭素、■、2−ジクロル
エタン、1,1.2−トリクロルエタン、クロルヘンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素、n−ヘキサン、シクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のエステル類が挙げられる。
、ホスゲンに対して不活性なものが用いられる。代表的
なものとしてはエチルエーテル、ブチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、クロロホ
ルム、ジクロルメタン、四塩化炭素、■、2−ジクロル
エタン、1,1.2−トリクロルエタン、クロルヘンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素、n−ヘキサン、シクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のエステル類が挙げられる。
反応はN−保護アスパラギン酸を上記有機溶媒に溶解、
あるいは懸濁させ、必要により攪拌しながらホスゲンを
加えることにより行われる。ホスゲンは反応で生成する
塩化水素と炭酸ガスを系外に除くため、通常当モルより
過剰に用いられる。
あるいは懸濁させ、必要により攪拌しながらホスゲンを
加えることにより行われる。ホスゲンは反応で生成する
塩化水素と炭酸ガスを系外に除くため、通常当モルより
過剰に用いられる。
本発明方法における反応温度は、−10〜80°Cが好
ましく、特に10〜60″Cが好ましい。温度が高すぎ
るとラセミ化や脱保護基等の副反応を起こす恐れがある
。また低すぎると反応時間が長くなり実用的でない。
ましく、特に10〜60″Cが好ましい。温度が高すぎ
るとラセミ化や脱保護基等の副反応を起こす恐れがある
。また低すぎると反応時間が長くなり実用的でない。
反応後は、過剰のホスゲン基を除き、目的物の結晶が析
出している場合はそのまま濾過、乾燥することにより、
また熔解している場合は濃縮するだけで容易にN−保護
アスパラギン酸無水物が得られる。また、反応液のまま
ホスゲンを除くだけで次の工程に使用することができる
。
出している場合はそのまま濾過、乾燥することにより、
また熔解している場合は濃縮するだけで容易にN−保護
アスパラギン酸無水物が得られる。また、反応液のまま
ホスゲンを除くだけで次の工程に使用することができる
。
本発明の方法によれば、脱水剤として加えたホスゲンを
反応後容易に除くことができるため、従来法に比較して
簡単な操作でしかも高収率で、N−保護アスパラギン酸
無水物を得ることができる[実施例〕 以下実施例により説明する。
反応後容易に除くことができるため、従来法に比較して
簡単な操作でしかも高収率で、N−保護アスパラギン酸
無水物を得ることができる[実施例〕 以下実施例により説明する。
実施例I
N−ベンジルオキシカルボニル−L−アスパラギン酸2
6.7g(0,1モル)をテトラヒドロフラン240g
に溶解し、ホスゲン5g/Hrを吹き込みなから55°
Cで5時間反応させる。反応後、乾燥窒素を吹き込みホ
スゲンを除き、続いて減圧下にテトラヒドロフランを除
く。減圧下、室温で乾燥することにより26.0gの結
晶を得た。この結晶の赤外吸収スペクトルは、N−ベン
ジルオキシカルボニル−し−アスパラギン酸無水物のも
のと一致した。また高速液体クロマ1−グラフィーによ
る分析の結果、純度93.0%であった。収率97.0
%。
6.7g(0,1モル)をテトラヒドロフラン240g
に溶解し、ホスゲン5g/Hrを吹き込みなから55°
Cで5時間反応させる。反応後、乾燥窒素を吹き込みホ
スゲンを除き、続いて減圧下にテトラヒドロフランを除
く。減圧下、室温で乾燥することにより26.0gの結
晶を得た。この結晶の赤外吸収スペクトルは、N−ベン
ジルオキシカルボニル−し−アスパラギン酸無水物のも
のと一致した。また高速液体クロマ1−グラフィーによ
る分析の結果、純度93.0%であった。収率97.0
%。
実施例2
N−ホルミル−し−アスパラギン酸16.1g(0゜1
モル)をトルエン240gに懸濁し、ホスゲン5g/H
rを吹き込めながら50°Cで10時間反応させる。反
応後、乾燥窒素を吹き込むことによりホスゲンを除き、
析出している結晶を濾過、乾燥することにより13.1
gの結晶を得た。この結晶の赤外吸収スペクトルは、N
−ホルミル−し−アスパラギン酸無水物のものと一致し
、また高速液体クロマトグラフィーによる分析の結果、
純度96.0%であった。収率87.9%。
モル)をトルエン240gに懸濁し、ホスゲン5g/H
rを吹き込めながら50°Cで10時間反応させる。反
応後、乾燥窒素を吹き込むことによりホスゲンを除き、
析出している結晶を濾過、乾燥することにより13.1
gの結晶を得た。この結晶の赤外吸収スペクトルは、N
−ホルミル−し−アスパラギン酸無水物のものと一致し
、また高速液体クロマトグラフィーによる分析の結果、
純度96.0%であった。収率87.9%。
実施例3
N−第三ブトキシカルボニル−L−アスパラギンM 2
3.3g(0,1モル)をテトラヒドロフラン240g
に溶解し、ホスゲン5g/Hrを吹き込みながら10°
Cで10時間反応させる。反応後、実施例1と同様の操
作により23.0gの結晶を得た。この結晶の赤外吸収
スペクトルは、N−第三ブトキシカルボニル−L−アス
パラギン酸無水物のものと一致し、また高速液体クロマ
トグラフィーによる分析の結果、純度91.5%であっ
た。収率97.9%。
3.3g(0,1モル)をテトラヒドロフラン240g
に溶解し、ホスゲン5g/Hrを吹き込みながら10°
Cで10時間反応させる。反応後、実施例1と同様の操
作により23.0gの結晶を得た。この結晶の赤外吸収
スペクトルは、N−第三ブトキシカルボニル−L−アス
パラギン酸無水物のものと一致し、また高速液体クロマ
トグラフィーによる分析の結果、純度91.5%であっ
た。収率97.9%。
実施例4
N−1−リチルーし一アスパラギン酸3i、sg(o、
tモル)をテトラヒドロフラン240gに溶解し、ホス
ゲン5g/Hrを吹き込めながら10°Cで5時間反応
させる。反応後、乾燥窒素でホスゲンを除き、減圧下、
酢酸を除く。減圧下、室温で乾燥することにより36.
7gの結晶を得た。高速液体クロマトグラフィーによる
分析の結果、純度96.3%であった。収率99.0%
。
tモル)をテトラヒドロフラン240gに溶解し、ホス
ゲン5g/Hrを吹き込めながら10°Cで5時間反応
させる。反応後、乾燥窒素でホスゲンを除き、減圧下、
酢酸を除く。減圧下、室温で乾燥することにより36.
7gの結晶を得た。高速液体クロマトグラフィーによる
分析の結果、純度96.3%であった。収率99.0%
。
実施例5〜7
N−ヘンシルオキシカルボニル−し−アスパラギン酸2
6.7g(0,1モル)を表1に示した各有機溶媒24
0gに溶解、あるいは懸濁し、実施例1と同様の操作で
反応、単離を行った。結果を表1に示した。
6.7g(0,1モル)を表1に示した各有機溶媒24
0gに溶解、あるいは懸濁し、実施例1と同様の操作で
反応、単離を行った。結果を表1に示した。
表1
特許出願人 三井東圧化学株式会社
Claims (1)
- 1、N−保護アスパラギン酸を不活性有機溶媒中でホス
ゲンと反応させることによるN−保護アスパラギン酸無
水物の製造方法。
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11040388A JP2688210B2 (ja) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | N−保護アスパラギン酸無水物の製造法 |
CA000593914A CA1339658C (en) | 1988-03-22 | 1989-03-16 | Preparation of n-protected .alpha.-l-aspartyl-l-phenylalanine methyl ester |
EP89104832A EP0334236B1 (en) | 1988-03-22 | 1989-03-16 | Preparation of n-protected alpha-l-aspartyl-l-phenylalanine methyl ester |
AT89104832T ATE110740T1 (de) | 1988-03-22 | 1989-03-16 | Herstellung von alpha-1-aspartyl-1-phenylalanin- methylester mit geschütztem stickstoffatom. |
DE68917762T DE68917762T2 (de) | 1988-03-22 | 1989-03-16 | Herstellung von alpha-1-Aspartyl-1-phenylalanin-methylester mit geschütztem Stickstoffatom. |
NO89891243A NO891243L (no) | 1988-03-22 | 1989-03-21 | Fremgangsmaate ved fremstilling av en n-beskyttet alfa-l-aspartyl-l-fenylalaninmethylester. |
BR898901324A BR8901324A (pt) | 1988-03-22 | 1989-03-21 | Processos para a preparacao de um metil ester de alfa-l-aspartil-l-fenilalanina com n protegido,para a preparacao de um anidrido aspartico com n protegido e para a preparacao de anidrido n-benziloxicarbonil-l-aspartico |
KR1019890003589A KR910006287B1 (ko) | 1988-03-22 | 1989-03-22 | N-보호기-α-L-아스파르틸-L-페닐알라닌메틸에스테르의 제조방법 |
AU31620/89A AU605968B2 (en) | 1988-03-22 | 1989-03-22 | Preparation of n-protected alpha-l-aspartyl-l-phenylanla- nine methyl ester |
DK141289A DK141289A (da) | 1988-03-22 | 1989-03-22 | Fremgangsmaade til fremstilling af en n-beskyttet alfa-l-asparagyl-l-phenylalaninmethylester |
US07/823,538 US5302743A (en) | 1988-03-22 | 1992-01-21 | Preparation of N-protected α-L-aspartyl-L-phenylalanine methyl ester |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11040388A JP2688210B2 (ja) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | N−保護アスパラギン酸無水物の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01283282A true JPH01283282A (ja) | 1989-11-14 |
JP2688210B2 JP2688210B2 (ja) | 1997-12-08 |
Family
ID=14534914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11040388A Expired - Lifetime JP2688210B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-05-09 | N−保護アスパラギン酸無水物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2688210B2 (ja) |
-
1988
- 1988-05-09 JP JP11040388A patent/JP2688210B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2688210B2 (ja) | 1997-12-08 |
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