JPH01279593A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JPH01279593A
JPH01279593A JP10681288A JP10681288A JPH01279593A JP H01279593 A JPH01279593 A JP H01279593A JP 10681288 A JP10681288 A JP 10681288A JP 10681288 A JP10681288 A JP 10681288A JP H01279593 A JPH01279593 A JP H01279593A
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JP
Japan
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shaped
plate
suppressing plate
microwave
umbrella
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Pending
Application number
JP10681288A
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English (en)
Inventor
Yasushi Iwabuchi
岩淵 康司
Noriyuki Kanekawa
則之 金川
Mitsuhiro Aoyama
青山 光宏
Masaharu Tawada
多和田 正春
Kazuo Kaneko
一男 金子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Heating Appliances Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Heating Appliances Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Heating Appliances Co Ltd filed Critical Hitachi Heating Appliances Co Ltd
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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は食品を載置して回転する受皿を保持する回転台
の回転軸からの電波漏洩防止を計った高周波加熱装置に
関するものである。
(従来の技術) 従来のこの種の高周波加熱装置は、加熱室底面を貫通す
る金属性の回転軸をプラスチック製の上部軸受き焼結合
金による下部軸受で保持し、軸受保持具とパイプとで作
られる空洞部によっていわゆる同軸形のチョーク空洞を
形成して外部への電波漏洩を防止している。また加熱室
底面と回転軸との間にシリコーンゴム等で成形したパツ
キンを介在せしめて加熱室内からの水滴等の浸入を防止
している。(例えば実開昭61−178296号公報)
(発明が解決しようとする課題) 上記構成によると、外部への電波漏洩を防止することは
できるが、上部軸受やパツキンが大きなマイクロ波電力
に常に晒されている点については配慮がされていない。
回転軸々加熱室底面は運動線路を形成しているからマイ
クロ波は回転軸に沿って容易に漏出する。漏出したマイ
クロ波はテヨ−ク空洞によって反射されて再び加熱室内
に戻されるので、外部への漏洩は防げるが、上部軸受と
パツキン内をマイクロ波が通過することは避けられない
。特に、チョーク空洞の入口がこれらの近くにあるため
に反射による定在波の最大電界の位置に極めて近い場所
となる。上部軸受とパツキンは誘電体であるから大電界
内に置かれると誘電体損失によって発熱することは周知
の通りである。
また、パツキン付近に食品カスが付着したり、煮汁が固
化した場合、さらに回転摩耗によってパツキンと回転軸
の間に生じた隙間にこれらが入り込むと一層発熱は促進
されたり、スパークの発生原因ともなる。これらはいず
れも重大な危険をはらむものであるから十分な配慮が必
要である。
(課題を解決するための手段) 本発明は上記課題を解決するためになされたものであり
、′fi+−り空洞の入口に浸入するマイクロ波電力を
小さくシ、入口付近での発熱やスパークの発生を抑止し
た安全な高周波加熱装置を提供することを目的としてい
る。そこで、被加熱物を回転自在に載置する受皿と、こ
の受皿を着脱自在に保持する回転台と、この回転台に軸
受を連結するための連結板き、加熱室底面の貫通穴を介
して上記軸受に着脱自在に係合し2回転台に回転駆動力
を伝える回転軸とを備え、上記回転台と加熱室底面の隙
間を通って上記貫通穴に達するマイクロ波電力を低減す
る金属板から成る笠状抑止板を上記軸受に固着したもの
である。また、笠状抑止板の一部を回転台に向って切り
起こしてマイクロ波を反射するインピーダンス素子を形
成している。
(作  用) 上記のように構成したことにより、軸受の下部に固着し
た金属板から成る笠状抑止板は回転台と加熱室底面の隙
間に入り込んだマイクロ波電力を上下に分割し、笠状抑
止板と加熱室底面との間隔を小さくすればするほど笠状
抑止板と加熱室底面の隙間を通って加熱室底面の貫通穴
に達するマイクロ波電力を低減する。
さらに、笠状抑止板の一部を回転台に向かって切り起こ
して形成したインピーダンス素子は1回転台と共に回転
して加熱室内の電磁界分布を時間的に変化させると共に
、笠状抑止板と加熱室底面の間隔を小さく抑えられる。
(実 施 例) 以下本発明の一実施例を第1図乃至第6図により説明す
る。
図において、1は加熱室であり、そのほぼ中央に設けら
れた貫通穴2を金属製の回転軸3が貫通している。回転
軸3は連結板4を介して回転台7に取付けられた金属製
の軸受8に係合して1回転駆動源6の回転力を回転台7
に伝達し、かつ1回転台7を着脱自在に支承するもので
ある。回転台7は被加熱物を回転自在に載置する受皿6
を着脱自在に保持している。軸受8の下部より圧入して
取付けられた笠状抑止板9が本発明の実施例である。笠
状抑止板9は第2図に示すように金属製の笠状円板で、
加熱室底面1♂一定間隔を保って対面する形となってい
る。煮汁等が加熱室底面1から流れ落ちないようにする
ため貫通穴2の周囲を取り囲む突起部1a を設けるが
、この突起部1aにほぼ等間隔に沿って笠状抑止板9を
配設する。
笠状抑止板9の一部を回転台に向かって切り起こしてマ
イクロ波を反射するインピーダンス素子9a  を形成
している。1oは7g−り構造体でその内側にはパイプ
11 があり、この部分は回転軸3を内導体、パイプ1
1を外導体とする同軸線路を形成している。また、その
外側は2a  をチョーク入口とし、使用マイクロ波の
略1/4波長の長さLを持つチョーク空洞12を形成し
ている。
上記構成からなる本実施例の作用について説明する。
このような構造にすると漏洩しようきするマイクロ波の
経路は、まず笠状抑止板9と加熱室底面1の隙間から入
り込み1貫通穴2を通り、パイプ11  の内側の同軸
線路を伝播しようとするが、fヨーク空洞12のために
この同軸線路を伝播できず、f−ヨーク入口2aで反射
されて逆の経路をたどって加熱室内に戻される。すなわ
ち、経路は従来と変らない。しかしながら、加熱室底面
1と回転台7の隙間に入り込んだマイクロ波電力は笠状
抑止板9の上下に分離され、笠状抑止板9と加熱室底面
1との間隔hi を笠状抑止板9と回転台7との間隔h
2よりも小さくすればするほど、笠状抑止板9と加熱室
底面1の隙間に侵入するマイクロ波電力は低減すること
が実験的に確認されている。この電力が小さければ貫通
穴2やバイブ11の上端11a付近に固着した食品カス
等による発熱とスパークを抑止できる。
次に、笠状抑止板9が無い場合に加熱室内の電波の一部
が回転軸3を介して貫通穴2から外部方向(下方)へ漏
洩する様子について説明する。第3図は説明のため簡略
化した回転台7付近を示す図である。13は回転台7に
相当する上部導体であり、14は回転軸3に相当する導
体棒である。
また、15は加熱室底面1に対する下部導体で。
同軸人口16から下は導体棒14を内導体とする同軸線
路となっている。令弟3図右方から磁界17 と電界1
8で示すマイクロ波が到来したものとする。このような
マイクロ波の形状も概念的に簡略化して示したにすぎな
いが、上部導体13と下部導体15の間隔が使用マイク
ロ波の波長の半分以下であれば、電界18は図のように
上下の導体13.15に対して垂直な成分しか存在しな
いことは事実であり、したがって、a界17はこれを取
り巻いて上下の導体13.15に対して平行な成分しか
存在しないこととなる。その結果2両導体には20 、
20aおよび21,21aの矢印で示すような向きで電
界1Bを中心とする放射状に表面電流が流れることとな
る。このようなマイクロ波がさらに進行して、導体棒1
4に到達し、磁界17が導体棒14と交差したときの様
子を第4図に示す。
導体棒14を磁界17が取り巻くと電界18は消滅して
、その代りに導体棒14には22 、223で示すよう
な表面電流が流れる。導体棒14と上部導体13は電気
的に接続されているので1表面電流22.222は導体
棒14の軸を中心とする放射状に流れるのでその電流密
度iは半径方向の距離Rが増すに従って急激に低下し、
導体棒14の近傍が最も大きい。同様に、下部導体15
から導体棒14に向かって表面電流が流れようとするが
、上部導体13の場合と異なり、同軸人口16の部分は
導体ではないから表面電流は流れず、その代り変位電流
、すなわち電界23 、238が発生して同軸線路を下
方に伝播していく。この下方に伝播して行くマイクロ波
電力が第1図で述べた貫通穴2を通って下方に伝播しよ
うとするマイクロ波である。
そして、その電力の大きさは第4図で示したように2表
面電流の電流密度iが最も大きい所に同軸人口16があ
るのでかなり大きな電力である。なお第4図の下方の同
軸線路内には図示しないが電界23,232に対応する
磁界が導体棒14を取り巻く形で存在することと、内導
体と外導体の軸方向に表面電流が各々流れることは言う
までもない。
このように左右から到来したマイクロ波電力の一部は下
方へ伝播するが残りの電力は導体棒14に損失が無けれ
ば一部は左方に通過し、一部は反射して右方に戻され、
残りは導体14から再輻射して放射状に電力が放射され
る。
次に本発明の笠状抑止板9がある場合の漏洩について詳
しく説明する。第6図は第3図と同様に簡略化して示し
た図で、笠状抑止板9(簡単のため平板で示す。)が下
部導体16から間隔hlを保って導体棒14に取付けら
れている。第3図と同様に右方から磁界17.電界18
(第5図には示していない)が到来すると笠状抑止板9
で上下に2分割されて領域25と領域26に分けられて
進行し、各々導体棒14に到達する。到達した磁界27
 、28は導体棒14と交差して表面電流29゜29a
および30,30aが各々流れる。領域26側の表面電
流30,308によって、第4図で述べた如く。
その電力の一部は電界31 、312で示すように下方
の同軸線路へ伝播するが、領域25側の表面電流29.
298は下方の同軸線路には影響を与えず到達したマイ
クロ波電力は左方への通過、右方への反射および放射状
の再輻射が行われるだけである。
従って領域26内に進入するマイクロ波電力が小さけれ
ば下方へ伝播する電力も小さくすることができる。笠状
抑止板9と加熱室底面1との間隔をhl、笠状抑止板9
と回転台7との間隔をh2 とし。
上部導体13と下部導体15の間隔なHとすれば。
到来したマイクロ波は電磁界の形状から、その電力のり
、 /Hが領域26側に進行し、残りが25側に進行す
ることがわかる。すなわちh 1/ h 2  が小さ
いほど下方へ伝播する電力は小さくなる。
また回転台7と共に回転するインピーダンス素子9a 
により加熱室内の電磁界分布が時間的に変化するので、
受皿6と回転台7の接触面等のマイクロ波空焼時の異常
加熱、スパークを防止したり。
マイクロ波加熱調理中の加熱むらを低減することができ
る。
さらにインピーダンス素子9aが回転台7に向って突出
しているので、笠状抑止板9と加熱室底面1の間隔h1
 を小さく押えられ1貫通穴2へのマイクロ波侵入を十
分抑止できる。
これまで貫通穴2を貫通するものは金属に限って説明し
てきたが1本発明の効果は金属の場合にのみ限定される
ものではない。例えば、第1図の回転軸3が誘電体(例
えばセラミックス)の場合でも全く同様な効果が得られ
る。
(発明の効果) 以上本発明によれば、金属板からなる笠状抑止板を回転
台の軸受に固着し、笠状抑止板と加熱室底面との間隔を
笠状抑止板と回転式との間隔よりも小さくしたから2回
転台に回転駆動力を伝える回転軸が貫通している貫通穴
に入り込むマイクロ波電力が少なくなり貫通穴に設けた
チョーク空洞入口付近での異常加熱やスパークの発生を
長期間にわたって抑止する効果が有る。
さらに笠状抑止板の一部を回転台に向かって切り起こし
てマイクロ波を反射するインピーダンス素子を形成した
から、受皿と回転台の接触面等のマイクロ波空焼時の異
常加熱を防止したり、マイクロ波加熱調理中の加熱むら
な低減するとともに。
笠状抑止板と加熱室底面の間隔を小さく抑えられ。
貫通穴に侵入しようとするマイクロ波を十分抑止する効
果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す高周波加熱装置の要部
断面図、第2図は同笠状抑止板の平面図。 第3図、第4図、第5図は同作用説明用概略図。 第6図は同効果説明用特性図である。 1・・・加熱室底面、2・・・貫通穴、3910回転軸
、496.連結板、5・・・受皿、7・・・回転台、8
・・・軸受、9・・・笠状抑止板、 ga・・・インピ
ーダンス素子。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被加熱物を回転自在に載置する受皿(5)と、こ
    の受皿(5)を着脱自在に保持する回転台(7)と、こ
    の回転台(7)に軸受(8)を連結するための連結板(
    4)と、加熱室底面(1)の貫通穴(2)を介して上記
    軸受(8)に着脱自在に係合し、回転台(7)に回転駆
    動力を伝える回転軸(2)とを備え、上記回転台(7)
    と加熱室底面(1)の隙間を通って上記貫通穴(2)に
    達するマイクロ波電力を低減する金属板から成る笠状抑
    止板(9)を上記軸受(8)の下部に固着し、かつ笠状
    抑止板(9)の一部を切起こしてマイクロ波を反射する
    インピーダンス素子(9a)を形成したことを特徴とす
    る高周波加熱装置。
  2. (2)インピーダンス素子(9a)を回転台(7)に向
    って突出させて形成した請求項1記載の高周波加熱装置
JP10681288A 1988-04-29 1988-04-29 高周波加熱装置 Pending JPH01279593A (ja)

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JP10681288A JPH01279593A (ja) 1988-04-29 1988-04-29 高周波加熱装置

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JP10681288A JPH01279593A (ja) 1988-04-29 1988-04-29 高周波加熱装置

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JPH01279593A true JPH01279593A (ja) 1989-11-09

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ID=14443250

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JP10681288A Pending JPH01279593A (ja) 1988-04-29 1988-04-29 高周波加熱装置

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JP (1) JPH01279593A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6222170B1 (en) * 1999-08-24 2001-04-24 Ut-Battelle, Llc Apparatus and method for microwave processing of materials using field-perturbing tool

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6222170B1 (en) * 1999-08-24 2001-04-24 Ut-Battelle, Llc Apparatus and method for microwave processing of materials using field-perturbing tool

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