JPH01273014A - フォーカスずれの検知方法 - Google Patents

フォーカスずれの検知方法

Info

Publication number
JPH01273014A
JPH01273014A JP63101369A JP10136988A JPH01273014A JP H01273014 A JPH01273014 A JP H01273014A JP 63101369 A JP63101369 A JP 63101369A JP 10136988 A JP10136988 A JP 10136988A JP H01273014 A JPH01273014 A JP H01273014A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measured
detector
focus
wafer
led
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63101369A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2654962B2 (ja
Inventor
Masahiro Yamakawa
山川 雅博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP63101369A priority Critical patent/JP2654962B2/ja
Publication of JPH01273014A publication Critical patent/JPH01273014A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2654962B2 publication Critical patent/JP2654962B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 半導体露光装置での露光前に行われる像の焦点合わせ(
フォーカス合わせ)時に発生することがあるフォーカス
ずれを検知する方法に関し、露光に先立ち部分的フォー
カスずれを事前に検知できるフォーカスずれの検知方法
を提供することを目的とし、 検知用の光を被測定物の各位置に照射する発光部と、被
測定物からの反射光を検知するディテクタと、前記発光
部とディテクタとの光路上に配置された偏光板と、該偏
光板の傾きを検知する角度検知器とを用い、この角度検
知器(14a〜14d)の傾きにより前記被測定物の各
位置における高さを測定し、その結果をフォーカス機構
で得た高さデータと比較し、該被測定物(16)の平坦
度を検知することを特徴とするフォーカスずれの検知方
法を含み構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体露光装置での露光前に行われる像の焦
点合わせ(フォーカス合わせ)時に発生することがある
フォーカスずれを検知する方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、半導体装置製造において、例えば、ウェハなどに
微細パターンを露光するために、集積回路などのパター
ンを形成したレチクル像に対しウェハを繰り返しステッ
プして露光する投影露光装置が用いられている。
このような投影露光装置では、レチクル像が縮小投影レ
ンズで縮小されてウェハ表面にパターンが結像される。
このパターンの焦点を自動的に検出するためにオートフ
ォーカス検出機構が提供されている。
第5図は従来のオートフォーカス機構の一例を示す概略
構成図である。同図において、光源である発光ダイオー
ドLEI)1のからの光は、スリット2によりビーム状
に絞られ、振動板3により変調され、レンズ4を通して
ウェハ5表面の縮小投影レンズ6の焦点位置と同一の位
置に照射され、かつ焦点が合わされる。この照射光は反
射され、レンズ7を通してディテクタ8で検出される。
このディテクタ8の検出結果にもとすきステージ9が焦
点が合うよう上下方向に移動する。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の半導体露光装置においては、焦点の検知は、ウェ
ハ5表面の1箇所(1ポイント)で行っているため、ウ
ェハ5の傾きや凹凸などの平坦度不良による部分的なフ
ォーカスすれの検知は不可能であった。従って、露光に
先立って部分的なフォーカスずれを検知することができ
ず、露光後に発見されることがあった。このように、露
光後に部分的にフォーカスずれが発見された場合には、
再生となり、多くの時間と工程を要し多大な損害を被る
問題があった。
半導体露光装置では、近年のデバイスの微細化、大チッ
プ化に伴い、ウェハの凹凸による部分的なフォーカスず
れが顕著となっており、事前に見つけることが要求され
ている。
そこで、本発明は、露光に先立ち部分的フォーカスずれ
を事前に検知できるフォーカスずれの検知方法を提供す
ることを目的とする。
〔課題を解決する手段〕
上記課題は、検知用の光を被測定物の各位置に照射する
発光部と、被測定物からの反射光を検知するディテクタ
と、前記発光部とディテクタとの光路上に配置された偏
光板と、該偏光板の傾きを検知する角度検知器とを用い
、この角度検知器(14a〜14d)の傾きにより前記
被測定物の各位置における高さを測定し、その結果をフ
ォーカス機構で得た高さデータと比較し、該被測定物(
16)の平坦度を検知することを特徴とするフォーカス
ずれの検知方法によって解決される。
〔作用〕
第1図は本発明の原理説明回である。図において、11
a、11bはフォーカス検知に用いるための発光部とな
る2個のLED 、12a、12bは被測定物からの反
射光を受けるための2個のディテクタ、13a〜13d
は被測定物からの光をディテクタ12a、’12bへ入
れるための偏光板、14a〜14dはそれぞれ偏光板1
3a〜13dの傾きにより、被測定物の高さを相対的に
検知する角度検知器、15a〜15dは光を被、′宝物
にビーム状に当てるための(又は被測定物から受けるた
めの)レンズである。上記偏光板13a〜L3dは、角
度を変えることができ、それぞれのディテクタ12a、
12bに光を入れることができるまで動作する。これは
、第2図に示す如く、被測定物の高さが違う場合は、反
射光軸がすれるためである(第2図において、実線はず
れが無いとき、点線はずれたときを示す)。上記LED
11a、11bの光は被測定物であるウェハ16の所定
の4箇所(第1図において、(a)〜(d)に示される
1シヨツトで露光される4ポイント)に照射され、それ
ぞれの高さが角度検知器14a〜14dによる偏光板1
3a〜13dの角度として検出され、その傾きを被測定
物の高さとじて判断させるものである。すなわち本発明
では、従来からのフォーカス機構により焦点合わせを行
った後、まず、LED11aを発光させ、偏光板13a
、13bにより被測定物のポイント(a)、 (b)の
高さを測定する。次に、LEo11bを発光させ、偏光
板13c、 13dにより被測定物のポイン)(C)、
 (d)の高さを測定する。
その後、各偏光板13a〜13dの角度を各角度検知器
14a〜14dで読み取る。次に、従来からのフォーカ
ス値と各角度検知器14a〜14dの値を比較し、値の
異常なものがないか判断さゼる。もし、かけ離れた値が
見つかれば、露光装置の中央処理装置などに指示し警報
させる。従って、4ポイントで検出するため、部分的な
フォーカスずれの検知が可能になる。
〔実施例〕
以下、本発明を図示の一実施例により具体的に説明する
第3図は本発明実施例の半導体露光装置の構成図である
。なお、第1図に対応する部分は同一の符号を記す。同
図において、ウェハ16上には、半導体露光装置を構成
する縮小投影レンズ17が配置されている。この縮小投
影レンズ17の側部には、従来のオートフォーカス機構
として、光源であるLED18 、レンズ19,20 
、ディテクタ21などが配置されている。また、縮小投
影レンズ17の他の側部には、フォーカス検知に用いる
LED11a、11b  、ウェハ16からの反射光を
受けるディテクタ12a、12b、ウェハ16からの光
をディテクタ12.12bへ入れるための偏光板13a
〜13d、それぞれ偏光板13a〜13dの傾きにより
ウェハ16の高さを相対的に検知する角度検知器14a
〜14d、光をウェハ16にビーム状に当てるための(
又は被測定物から受けるための)レンズ15a〜15d
が配置されている。そして、従来のオートフォーカス機
構のディテクタ21と、角度検知器14a〜14dとの
それぞれの検知出力は、比較器22においてデフォーカ
ス(フォーカスずれ)があるかどうか判断され、その比
較結果が半導体露光装置の図示しない中央処理装置(C
PII)に与え−られる。
次に、上記構成によるフォーカスずれの検知方法につい
て説明する。
第4図は本発明実施例のフォーカスずれの検知方法を示
すフローチャートである。
まず、従来のオートフォーカス検出機構を構成するLE
018 、レンズ19,20 、ディテクタ21などに
)         よりフォーカス合わせを行う(ス
テップ5TI)。
次に、LED11aと、ディテクタ12aと、偏光板1
3a。
13bと、角度検知器14a、14bとにより、ウェハ
16上のポイント(a)、 (b)の高さを測定する(
ステップ5T2)。また、LEo11bと、ディテクタ
12bと、偏光板13c、13dと、角度検知器14c
、 14dとにより、ウェハ16上のポイント(CL 
(d)の高さを測定する (ステップ5T3)。
次に、上記ポイン1〜(a)〜(d)の測定結果と従来
のディテクタ21による測定結果とを比較器22により
比較する(ステップ5T4)。そして、その比較結果に
よりデフォーカス(フォーカスずれ)があるかどうか判
断しくステップ5T5)、ある場合には中央処理装置に
指示を与え、ない場合には露光を行う=8= このようにして、1シヨツトごとにフォーカスずれを検
出して露光を行う。中央処理装置は、フォーカスずれが
ある場合には、露光を中止してアラームを報知したり、
あるいはその位置を記憶して次の露光に進んだりなどの
処置を行う。
以上の方法により、露光に先立ってウェハ16の傾きや
凹凸などの平坦度不良による部分的なフォーカスずれを
検知することができ、露光後に部分的にフォーカスすれ
が発見されることによる再生がなくなる。
また、他の実施例は上記露光装置においてディテクタ1
2a、12bをそれぞれ2つ組にして設置したものであ
る。
このようにすれば、前述の実施例では、LED11aと
ディテクタ12a、及びLED11bとディテクタ12
bにより2回に分けて高さ測定を行っていたが、それぞ
れは同時に高さ測定ができる(第4図のステップST2
とステップST3を1ステツプにする)。
従って、作業の能率向上ができる。
なお、本発明においては、LED11a、11bなどの
発先部からウェハ16などの被測定物上の各位置に光を
照射し、この反射光をディテクタ12a、12bにより
検知し、光路上の偏光板13a〜13dの角度を角度検
知器14a〜14dにより検知し、各位置における高さ
を測定すればよい。各位置における高さと、フォーカス
機構の高さデータとを比較し、かけ離れた値であれば被
測定物が平坦でないことをしめしており、この値は被測
定物の測定精度により任意の値にできる。
〔発明の効果〕
以上説明のに本発明によれば、従来からのフォーカス機
構により焦点合わせを行った後、被測定物の他のポイン
トの高さを測定することにより、露光に先立ち部分的な
ウェハの凹凸が検知でき、露光後に発見されることによ
る再生が大幅に減少する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理説明図、 第2図は第1図における反射光軸のずれを示す図、 第3図は本発明実施例の構成図、 第4図は本発明実施例のフォーカスずれの検知方法を示
すフローチャート、 第5図は従来のオートフォーカス機構を示す概略構成図
である。 図中、 11、11a、 11bは1.ED 。 12.12a、 12bばディテクタ、13a〜13d
は偏光板、 14a〜14dは角度検知器、 15a−15dはレンズ、 16はウェハ、 17は縮小投影レンズ、 18はLED 。 19.20はレンズ、 21はディテクタ、 22は比較器22 を示す。 特許出願人   富士通株式会社 代理人弁理士  久木元   彰 −百

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 検知用の光を被測定物(16)の各位置に照射する発光
    部(11a、11b)と、 被測定物(16)からの反射光を検知するディテクタ(
    12a、12b)と、 前記発光部(11a、11b)とディテクタ(12a、
    12b)との光路上に配置された偏光板(13a〜13
    d)と、該偏光板(13a〜13d)の傾きを検知する
    角度検知器(14a〜14d)とを用い、この角度検知
    器(14a〜14d)の傾きにより前記被測定物(16
    )の各位置における高さを測定し、その結果をフォーカ
    ス機構で得た高さデータと比較し、該被測定物(16)
    の平坦度を検知することを特徴とするフォーカスずれの
    検知方法。
JP63101369A 1988-04-26 1988-04-26 フォーカスずれの検知方法 Expired - Fee Related JP2654962B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63101369A JP2654962B2 (ja) 1988-04-26 1988-04-26 フォーカスずれの検知方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63101369A JP2654962B2 (ja) 1988-04-26 1988-04-26 フォーカスずれの検知方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01273014A true JPH01273014A (ja) 1989-10-31
JP2654962B2 JP2654962B2 (ja) 1997-09-17

Family

ID=14298907

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63101369A Expired - Fee Related JP2654962B2 (ja) 1988-04-26 1988-04-26 フォーカスずれの検知方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2654962B2 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60122359A (ja) * 1984-07-04 1985-06-29 Hitachi Ltd 光学検査装置
JPS61155910A (ja) * 1984-12-28 1986-07-15 Daihatsu Motor Co Ltd 傾斜角度検出装置
JPS6347774A (ja) * 1986-08-15 1988-02-29 Nec Kyushu Ltd 縮小投影型転写装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60122359A (ja) * 1984-07-04 1985-06-29 Hitachi Ltd 光学検査装置
JPS61155910A (ja) * 1984-12-28 1986-07-15 Daihatsu Motor Co Ltd 傾斜角度検出装置
JPS6347774A (ja) * 1986-08-15 1988-02-29 Nec Kyushu Ltd 縮小投影型転写装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2654962B2 (ja) 1997-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3634068B2 (ja) 露光方法及び装置
JPH06216004A (ja) ベストフォーカス位置の算出方法
JPS61196532A (ja) 露光装置
JPH0145736B2 (ja)
JP4365908B2 (ja) 面位置検出装置、露光装置およびデバイス製造方法
KR970062817A (ko) 노광장치
US6444995B1 (en) Focussing method and system of exposure apparatus
JPH0927445A (ja) ショットマップ作成方法
JP3518826B2 (ja) 面位置検出方法及び装置並びに露光装置
JPH01273014A (ja) フォーカスずれの検知方法
JPH04116414A (ja) 自動焦点合せ装置
JPH07201713A (ja) 露光装置及び露光方法
JPH05256621A (ja) パターン位置測定装置
US7394523B2 (en) Exposure apparatus and method of controlling exposure apparatus
JP3547554B2 (ja) 露光時のウェハ傾き検出方法
JPH1116822A (ja) 露光方法及び露光装置
JPS6180212A (ja) 自動焦点検出機構
JP2006024681A (ja) 位置計測装置及び方法並びに露光装置及び方法
KR20050103326A (ko) 레벨링 장치
KR100589108B1 (ko) 패터닝 에러를 방지할 수 있는 노광장치
JPH0412523A (ja) 位置検出装置
JP3118786B2 (ja) 重ね合せ精度測定機
JPH09293660A (ja) 投影露光装置
JP2023077924A (ja) 露光装置、露光方法、および物品製造方法
KR20030006829A (ko) 반도체 웨이퍼 레벨링 장치 및 그것을 구비하는 노광 장치

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees