JPH01271707A - 紫外線カットフィルタの製法 - Google Patents
紫外線カットフィルタの製法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、紫外線を特異的にカットする紫外線カット
フィルタの製法に関する。
フィルタの製法に関する。
従来、水銀灯等を用いた照明器具のカバーガラスやメガ
ネ用レンズ、ビルの窓ガラス等において、ランプ光や自
然光中に含まれる紫外線から人体(特に目)および被照
射物を保護するため、紫外線カツトフィルタが用いられ
ている。とりわけ最近では、照明の光源として、高輝度
化のためにI]Qlランプ(高輝度放電灯;H:水銀灯
、Q:高圧放電灯、■:ヨウ化物混合放電灯)が使用さ
れるようになっているが、このHQIランプにおいても
、使用時に発せられる紫外線をカッl−L、被照射物の
変色、変質等を防ぐ働きをする紫外線カツトフィルタが
必要とされている。
ネ用レンズ、ビルの窓ガラス等において、ランプ光や自
然光中に含まれる紫外線から人体(特に目)および被照
射物を保護するため、紫外線カツトフィルタが用いられ
ている。とりわけ最近では、照明の光源として、高輝度
化のためにI]Qlランプ(高輝度放電灯;H:水銀灯
、Q:高圧放電灯、■:ヨウ化物混合放電灯)が使用さ
れるようになっているが、このHQIランプにおいても
、使用時に発せられる紫外線をカッl−L、被照射物の
変色、変質等を防ぐ働きをする紫外線カツトフィルタが
必要とされている。
このような紫外線カツトフィルタとしては、従来、以下
のようなものが用いられてきた。
のようなものが用いられてきた。
■ 紫外線カツトガラス;ガラス組成中にCe、V、F
e、Pb、”r’i等の紫外線を吸収する元素を混入さ
せたもの。たとえば、CeO,、VzOs 、Fe20
x 、PbO,Ti0z等の紫外線吸収剤をガラス組成
に添加し、溶融、成形することにより作製される。
e、Pb、”r’i等の紫外線を吸収する元素を混入さ
せたもの。たとえば、CeO,、VzOs 、Fe20
x 、PbO,Ti0z等の紫外線吸収剤をガラス組成
に添加し、溶融、成形することにより作製される。
■ 紫外線カツト多層干渉膜(多重干渉膜);第2図に
みるように、ガラス等の透明基材1表面に、互いに屈折
率の異なる2種類の物質(たとえば、金属酸化物;Tl
0z、SiO□等)からなる誘電体薄膜(光学的厚さλ
/4)4および5が交互に何層も積層されてなるもの。
みるように、ガラス等の透明基材1表面に、互いに屈折
率の異なる2種類の物質(たとえば、金属酸化物;Tl
0z、SiO□等)からなる誘電体薄膜(光学的厚さλ
/4)4および5が交互に何層も積層されてなるもの。
■ 紫外線吸収剤含有塗膜;透明性のある塗料中に有機
または無機の紫外線吸収剤を分散させたものを、基材に
塗布してなるもの。
または無機の紫外線吸収剤を分散させたものを、基材に
塗布してなるもの。
しかしながら、上記の従来技術には、いずれも一長一短
があって、それぞれに下記のような問題点が残されてい
た。
があって、それぞれに下記のような問題点が残されてい
た。
はじめに、上記■の紫外線カツトガラスでは、ガラス自
体の組成を変えなければならないためコストが高くつく
、という問題がある。さらに、この紫外線カットガラス
作製中に、ガラス内に不純物やゴミ等が混入することが
多く、その結果、たとえばこれを照明器具に使用した場
合には、ランプの熱による熱衝撃でガラスが自爆してし
まう恐れがある。また、上記のような紫外線吸収元素(
あるいは紫外線吸収剤)が含まれているために、可視光
線の吸収が生じてガラス生地が着色し、可視光域の透過
率が低下してしまう。
体の組成を変えなければならないためコストが高くつく
、という問題がある。さらに、この紫外線カットガラス
作製中に、ガラス内に不純物やゴミ等が混入することが
多く、その結果、たとえばこれを照明器具に使用した場
合には、ランプの熱による熱衝撃でガラスが自爆してし
まう恐れがある。また、上記のような紫外線吸収元素(
あるいは紫外線吸収剤)が含まれているために、可視光
線の吸収が生じてガラス生地が着色し、可視光域の透過
率が低下してしまう。
■の紫外線カツト多層干渉膜(第2図)は、近年、多用
されるようになってきたものであるが、第1に、基材表
面に凹凸があるものには、この多層膜を形成できない、
あるいは、形成できても効果が得られない、という問題
がある。すなわち、この多層干渉膜の場合は、積層され
た各層の膜厚が所定の値から少しでも外れると、可視域
の透過率低下あるいは紫外域のカット率の低下につなが
ってしまうため、厳密に所定の膜厚のものを均一に積層
する必要がある。ところが、基材表面に凹凸があると、
たとえば膜形成に有機金属浸漬焼成法(ディッピング法
)を採用した場合、開部分に塗料が溜まって所定の膜厚
を付けることができなかったり、また物理的蒸着法を採
用した場合は、表面凹凸に応して膜厚にバラツキが生じ
たり、あるいは凹凸が陰になって、蒸着物質が付着する
部分としない部分ができてしまったりするため、所期の
効果が得られなくなってしまうのである。第2には、膜
作製のための物理的または化学的蒸着法等を実施する際
の設備コストが高いことから、製造コストも高価になっ
てしまうことに加え、多層干渉膜にするための積層が相
当数必要であって、工数がかかる、という難点がある。
されるようになってきたものであるが、第1に、基材表
面に凹凸があるものには、この多層膜を形成できない、
あるいは、形成できても効果が得られない、という問題
がある。すなわち、この多層干渉膜の場合は、積層され
た各層の膜厚が所定の値から少しでも外れると、可視域
の透過率低下あるいは紫外域のカット率の低下につなが
ってしまうため、厳密に所定の膜厚のものを均一に積層
する必要がある。ところが、基材表面に凹凸があると、
たとえば膜形成に有機金属浸漬焼成法(ディッピング法
)を採用した場合、開部分に塗料が溜まって所定の膜厚
を付けることができなかったり、また物理的蒸着法を採
用した場合は、表面凹凸に応して膜厚にバラツキが生じ
たり、あるいは凹凸が陰になって、蒸着物質が付着する
部分としない部分ができてしまったりするため、所期の
効果が得られなくなってしまうのである。第2には、膜
作製のための物理的または化学的蒸着法等を実施する際
の設備コストが高いことから、製造コストも高価になっ
てしまうことに加え、多層干渉膜にするための積層が相
当数必要であって、工数がかかる、という難点がある。
加えて、異種の薄膜を交互に積層するため、互いの膨張
率の違いから、耐熱衝撃性に劣り、積層膜にクラックが
生じやすい、という問題もある。
率の違いから、耐熱衝撃性に劣り、積層膜にクラックが
生じやすい、という問題もある。
■の紫外線吸収剤含有塗膜には、分散される紫外線吸収
剤として有機系のものが用いられることが多いが、この
有機系の吸収剤は、使用に伴って光源等の熱あるいは紫
外線により劣化して、紫外線吸収作用を失ってしまう、
という問題を有している。他方、無機系の紫外線吸収剤
は、可視光域にも大きな不透過ピークがある(つまり、
膜が着色しでいる)ことから、実用的でない。
剤として有機系のものが用いられることが多いが、この
有機系の吸収剤は、使用に伴って光源等の熱あるいは紫
外線により劣化して、紫外線吸収作用を失ってしまう、
という問題を有している。他方、無機系の紫外線吸収剤
は、可視光域にも大きな不透過ピークがある(つまり、
膜が着色しでいる)ことから、実用的でない。
以上の事情に鑑み、この発明は、可視光領域の光透過率
は高いが紫外線の透過率は極めて低く、かつ、耐熱衝撃
性、耐候性等に優れ、基材の表面性状等にも制約を受け
ない紫外線カットフィルタの製法を提供することを課題
とする。
は高いが紫外線の透過率は極めて低く、かつ、耐熱衝撃
性、耐候性等に優れ、基材の表面性状等にも制約を受け
ない紫外線カットフィルタの製法を提供することを課題
とする。
上記課題を解決するため、この発明は、透明基材の少な
くとも片面に酸化亜鉛からなる薄膜が設けられている紫
外線カツトフィルタを得るにあたり、亜鉛化合物を下記
(Al−(ト));(A) 芳香族系炭化水素類 03) アルコール類 (C) ケトン類 (Di 精油系テルペン炭化水素類 (E)含窒素化合物 のいずれかに属する化合物のうちの少なくとも1種を含
む溶剤に溶かして得られるコーティング液を前記基材上
に塗布した後、焼付けるようにしている。
くとも片面に酸化亜鉛からなる薄膜が設けられている紫
外線カツトフィルタを得るにあたり、亜鉛化合物を下記
(Al−(ト));(A) 芳香族系炭化水素類 03) アルコール類 (C) ケトン類 (Di 精油系テルペン炭化水素類 (E)含窒素化合物 のいずれかに属する化合物のうちの少なくとも1種を含
む溶剤に溶かして得られるコーティング液を前記基材上
に塗布した後、焼付けるようにしている。
コーティング液中の亜鉛化合物(有機系あるいは無機系
)は、焼付け(焼成)により酸化されて酸化亜鉛を生じ
、基材上には均一な酸化亜鉛薄膜が形成される。この酸
化亜鉛は、380nm以下の紫外域の光透過率はほぼ0
%であるが、可視光線の吸収はなく、この領域の光透過
率は非常に高い、という特性を有している。したがって
、得られる紫外線カットフィルタは、極めて高度な紫外
線カツト性能(紫外線カット率98〜99%以上)およ
び可視光線透過性能(可視光域透過率低下5%以内)を
備えたものとなる。この両特性は、基材の表面性状の影
響を受けることなく、たとえば、サンドプラス1〜処理
等を受けた凹凸のあるガラス板上においても、何ら低下
することなく発揮される。
)は、焼付け(焼成)により酸化されて酸化亜鉛を生じ
、基材上には均一な酸化亜鉛薄膜が形成される。この酸
化亜鉛は、380nm以下の紫外域の光透過率はほぼ0
%であるが、可視光線の吸収はなく、この領域の光透過
率は非常に高い、という特性を有している。したがって
、得られる紫外線カットフィルタは、極めて高度な紫外
線カツト性能(紫外線カット率98〜99%以上)およ
び可視光線透過性能(可視光域透過率低下5%以内)を
備えたものとなる。この両特性は、基材の表面性状の影
響を受けることなく、たとえば、サンドプラス1〜処理
等を受けた凹凸のあるガラス板上においても、何ら低下
することなく発揮される。
さらに、酸化亜鉛薄膜は、優れた耐熱衝撃性。
耐候性、耐久性等を有している。
原料となる亜鉛化合物は、分子中に亜鉛を含んだ化合物
であれば、有機系、無機系のいずれであってもよく、特
に限定はされない。たとえば、有機系のものとしては、 ■ オクチル酸亜鉛、2−エチルヘキサン酸亜鉛。
であれば、有機系、無機系のいずれであってもよく、特
に限定はされない。たとえば、有機系のものとしては、 ■ オクチル酸亜鉛、2−エチルヘキサン酸亜鉛。
ナフテン酸亜鉛等のカルボン酸塩(金属石鹸)、■ ア
セチルアセトナト亜鉛等のキレート化合物(錯体)、 ■ 各種亜鉛アルコキシド、 ■ ジアルキル亜鉛、ジフェニル亜鉛等の有機亜鉛化合
物、 等が、好ましい一例として挙げられる。無機系のものと
しては、硝酸亜鉛、塩化亜鉛等の一般的な塩を用いるこ
とができる。これらの亜鉛化合物は、単独で用いてもよ
いし、複数種を併用してもよい。
セチルアセトナト亜鉛等のキレート化合物(錯体)、 ■ 各種亜鉛アルコキシド、 ■ ジアルキル亜鉛、ジフェニル亜鉛等の有機亜鉛化合
物、 等が、好ましい一例として挙げられる。無機系のものと
しては、硝酸亜鉛、塩化亜鉛等の一般的な塩を用いるこ
とができる。これらの亜鉛化合物は、単独で用いてもよ
いし、複数種を併用してもよい。
上記亜鉛化合物を溶かず溶剤としては、下記(Al−(
む 囚 芳香族系炭化水素類(ベンゼン、トルエン。
む 囚 芳香族系炭化水素類(ベンゼン、トルエン。
キシレン、シメン、ナフタレン等)
03) アルコール類(イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール等) (a ケトン類(アセI〜ン、アセチルアセトン、ジエ
チルケトン等) tDl 精油系テルペン炭化水素類(ジペンテン、α
−ピネン、テレピン油、ミルセン等) (転))含窒素化合物(ピリジン、キノリン等の窒素複
素環化合物、各種アミン類等) のいずれかに属する化合物のうちの少なくとも1種を含
むものを用いる。これらは、溶質である亜鉛化合物の熔
解性、沸点、基材に対する濡れ性などの点から選ばれた
ものである。さらに、高温(E00℃以上程度)で亜鉛
化合物と反応、もしくは溶剤自身が重合してタール状に
なり、塗膜を形成することもできる。なお、上記+A1
〜(転)の化合物が、各々、括弧内に示された具体例に
限定されないことは言うまでもない。
チルアルコール等) (a ケトン類(アセI〜ン、アセチルアセトン、ジエ
チルケトン等) tDl 精油系テルペン炭化水素類(ジペンテン、α
−ピネン、テレピン油、ミルセン等) (転))含窒素化合物(ピリジン、キノリン等の窒素複
素環化合物、各種アミン類等) のいずれかに属する化合物のうちの少なくとも1種を含
むものを用いる。これらは、溶質である亜鉛化合物の熔
解性、沸点、基材に対する濡れ性などの点から選ばれた
ものである。さらに、高温(E00℃以上程度)で亜鉛
化合物と反応、もしくは溶剤自身が重合してタール状に
なり、塗膜を形成することもできる。なお、上記+A1
〜(転)の化合物が、各々、括弧内に示された具体例に
限定されないことは言うまでもない。
上記溶剤は、上記化合物のうちの1種からなる単独溶剤
でもよいが、それが低沸点溶剤の場合にば、形成される
膜が白濁する恐れもあるため、必要に応じて、適宜、高
沸点溶剤との混合溶剤を調整して用いることが好ましい
。これらの手狭/混合溶剤の沸点は、たとえば、100
〜200℃程度であることが好ましいが、これに限定さ
れることはない。
でもよいが、それが低沸点溶剤の場合にば、形成される
膜が白濁する恐れもあるため、必要に応じて、適宜、高
沸点溶剤との混合溶剤を調整して用いることが好ましい
。これらの手狭/混合溶剤の沸点は、たとえば、100
〜200℃程度であることが好ましいが、これに限定さ
れることはない。
また、溶剤沸点を上げるという上記同様の理由から、上
記(A)〜(E)以外の溶剤として、不飽和脂肪酸(た
とえば、オレイン酸、リノール酸等)を−部添加するこ
とも好ましい。その場合の添加量についても、上記(A
)〜(E)の主となる溶剤の種類等に応じて適宜設定さ
れることが好ましく、特に限定はされないが、たとえば
、コーティング液全体に対し、10〜20重量%程度含
まれていることが好ましい。
記(A)〜(E)以外の溶剤として、不飽和脂肪酸(た
とえば、オレイン酸、リノール酸等)を−部添加するこ
とも好ましい。その場合の添加量についても、上記(A
)〜(E)の主となる溶剤の種類等に応じて適宜設定さ
れることが好ましく、特に限定はされないが、たとえば
、コーティング液全体に対し、10〜20重量%程度含
まれていることが好ましい。
コーティング液の濃度は、特に限定はされないが、おお
よその目安として、ZnO濃度換算で5重量%前後であ
ることが最も好ましい。あまり濃度が高いと、得られる
膜が白濁したり、剥離したりする恐れがあり、一方、あ
まり低すぎるようでは、紫外線をカットするために必要
とされる所定な膜厚が得られない傾向が見られる。
よその目安として、ZnO濃度換算で5重量%前後であ
ることが最も好ましい。あまり濃度が高いと、得られる
膜が白濁したり、剥離したりする恐れがあり、一方、あ
まり低すぎるようでは、紫外線をカットするために必要
とされる所定な膜厚が得られない傾向が見られる。
以上のようにして調製される、この発明におけるコーテ
ィング液には、さらに、必要に応じて、その他の各種添
加剤が含まれていてもよい。たとえば、基材への塗布状
態を向上させるために、スクリーン油等のレベリング剤
を添加することも好ましい。
ィング液には、さらに、必要に応じて、その他の各種添
加剤が含まれていてもよい。たとえば、基材への塗布状
態を向上させるために、スクリーン油等のレベリング剤
を添加することも好ましい。
透明幕村上へのコーティング液の塗布(塗装)方法は、
特に限定はされず、要は均一な塗膜が得られればよい。
特に限定はされず、要は均一な塗膜が得られればよい。
たとえば、コーティング液中に基材を浸漬し、それを一
定速度で引き上げたのち乾燥して焼成を行う、ディッピ
ング法(有機金属浸漬焼成法)等により実施することが
好ましい。もちろん、その他の方法(たとえば、静電塗
装、スプレー塗装等)を採用することもできる。
定速度で引き上げたのち乾燥して焼成を行う、ディッピ
ング法(有機金属浸漬焼成法)等により実施することが
好ましい。もちろん、その他の方法(たとえば、静電塗
装、スプレー塗装等)を採用することもできる。
焼付は条件(温度1時間等)についても、特に限定され
ることはなく、用いる亜鉛化合物、溶剤等に応じて、適
宜設定されることが好ましい。具体的に例を示すと、上
記のような亜鉛化合物を用いる場合、470℃以上の温
度で、30〜60分間程度の焼付けを行うことが一般的
に好ましい。
ることはなく、用いる亜鉛化合物、溶剤等に応じて、適
宜設定されることが好ましい。具体的に例を示すと、上
記のような亜鉛化合物を用いる場合、470℃以上の温
度で、30〜60分間程度の焼付けを行うことが一般的
に好ましい。
これにより、亜鉛化合物の分解、酸化反応が完全に行わ
れ、その結果、基材上に透明な酸化亜鉛薄膜が形成され
る。
れ、その結果、基材上に透明な酸化亜鉛薄膜が形成され
る。
酸化亜鉛薄膜の膜厚は、特に限定はされないが、充分な
紫外線カツト効果が得られるために、500Å以上(乾
燥膜厚;以下同様)であることが好ましい。ここで、こ
の酸化亜鉛薄膜は、単層構造であってもよいし、何層も
積層された多層構造となっていてもよい。このように、
薄膜の積層数は1層に限定されるものではないため、た
とえば、INでは紫外線カット効率が低い(膜が薄ずぎ
る)場合などには、何層も積層して多層膜にして厚みを
かせぐこともできる。そして、そのようにして得られた
酸化亜鉛薄膜全体の厚みが500Å以上であれば、この
発明における効果が充分に得られるのである。また、1
層の膜厚は、3000Å以下程度であることが好ましく
、これを越えると、薄膜にクラックが生じたり、基材と
の密着性が低下して剥離が起こったりする恐れがある。
紫外線カツト効果が得られるために、500Å以上(乾
燥膜厚;以下同様)であることが好ましい。ここで、こ
の酸化亜鉛薄膜は、単層構造であってもよいし、何層も
積層された多層構造となっていてもよい。このように、
薄膜の積層数は1層に限定されるものではないため、た
とえば、INでは紫外線カット効率が低い(膜が薄ずぎ
る)場合などには、何層も積層して多層膜にして厚みを
かせぐこともできる。そして、そのようにして得られた
酸化亜鉛薄膜全体の厚みが500Å以上であれば、この
発明における効果が充分に得られるのである。また、1
層の膜厚は、3000Å以下程度であることが好ましく
、これを越えると、薄膜にクラックが生じたり、基材と
の密着性が低下して剥離が起こったりする恐れがある。
さらに、多層構造にする場合でも、可視光線の透過率低
下を防止するために、最終的な全体の膜厚は、5000
Å以下程度にしておくことが適切であ1す るが、これに限定されることはない。
下を防止するために、最終的な全体の膜厚は、5000
Å以下程度にしておくことが適切であ1す るが、これに限定されることはない。
第1図は、以上のようにして製造された紫外線カツトフ
ィルタの一実施例の断面を、模式的にあられしている。
ィルタの一実施例の断面を、模式的にあられしている。
同図(a)にみるように、この発明の紫外線カットフィ
ルタにおいて、酸化亜鉛薄膜2は、ガラス等の任意の透
明基材1の片面に形成されていてもよいし、同図(b)
にみるように、基材1の両面に形成されていてもよい。
ルタにおいて、酸化亜鉛薄膜2は、ガラス等の任意の透
明基材1の片面に形成されていてもよいし、同図(b)
にみるように、基材1の両面に形成されていてもよい。
さらに、第1図(C1にみるように、この酸化亜鉛薄膜
2上に重ねて、SiO□、Al□Ox 、 M gF2
等からなる透明保護膜3を形成してもよい。
2上に重ねて、SiO□、Al□Ox 、 M gF2
等からなる透明保護膜3を形成してもよい。
それにより、酸化亜鉛薄膜2単独の場合よりも表面硬度
を向上させることができ、清掃時等に傷が入るような心
配も解消される。また、酸化亜鉛は両性酸化物であって
、酸性、アルカリ性のいずれの溶液にも可溶であるが、
この透明保護膜3を積層することにより、紫外線カツト
フィルタの耐薬品性(耐酸性、耐アルカリ性)を向上さ
せることも可能となる。さらに、基材1上に酸化亜鉛薄
膜2が設けられた場合、未処理ガラスに比べて、可視光
線透過率がやや低下する傾向が見られるが、酸化亜鉛薄
膜2よりも屈折率の小さい同透明保護膜3が積層される
ことにより、反射防止膜の効果が得られ、可視光線透過
率が向上する、という利点もある。
を向上させることができ、清掃時等に傷が入るような心
配も解消される。また、酸化亜鉛は両性酸化物であって
、酸性、アルカリ性のいずれの溶液にも可溶であるが、
この透明保護膜3を積層することにより、紫外線カツト
フィルタの耐薬品性(耐酸性、耐アルカリ性)を向上さ
せることも可能となる。さらに、基材1上に酸化亜鉛薄
膜2が設けられた場合、未処理ガラスに比べて、可視光
線透過率がやや低下する傾向が見られるが、酸化亜鉛薄
膜2よりも屈折率の小さい同透明保護膜3が積層される
ことにより、反射防止膜の効果が得られ、可視光線透過
率が向上する、という利点もある。
上記透明保護膜の形成は、電子ビーム等を用いた真空蒸
着、スパンタリング、イオンブレーティング等の各種物
理的蒸着法(PVD) 、化学的蒸着法(CVD)、あ
るいはディッピング法などの一般的方法により行われ、
特に限定はされない。
着、スパンタリング、イオンブレーティング等の各種物
理的蒸着法(PVD) 、化学的蒸着法(CVD)、あ
るいはディッピング法などの一般的方法により行われ、
特に限定はされない。
その膜厚は、上記のように可視光線の透過率を増加させ
るために、700〜1200人程度であることが最も適
切である。
るために、700〜1200人程度であることが最も適
切である。
第3図には、未処理並板ガラス(実線)、ZnO薄膜形
成ガラス(破線)、ZnO薄膜およびSiO2透明保護
膜形成ガラス(−点鎖線)の分光透過率特性をそれぞれ
示す。同図にみるように、ZnO薄膜が形成されたガラ
スは、波長380nm以下の紫外線を非常に良くカット
している。また、ZnO薄膜上に透明保護膜を設けた場
合は、可視光線透過率も一層良好なものとなっている。
成ガラス(破線)、ZnO薄膜およびSiO2透明保護
膜形成ガラス(−点鎖線)の分光透過率特性をそれぞれ
示す。同図にみるように、ZnO薄膜が形成されたガラ
スは、波長380nm以下の紫外線を非常に良くカット
している。また、ZnO薄膜上に透明保護膜を設けた場
合は、可視光線透過率も一層良好なものとなっている。
なお、この発明における酸化亜鉛としては、通常は、Z
nO組成のものを用いることが好ましいが、これに限定
されることはなく、ZnzO等の酸化形態の異なるもの
を併せて、または単独で用いることもできる。また、透
明基材としても、特に限定されることはなく、任意の形
状および表面性状を有する一般的な各種ガラスなどが、
自由に選択されうる。
nO組成のものを用いることが好ましいが、これに限定
されることはなく、ZnzO等の酸化形態の異なるもの
を併せて、または単独で用いることもできる。また、透
明基材としても、特に限定されることはなく、任意の形
状および表面性状を有する一般的な各種ガラスなどが、
自由に選択されうる。
つぎに、さらに具体的な実施例を、比較例と併せて説明
する。
する。
一実施例1−
縦横100++m、厚さ4龍のガラス板を充分に洗浄し
、これを基材とした。
、これを基材とした。
下記成分からなるコーティング?&(以下、%は重量%
をあられす); を調製し、その中に上記基材を浸漬し、毎分300m1
の速度で引き上げた後、150℃×10分間の乾燥、つ
いで500℃×30分の焼成を行って、酸化亜鉛薄膜を
得た(第1図(al参照)。
をあられす); を調製し、その中に上記基材を浸漬し、毎分300m1
の速度で引き上げた後、150℃×10分間の乾燥、つ
いで500℃×30分の焼成を行って、酸化亜鉛薄膜を
得た(第1図(al参照)。
一実施例2−
下記配合からなるコーティング液;
を用いるようにする他は、上記実施例1と同様にしてデ
ィッピング法による塗布を行い、120°C×10分の
乾燥、600℃×30分の焼成により酸化亜鉛薄膜を得
た。
ィッピング法による塗布を行い、120°C×10分の
乾燥、600℃×30分の焼成により酸化亜鉛薄膜を得
た。
一実施例3−
下記配合からなるコーティング液;
を用いるようにする他は、上記実施例1と同様に塗布お
よび焼成を行い、酸化亜鉛薄膜を得た。
よび焼成を行い、酸化亜鉛薄膜を得た。
一実施例4−
下記配合からなるコーティング液;
を用いるようにする他は、上記実施例1と同様に塗布お
よび焼成を行い、酸化亜鉛薄膜を得た。
よび焼成を行い、酸化亜鉛薄膜を得た。
一実施例5一
実施例4において、引き上げ速度を100mm/分にし
て、得られる酸化亜鉛薄膜の厚みを変えるようにした。
て、得られる酸化亜鉛薄膜の厚みを変えるようにした。
一実施例6一
実施例4において、引き上げ速度を40011/分にし
て、得られる酸化亜鉛薄膜の厚みを変えるようにした。
て、得られる酸化亜鉛薄膜の厚みを変えるようにした。
上記実施例4と同様にして酸化亜鉛薄膜を形成した後、
さらにこれを、下記配合からなるコーティング液; の中に浸漬し、100mm/分の速度で引き上げた。つ
いで、80℃×10分の乾燥、500℃×30分の焼成
を行い、膜厚900人のSiO□透明保護膜を形成した
(第1図(Cl参照)。
さらにこれを、下記配合からなるコーティング液; の中に浸漬し、100mm/分の速度で引き上げた。つ
いで、80℃×10分の乾燥、500℃×30分の焼成
を行い、膜厚900人のSiO□透明保護膜を形成した
(第1図(Cl参照)。
−比較例1−
組成中にCeO□,TiO□を含む紫外線カントガラス
(Sin□:5 8.4,^IzOi: 1.6,C
aO: 4.3, MgO:2、7,NatO:1 4
.4+KiO: 0.9,CeO−:1 6.6 、T
iOz: 1.1(%)〕を用い、下記の特性評価を行
った。
(Sin□:5 8.4,^IzOi: 1.6,C
aO: 4.3, MgO:2、7,NatO:1 4
.4+KiO: 0.9,CeO−:1 6.6 、T
iOz: 1.1(%)〕を用い、下記の特性評価を行
った。
−比較例2−
第2図にみるように、実施例と同様のガラス基材1に、
電子ビーム蒸着法により、TiO□層4(膜厚1140
人)とS iOx層5(膜厚1810人)が交互に合計
12層積層された多層干渉膜(基材上の第1NがTiO
□薄膜、最上層が340g薄膜)を作製した。
電子ビーム蒸着法により、TiO□層4(膜厚1140
人)とS iOx層5(膜厚1810人)が交互に合計
12層積層された多層干渉膜(基材上の第1NがTiO
□薄膜、最上層が340g薄膜)を作製した。
上記実施例および比較例の各サンプルにつき、下記■、
■の特性評価を行った。
■の特性評価を行った。
■ 分光■挫
各サンプルの200〜780nmにおける分光透過率(
%)を、自記分光光度計(日立製作所部;U−3400
)により測定し、第4図に示したようなチ中−トを得た
。これに基づき、以下のようにして、紫外線カツト率お
よび可視光線透過率を算出した。
%)を、自記分光光度計(日立製作所部;U−3400
)により測定し、第4図に示したようなチ中−トを得た
。これに基づき、以下のようにして、紫外線カツト率お
よび可視光線透過率を算出した。
★紫外線カット率(CP)
・第4図中のBの面積を求める。
・ (A+B)の面積は、図にみるように、(380−
200) nm X 100%−18000であるから
、Aの面積は(18000−B)で求められる。
200) nm X 100%−18000であるから
、Aの面積は(18000−B)で求められる。
・したがって、紫外線カツト率CP(%)は、下記式に
より算出される。
より算出される。
CP= (A/ (A+B):] xloo−(180
00−B) / 180 ★可視光線透過率(T) ・第4図中のDの面積を求める。
00−B) / 180 ★可視光線透過率(T) ・第4図中のDの面積を求める。
・ (C+D)の面積は、図にみるように、(7803
80)nmx 100%= 40000である。
80)nmx 100%= 40000である。
・したがって、可視光線透過率T (%)は、下記式に
より算出される。
より算出される。
T−(D// (C+D) ) xloo−D/400
■ 薮慇血撃仕
各サンプルに対して急熱急冷による熱衝撃試験を行い、
試験後の膜状態を目視により観察、評価した。なお、急
熱急冷は、10分間で600℃まで等速昇温し、その温
度を10分間保った後、10分間かけて常温にまで等速
で冷却する、という条件で行った。
試験後の膜状態を目視により観察、評価した。なお、急
熱急冷は、10分間で600℃まで等速昇温し、その温
度を10分間保った後、10分間かけて常温にまで等速
で冷却する、という条件で行った。
以上の結果を、第1表に示す。
第1表
第1表にみるように、比較例に比べて実施例では、単層
の酸化亜鉛薄膜により、380nm以下の紫外線に対し
ていずれも98%以上という高度な紫外線カツト率が達
成できた。可視光線透過率についても、もともとの未処
理ガラス基材の同透過率が約92%であることから、酸
化亜鉛薄膜における可視光線透過率は非常に高(、透過
率の低下は5%以内であることが判明した。この可視光
線透過率は、酸化亜鉛薄膜上に透明保護膜を形成するこ
とにより(実施例7)、より一層高度なものとなった。
の酸化亜鉛薄膜により、380nm以下の紫外線に対し
ていずれも98%以上という高度な紫外線カツト率が達
成できた。可視光線透過率についても、もともとの未処
理ガラス基材の同透過率が約92%であることから、酸
化亜鉛薄膜における可視光線透過率は非常に高(、透過
率の低下は5%以内であることが判明した。この可視光
線透過率は、酸化亜鉛薄膜上に透明保護膜を形成するこ
とにより(実施例7)、より一層高度なものとなった。
また、実施例の紫外線カツトフィルタは、いずれも、耐
熱衝撃性が良好であり、熱衝撃による割れ等が発生する
ことはなかった。加えて、それらは耐久性に優れ、熱あ
るいは紫外線による劣化等とも無縁であった。
熱衝撃性が良好であり、熱衝撃による割れ等が発生する
ことはなかった。加えて、それらは耐久性に優れ、熱あ
るいは紫外線による劣化等とも無縁であった。
この発明にかかる紫外線カツトフィルタの製法は、基材
の表面性状(凹凸)等の制約を受けることなく適用され
るものであり、複雑な工程等を必要とせず、容易かつ安
価に、均一な酸化亜鉛薄膜が形成されることを可能にす
る。
の表面性状(凹凸)等の制約を受けることなく適用され
るものであり、複雑な工程等を必要とせず、容易かつ安
価に、均一な酸化亜鉛薄膜が形成されることを可能にす
る。
得られる紫外線カットフィルタは、酸化亜鉛薄膜が単層
構造であっても、従来の多層干渉膜や紫外線カントガラ
ス等を用いたフィルタよりも一層高度に紫外線をカット
でき、同時に可視光線の透過を妨げることもない。さら
に、従来に比べ、耐熱衝撃性、耐候性、耐久性等が向上
し、熱や紫外線等による劣化のない紫外線カツトフィル
タとなっている。
構造であっても、従来の多層干渉膜や紫外線カントガラ
ス等を用いたフィルタよりも一層高度に紫外線をカット
でき、同時に可視光線の透過を妨げることもない。さら
に、従来に比べ、耐熱衝撃性、耐候性、耐久性等が向上
し、熱や紫外線等による劣化のない紫外線カツトフィル
タとなっている。
第1図(al〜fC)は、この発明にかかる製法により
得られる紫外線カットフィルタの一実施例を模式的にあ
られす断面図、第2図は従来の紫外線カット多層干渉膜
の一例を模式的にあられす断面図、第3図はiMられた
紫外線カツトフィルタ(処理ガラス板)および未処理ガ
ラス板の分光透過率特性をあられずグラフ、第4図は実
施例および比較例において紫外線カツト率および可視光
線透過率の算出法を説明するグラフである。 1・・・透明基材 2・・・酸化亜鉛薄膜代理人 弁理
士 松 本 武 彦 ^ 濱圃条(メ)
得られる紫外線カットフィルタの一実施例を模式的にあ
られす断面図、第2図は従来の紫外線カット多層干渉膜
の一例を模式的にあられす断面図、第3図はiMられた
紫外線カツトフィルタ(処理ガラス板)および未処理ガ
ラス板の分光透過率特性をあられずグラフ、第4図は実
施例および比較例において紫外線カツト率および可視光
線透過率の算出法を説明するグラフである。 1・・・透明基材 2・・・酸化亜鉛薄膜代理人 弁理
士 松 本 武 彦 ^ 濱圃条(メ)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 透明基材の少なくとも片面に酸化亜鉛からなる薄膜
が設けられている紫外線カットフィルタを得るにあたり
、亜鉛化合物を下記(A)〜(E);(A)芳香族系炭
化水素類 (B)アルコール類 (C)ケトン類 (D)精油系テルペン炭化水素類 (E)含窒素化合物 のいずれかに属する化合物のうちの少なくとも1種を含
む溶剤に溶かして得られるコーティング液を前記基材上
に塗布した後、焼付けるようにすることを特徴とする紫
外線カットフィルタの製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10188088A JPH01271707A (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | 紫外線カットフィルタの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10188088A JPH01271707A (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | 紫外線カットフィルタの製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01271707A true JPH01271707A (ja) | 1989-10-30 |
Family
ID=14312260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10188088A Pending JPH01271707A (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | 紫外線カットフィルタの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01271707A (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4935700A (ja) * | 1972-08-07 | 1974-04-02 | ||
JPS5244082A (en) * | 1975-10-01 | 1977-04-06 | Gen Electric | Highly reinforced lamp |
JPS5767939A (en) * | 1980-10-15 | 1982-04-24 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Photoreceptor for electrophotography |
JPS5778464A (en) * | 1980-11-04 | 1982-05-17 | Chugoku Toryo Kk | Electrically conductive paint composition |
JPS58156533A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-17 | Toshiba Corp | 酸化亜鉛被膜の形成法 |
JPH01245201A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Matsushita Electric Works Ltd | 紫外線カットフィルタ |
-
1988
- 1988-04-25 JP JP10188088A patent/JPH01271707A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4935700A (ja) * | 1972-08-07 | 1974-04-02 | ||
JPS5244082A (en) * | 1975-10-01 | 1977-04-06 | Gen Electric | Highly reinforced lamp |
JPS5767939A (en) * | 1980-10-15 | 1982-04-24 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Photoreceptor for electrophotography |
JPS5778464A (en) * | 1980-11-04 | 1982-05-17 | Chugoku Toryo Kk | Electrically conductive paint composition |
JPS58156533A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-17 | Toshiba Corp | 酸化亜鉛被膜の形成法 |
JPH01245201A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Matsushita Electric Works Ltd | 紫外線カットフィルタ |
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