JPH01271071A - 気相式はんだ付け装置におけるフィルタリング方法 - Google Patents

気相式はんだ付け装置におけるフィルタリング方法

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JPH01271071A
JPH01271071A JP9767788A JP9767788A JPH01271071A JP H01271071 A JPH01271071 A JP H01271071A JP 9767788 A JP9767788 A JP 9767788A JP 9767788 A JP9767788 A JP 9767788A JP H01271071 A JPH01271071 A JP H01271071A
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JP
Japan
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tank
liquid
temperature
vapor phase
inert liquid
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Application number
JP9767788A
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English (en)
Inventor
Masaki Sekizaki
雅樹 関崎
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Tamura Corp
Original Assignee
Tamura Corp
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/012Soldering with the use of hot gas
    • B23K1/015Vapour-condensation soldering

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の目的) (産業上の利用分野) 本発明は、気相式はんだ付け装置に使用される高温の不
活性液を濾過するフィルタリング方法に関するものであ
る。
(従来の技術) 第2図に示されるように、気相式はんだ付け装置は、蒸
気槽10の底部に収納された不活性液としてのフッ素系
不活性溶剤11がヒータ12により加熱されて蒸発され
、蒸気槽10内に飽和蒸気相13が形成され、この飽和
蒸気相13の内部を通過するワーク14に飽和蒸気相1
3の気化潜熱が与えられ、リフローはんだ付けがなされ
る。このような気相式はんだ付け装置では、高温のフッ
素系不活性溶剤11がポンプ15.16によって循環さ
れる。
すなわち、不活性溶剤11の内部に混入した不純物を除
去するために、気相式はんだ付け装置の運転中は、蒸気
槽10内の高温(沸点・215℃)の溶剤11が直接ポ
ンプ15に吸込まれ、フィルタ17を経て蒸気槽10に
循環される。また前記運転が停止された後は、蒸気槽1
0内の高温の溶剤11がいったん液温降下槽18に取出
され、この液温降下槽18で冷却され、それからポンプ
16によってフィルタ19に送られ、液1M下槽18、
ポンプ16およびフィルタ19の閉回路での循環が繰返
し行われ、最後にフィルタリング済みの溶剤がバルブ切
換により蒸気槽10に戻される。
(発明が解決しようとする課題) この従来のように、運転中に、高fi(215℃)の不
活性溶剤11と直接接触するポンプ15およびフィルタ
11は、共に耐熱性のあるものを使用するが、それらは
特別仕様となり高価であるとともに、耐熱性にも限界が
ありトラブルが発生しやすい。
本発明は、気相式はんだ付け装置の運転中にフィルタリ
ングを並行して行う場合に、高価な耐熱ポンプおよび耐
熱フィルタを使用することなくフィルタリングを行なえ
る方法を提供することを目的とする。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 本発明は、蒸気槽21の内部で不活性液22が加熱され
、蒸気槽21内に飽和蒸気相24が形成され、この飽和
蒸気相24の内部を通過するワーク25に飽和蒸気相2
4の気化潜熱が与えられ、リフローはんだ付けがなされ
る気相式はんだ付け装置における高温の不活性液22が
ポンプによりフィルタを経て循環されるフィルタリング
方法において、蒸気槽21の運転中に、蒸気槽21中の
不活性液22が、不活性液取出管路31を経て低温の同
一不活性液22aが収納された液温降下槽35に取出さ
れて温度降下され、この低温の不活性液22aがポンプ
45によって前記液温降下槽35に戻されるフィルタリ
ング管路47に圧送され、このフィルタリング管路47
中に設けられたフィルタ51.52により*iされて液
温降下槽35に循環され、同時に、この液温降下槽35
内の不活性液22aが前記ポンプ45により不活性液戻
し管路46により前記蒸気槽21からの取出流量と等し
い流量で蒸気槽21に循環されφフィルタリング方法で
ある。
(作用) 本発明は、蒸気槽21の不活性液22が、少しずつ取出
されて液温降下槽35に入り、この槽35内の清浄な低
温不活性液22aと混ざることで汚染度が緩和され、そ
して、この液温降下槽35の不活性液22aは、ポンプ
45によってフィルタリング管路47と蒸気槽21への
戻し管路46とに圧送され、フィルタリング管路47中
のフィルタ51.52により液温時1・槽35の不活性
液22aが常に濾過されるとともに、蒸気WJ21から
液温降下槽35に取出された分の不活性液が不活性液戻
し管路46を経て常に蒸気槽21に戻され、蒸気11!
21内の不活性液面レベルが一定に保たれる。
(実施例) 以下、本発明を第1図に示される実施例を参照して詳細
に説明する。
気相式はんだ付け装置の本体部分では、蒸気槽21の底
部に収納された不活性液としてのフッ素系不活性溶剤2
2がヒータ23により加熱されて蒸発され、蒸気槽21
内に飽和蒸気相24が形成され、この飽和蒸気相24の
内部を通過するワーク25に飽和蒸気相24の気化潜熱
が与えられ、リフローはんだ付けがなされる。蒸気槽2
1のワーク搬入側およびワーク搬出側には冷却コイル2
6が配置され、冷却水配管27が設けられ、そして、冷
却」イル26の蒸気凝縮作用によって蒸気槽21内から
外部への蒸気漏出が防止されている。ざらに、この蒸気
槽21のワーク搬入部分およびワーク搬出部分は排気配
管28を経て液回収ユニット29に連通され、そして、
この液回収ユニット29に強制的に吸込まれた蒸気また
はミストは、内部の冷却クイル等により液化され管30
を経て蒸気槽21に回収される。
前記蒸気槽21の底部から不活性液取出管路31が引出
され、この取出管路31にY形ストレーナ32、液排出
用電動弁33および安全用電動弁34を経て液温降下槽
35の上部が接続され、この液温降下槽35の内部には
冷部コイル3Gが配管され、モータにより回転される攪
拌1137が設けられている。前記電動弁33にはバイ
パス管路38が設けられ、この管路38に手動調整弁3
9が設けられている。
前記液温降下槽35の下部から引出された管路41には
、ドレン管42を介してドレン閉止弁43が設けられ、
さらに停止用電動弁44が設けられ、そして耐熱ポンプ
45が設けられている。この管路41は、不活性液戻し
管路46とフィルタリング管路47とに分岐され、その
各管路46.47には電磁弁48.49が設けられてい
る。前記戻し管路46は、前記蒸気槽21の底部に接続
され、また、前記フィルタリング管路47は、カートリ
ッジフィルタ51.52を経て液温降下槽35の上部に
接続されている。前記液温降下槽35の上部には不活性
溶剤補給fa53がバルブ54を介して接続されている
前記排出用電動弁33は、気相式はんだ付け装置が休止
されている間はmじられ、運転中は開かれ、最少の循環
流量が確保される。安全用電動弁34は、運転中にポン
プ45がなんらかの原因で停止されたときに手動調整弁
39を経て蒸気槽21内の不活性溶剤22が空になり空
炊きされるおそれを防止する安全弁である。液温降下槽
35の内部には蒸気$1’121の底部に収容されてい
るフッ素系不活性溶剤22と同一のフッ素系不活性溶剤
22aが収容されている。この液温降下槽35の不活性
溶剤22aは、前記蒸気槽21内の不活性溶剤22とほ
ぼ等量が予め入れられており、冷却水の供給を受ける冷
却コイル36により90℃以下の低温に保たれ、前記攪
拌11137の働きによってその温度が均一化されてい
る。このように低温に保たれるので、前記ポンプ45お
よびフィルタ51.52の耐久性が保たれる。前記バイ
パス管路38に設けられた手動調整弁39は、蒸気槽2
1から液温降下槽35に落とされる不活性溶剤の流量を
調節して、ポンプ45による汲上流量とのバランスを取
るためのものである。このポンプ45からの吐出流量は
、取出管路31における流量よりも多く、取出管路31
における流mと等しい流mの不活性溶剤が戻し管路46
を経て蒸気槽21に戻され、残りの流山の不活性溶剤が
フィルタリング管路47により液温降下槽35に戻され
る。前記1i動弁44は、ポンプ45が停止されたとき
に閉止されるものである。ポンプ45は、90℃程度の
耐熱性を有するダイヤフラムポンプであり、タイマ等に
より間欠運転されることで流量調整される。電磁弁48
.49は、運転停止時は閉じ状態にあるが、運転開始時
に開くものである。
次に、この実施例の作用を説明すると、蒸気槽21の運
転中に、蒸気槽21内の高温の不活性溶剤22が、少し
ずつ液温降下槽35に取出され、この槽内で90℃以下
に温度降下される。この低温の不活性溶剤22aの・一
部は、ポンプ45によって前記フィルタリング管路47
に圧送され、このフィルタリング管路47中に設けられ
たカートリッジ式フィルタ51、52により濾過されて
液温降下槽35に循環される。したがって、この液温降
下槽35の内部の不活性溶剤22aは、常に低温に保た
れるとともに清浄に保たれる。
同時に、この液温降下WJ35内の不活性溶剤22aが
前記ポンプ45により不活性液戻し管路46を経て前記
蒸気槽21からの取出流量と等しい流量で蒸気槽21に
循環される。
このように、蒸気槽21の不活性溶剤22が、少しずつ
取出されて液温降下槽35に入り、この槽内の清浄な低
温不活性液22aと混ざることで汚染度が緩和され、そ
して、この液温降下槽35の不活性液22aが、ポンプ
45によってフィルタリング管路41と蒸気槽21への
戻し管路46とに同時に圧送され、フィルタリング管路
47中のフィルタ51.52により液温降下槽35の不
活性液22aが常に濾過されるとともに、蒸気槽21か
ら液温降下槽35に取出された分の不活性液が戻し管路
4Gを経て常に蒸気槽21に戻され、蒸気槽21内の液
面レベルは常に一定に保たれる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、蒸気槽の運転中に、蒸気槽から高温の
不活性液が不活性液取出管路を経て液温降下槽に取出さ
れて温度降下され、この低湿の不活性液の一部がフィル
タリング管路中のフィルタにより濾過されて液温降下槽
に循環され、同時に、この液温降下槽内の不活性液が不
活性液戻し管路により前記蒸気槽からの取出流量と等し
い流量で蒸気槽に循環されるから、気相式はんだ付け装
置の運転中に、高度な耐熱ポンプおよび耐熱フィルタを
使用することなくフィルタリングを並行して行うことが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の気相式はんだ付け装置におけるフィル
タリング方法の一実施例を示す流体回路図、第2図はそ
の従来例を示す流体回路図である。 21・・蒸気槽、22.22a ・・不活性液、24・
−・飽和蒸気相、25・・ワーク、31・・不活性液取
出管路、35・・液温降下槽、45・・ポンプ、46・
・不活性液戻し管路、41・・フィルタリング管路、5
1、52舎・フィルタ。 第2月

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)蒸気槽の内部で不活性液が加熱され、蒸気槽内に
    飽和蒸気相が形成され、この飽和蒸気相の内部を通過す
    るワークに飽和蒸気相の気化潜熱が与えられ、リフロー
    はんだ付けがなされる気相式はんだ付け装置における高
    温の不活性液がポンプによりフィルタを経て循環される
    フィルタリング方法において、蒸気槽の運転中に、蒸気
    槽中の不活性液が、不活性液取出管路を経て低温の同一
    不活性液が収納された液温降下槽に取出されて温度降下
    され、この低温の不活性液がポンプによって前記液温降
    下槽に戻されるフィルタリング管路に圧送され、このフ
    ィルタリング管路中に設けられたフィルタにより濾過さ
    れて液温降下槽に循環され、同時に、この液温降下槽内
    の不活性液が前記ポンプにより不活性液戻し管路により
    前記蒸気槽からの取出流量と等しい流量で蒸気槽に循環
    されることを特徴とする気相式はんだ付け装置における
    フィルタリング方法。
JP9767788A 1988-04-20 1988-04-20 気相式はんだ付け装置におけるフィルタリング方法 Pending JPH01271071A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04237558A (ja) * 1991-01-16 1992-08-26 Hitachi Ltd ベーパーはんだ付装置
CN112388091A (zh) * 2019-08-14 2021-02-23 雷姆热系统有限责任公司 回流凝热焊接机
US11445650B2 (en) * 2019-10-22 2022-09-13 International Business Machines Corporation Localized rework using liquid media soldering

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04237558A (ja) * 1991-01-16 1992-08-26 Hitachi Ltd ベーパーはんだ付装置
CN112388091A (zh) * 2019-08-14 2021-02-23 雷姆热系统有限责任公司 回流凝热焊接机
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