JPH0126748Y2 - - Google Patents

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JPH0126748Y2
JPH0126748Y2 JP1180186U JP1180186U JPH0126748Y2 JP H0126748 Y2 JPH0126748 Y2 JP H0126748Y2 JP 1180186 U JP1180186 U JP 1180186U JP 1180186 U JP1180186 U JP 1180186U JP H0126748 Y2 JPH0126748 Y2 JP H0126748Y2
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lance
upright
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lances
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  • Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
  • Refinement Of Pig-Iron, Manufacture Of Cast Iron, And Steel Manufacture Other Than In Revolving Furnaces (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、ランスを用い気体または気体および
紛体を溶銑、溶鋼中に噴出することにより溶銑予
備処理、炉外精錬等を行なう精錬装置に用いら
れ、反応容器内に挿入されるランスを交換するラ
ンス交換装置に関する。
〔従来の技術〕
最近、精錬装置においては、気体または気体お
よび粉体を反応容器内の溶銑、溶鋼中に噴出する
ことにより溶銑予備装置、炉外精錬等を行なうよ
うにしたものが増えてきている。
このような装置では、通常、溶鋼、溶銑中に耐
火物製のランスの先端を浸漬させるため、その損
耗が著しく、数回または数10回の処理ごとにラン
スを交換する必要がある。
そこで、従来では、ランス懸垂架台より天井ク
レーンで使用前のランスを吊り出し、ストツク架
台に一時ストツクした後、使用済みのランスと交
換するようにしたランス交換装置が用いられてい
る。
〔考案が解決しようとする問題点〕
前記ランス交換装置では、建物内に天井クレー
ンを配設しなければならないため、建物の高さを
高くし、かつその強度を高くしなければならない
ばかりか、装置全体が大型化し、しかも、ランス
交換作業時間が長くなるという問題がある。この
問題は、複数のランスを使用する場合において特
に顕著となる。
本考案は上記事情にもとづいてなされたもの
で、その目的とするところは、ランス交換作業を
迅速に行なうことができ、しかも、建物の高さが
低くできるとともにその強度も低くでき、かつ装
置の小型化が図れるようにしたランス交換装置を
提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案は、上記問題点を解決するために、反応
容器内に挿入されるランスを交換するランス交換
装置において、ランスをクランプして旋回するク
ランプアームを有したランスハンドリング装置の
前記クランプアームの旋回軌跡上に、供給された
ランスを直立させるランス直立装置のランス直立
位置、ランスを一時ストツクするランスストツク
架台のランスストツク位置、およびランスを前記
反応容器内に挿入するランス挿入装置のランス挿
入位置を配置し、前記ランス直立装置、ランスス
トツク架台およびランス挿入装置の相互間でラン
スの搬送を行なうようにしたことを特徴とするも
のである。
〔作用〕
ランスハンドリング装置のクランプアームの旋
回により、ランス直立装置、ランスストツク架台
およびランス挿入装置の相互間でランスの搬送を
行なう。
〔実施例〕
以下、本考案の一実施例を図面を参照しながら
説明する。
第1図〜第3図中1はランスハンドリング装置
であり、このランスハンドリング装置1を中心と
した同心円上には、ランス搬入搬出装置2のラン
ス反転装置(ランス直立装置)3、ランスストツ
ク架台4、およびランス挿入装置5が配置されて
いる。
前記ランス挿入装置5は、取鍋(反応容器)6
内の溶鋼7内に粉体吹込みランスRaの下端を浸
漬させるとともに取鍋6内の溶鋼7の上方にO2
吹込みランスRb,Rbの下端を位置させるもので
(第4図参照)、粉体吹込みランス昇降機構8およ
びO2吹込みランス昇降機構9,9を備えた構成
となつている。なお、ランスRa,Rbは円筒状の
耐火物で作られている。
前記粉体吹込みランス昇降機構8およびO2
込みランス昇降機構9,9は同一構成であるの
で、粉体吹込みランス昇降機構8のみについて説
明すると、この粉体吹込みランス昇降動機構8
は、下部フレーム10に立設された固定支柱11
と、この固定支柱11に昇降自在に設けられた昇
降動体12と、この昇降動体12に設けられ、ラ
ンスRaの上端を懸垂支持する支持部13とから
構成されている。そして、ランスハンドリング装
置1からのランスRaの下端を下部フレーム10
の下方に配置された取鍋6内に下部フレーム10
の貫通穴14を介して挿入させるようになつてい
る。
前記ランスハンドリング装置1は、下部フレー
ム10と上部フレーム15との間に直立状態で回
転自在に支持された回転支柱16を有しており、
この回転支柱16の上部側にはクランプアーム1
7が設けられている。このクランプアーム17
は、回転支柱16の上部側に径方向に突設された
上下一対のアーム18a,18bと、この一対の
アーム18a,18bの先端間に支持されたガイ
ド19と、このガイド19に昇降動自在に支持さ
れた昇降部20と、この昇降部20に径方向へス
ライド自在に設けられたクランプ部21とから構
成されている。そして、前記ランス反転装置3、
ランスストツク架台4およびランス挿入装置5の
相互間でランスRa,Rbの搬送を行なうようにな
つている。
前記ランス搬入搬出装置2は、ランス置台2
2、前記ランス反転装置3およびランス台車23
を備えた構成となつている。前記ランス置台22
は複数本のランスRa……,Rb……(図示せず)
を倒伏状態で併置しておくものである。前記ラン
ス台車23は、前記ランス置台22上に併置され
たランスRa,Rbの軸方向に沿うレール24,2
4上にスライド移動自在に設けられているととも
に、このスライド方向と直角な方向(ランス置台
22方向)に横行自在かつ昇降移動自在なランス
把持部25,25を有している。また、ランス把
持部25,25の先端にはランスRa,Rbを把持
するランス把持爪26,26が設けられている。
そして、使用前のランスRa,Rbをランス置台2
2からランス反転装置3へ、また使用済みのラン
スRa,Rbをランス反転装置3からランス置台2
2へ倒伏状態で搬送するようになつている。前記
ランス反転装置3は、回動軸27に回動自在に軸
支されたランス保持部材28を有し、このランス
保持部材28は回動によつて倒伏状態と直立状態
とを呈するようになつている。そして、ランス台
車23によつてランス置台22から倒伏状態で搬
送された使用前のランスRa,Rbを直立させてラ
ンスハンドリング装置1へ渡し、またランスハン
ドリング装置1から直立状態で渡される使用済み
のランスRa,Rbを倒伏させてランス置台22へ
送るようになつている。
前記ランスストツク架台4は、粉体吹込みラン
スRaを一時ストツクする第1のランスストツク
架台29とO2とランスRbを一時ストツクする第
2のランスストツク架台30とから構成されてい
る。
そして、ランスハンドリング装置1のクランプ
アーム17のクランプ部21が径方向外方へスラ
イドした状態時の旋回軌跡r1すなわち外側旋回軌
跡r1上に、前記ランス反転装置3のランス直立位
置、前記ランスストツク架台4のランスストツク
位置、および前記ランス挿入装置5のランス挿入
位置が配置され、ランスハンドリング装置1は、
クランプ部21が径方向内方へスライドした状態
時の旋回軌跡r2すなわち内側旋回軌跡r2に沿つて
ランスRa,Rbを搬送するようになつている。す
なわち、ランスハンドリング装置は、ランス反転
装置3、ランスストツク架台4、およびランス挿
入装置5のそれぞれとのランスRa,Rbの授受を
行なうときはクランプ部21が外側旋回軌跡r1
でスライドし、ランスRa,Rbの搬送すなわち旋
回を行なうときはクランプ部21が内側旋回軌跡
r2までスライドするようになつている。
しかして、ランス置台22上に載置されたたと
えば粉体噴出ランスRaはランス台車23により
ランス反転装置3に送られ、これにより倒伏状態
から直立状態にされる。この直立状態にされたラ
ンスRaは、上端がランスハンドリング装置1の
クランプアーム17によつてクランプされ、クラ
ンプアーム17が旋回することによつて第1のラ
ンスストツク架台29に対向する位置まで搬送さ
れ、ここで第1のランスストツク架台29に一時
ストツクされる。このストツクされたランスRa
は、再びクランプアーム17によつてクランプさ
れ、クランプアーム17が旋回することによつて
粉体噴出ランス昇降装置8に対向する位置まで搬
送され、ここで粉体噴出ランス昇降装置8に渡さ
れる。このランスRaは下端が取鍋6内の溶鋼7
に浸漬する位置まで下降され、また上端に図示し
ない粉体供給源が接続される。使用後のランス
Rbは逆の経路でランス置台22に戻される。
以上の構成によれば、ランスハンドリング装置
1のクランプアーム17の旋回軌跡r上に、前記
ランス反転装置3のランス直立位置、前記ランス
ストツク架台4のランスストツク位置、および前
記ランス挿入装置5のランス挿入位置を配置した
ので、ランスハンドリング装置1のクランプアー
ム17の旋回により、ランス反転装置3、ランス
ストツク架台4およびランス挿入装置5の相互間
でランスRa,Rbの搬送が行なえる。したがつ
て、ランスの交換作業を迅速に行なうことがで
き、しかも、建物の高さが低くできるとともにそ
の強度も低くでき、かつ装置の小型化が図れる。
なお、上記実施例では、ハンドリング装置は一
度に一本のランスRa,Rbを搬送するようにした
が、本考案はこれに限定されることはなく、一度
にたとえば3本のランスRa,Rb,Rbを搬送する
ようにしてもよい。
〔考案の効果〕
以上説明したように本考案によれば、反応容器
内に挿入されるランスを交換するランス交換装置
において、供給されたランスを直立させるランス
直立装置と、ランスを一時ストツクするランスス
トツク架台と、ランスを前記反応容器内に挿入す
るランス挿入装置と、ランスをクランプして旋回
するクランプアームを有し、前記ランス直立装
置、ランスストツク架台およびランス挿入装置の
相互間でランスの搬送を行なうランスハンドリン
グ装置とを具備し、このランスハンドリング装置
のクランプアームの旋回軌跡上に、前記ランス直
立装置のランス直立位置、前記ランスストツク架
台のランスストツク位置、および前記ランス挿入
装置のランス挿入位置を配置したから、ランスの
交換作業を迅速に行なうことができ、しかも、建
物の高さが低くできるとともにその強度も低くで
き、かつ装置の小型化が図れる等の優れた効果を
奏する。
【図面の簡単な説明】
図面は本考案の一実施例を示すもので、第1図
は慨略的に示す平面図、第2図はより具体的に示
す平面図、第3図は同じく断面図、第4図はラン
スを取鍋内に挿入した状態を示す断面図である。 1……ランスハンドリング装置、Ra,Rb……
ランス、3……ランス直立装置(ランス反転装
置)、4……ランスストツク架台、5……ランス
挿入装置、6……反応容器(取鍋)、17……ク
ランプアーム。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 反応容器内に挿入されるランスを交換するもの
    において、供給されたランスを直立させるランス
    直立装置と、ランスを一時ストツクするランスス
    トツク架台と、ランスを前記反応容器内に挿入す
    るランス挿入装置と、ランスをクランプして旋回
    するクランプアームを有し、前記ランス直立装
    置、ランスストツク架台およびランス挿入装置の
    相互間でランスの搬送を行なうランスハンドリン
    グ装置とを具備し、このランスハンドリング装置
    のクランプアームの旋回軌跡上に、前記ランス直
    立装置のランス直立位置、前記ランスストツク架
    台のランスストツク位置、および前記ランス挿入
    装置のランス挿入位置を配置したことを特徴とす
    るランス交換装置。
JP1180186U 1986-01-31 1986-01-31 Expired JPH0126748Y2 (ja)

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