JPH01263932A - Magnetic recording body and production thereof - Google Patents

Magnetic recording body and production thereof

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JPH01263932A
JPH01263932A JP9282988A JP9282988A JPH01263932A JP H01263932 A JPH01263932 A JP H01263932A JP 9282988 A JP9282988 A JP 9282988A JP 9282988 A JP9282988 A JP 9282988A JP H01263932 A JPH01263932 A JP H01263932A
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magnetic
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文男 後藤
Takehiko Yamamoto
山本 武彦
Norio Shioda
塩田 則男
Yuji Tsukamoto
塚本 雄二
Masahiro Yanagisawa
雅広 柳沢
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Abstract

PURPOSE:To obviate an increase in signal errors and degradation in S/N and to prevent the attraction of the recording medium to a magnetic head so as to improve the durability thereof by forming microprojections to a protective layer coating the magnetic layer on a substrate and adjusting the same to a surface condition of a specific density. CONSTITUTION:The magnetic recording medium consists of the substrate 1, the magnetic layer 4 covering the substrate and the protective layer 6 covering the magnetic layer 4. The microprojections of >=1 pieces per 4mum<2> are provided on the surface of the layer 6. The microprojections are formed by subjecting the overlying thin film or thin protective film constituting the protective layer to a surface roughening treatment with a noble metal. The surface roughening with the noble metal is preferably executed by a method of immersing the substrate into a surface roughening liquid of the noble metal such as gold or silver to adsorb the noble metal particles thereon. The attraction of the recording medium to the magnetic head is thereby prevented and the durability of the medium is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、磁気ディスク装置等の磁気記録装置に用いら
れる磁気記録体およびその製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a magnetic recording body used in a magnetic recording device such as a magnetic disk device and a method for manufacturing the same.

(従来の技術) 近年、ファイル記憶装置における磁気ディスク装置の重
要性が増大し、その記録密度は年々著しい向上が図られ
つつある。これまで磁気記録媒体としては、酸化鉄磁性
粉と有機樹脂バインダーの混合物を基体上に塗布後研磨
したいわゆる塗布型ディスクが広く用いられてきた。塗
布型ディスクでは、磁性粉と有機樹脂バインダーの混煉
層中に潤滑剤を含有させ得ることのほかに、磁性層が約
0.4μm以上と厚く表面粗さRmaxもこの一割程度
の0.04μm前後(RaはRmaxの数分の−の0.
01μm程度)と比較的大きいため、ヘッド吸着なしに
十分な膜厚の潤滑膜を賦与することができ、磁気ヘッド
との接触・摺動に対し耐久性が優れている。しかし、今
後さらに高記録密度化を達成するには磁気記録層の薄膜
化が必要であり、塗布型ディスクではこの点が不利とな
る。そこで、高密度磁気記録体として、めっき法、スパ
ッタ法、蒸着法等によって形成された磁性薄膜を磁気記
録層とする薄膜磁気ディスクが用いられ始めた。
(Prior Art) In recent years, the importance of magnetic disk devices in file storage devices has increased, and the recording density thereof has been significantly improved year by year. Until now, so-called coated disks, in which a mixture of iron oxide magnetic powder and an organic resin binder is coated on a substrate and then polished, have been widely used as magnetic recording media. In coated type disks, in addition to being able to contain a lubricant in the mixed layer of magnetic powder and organic resin binder, the magnetic layer is thick, about 0.4 μm or more, and the surface roughness Rmax is about 0.4 μm or more. Around 04 μm (Ra is -0.
Since it is relatively large (approximately 0.01 μm), it is possible to provide a sufficiently thick lubricating film without attracting the head, and it has excellent durability against contact and sliding with the magnetic head. However, in order to achieve even higher recording densities in the future, it will be necessary to make the magnetic recording layer thinner, which is a disadvantage for coated disks. Therefore, thin-film magnetic disks whose magnetic recording layer is a magnetic thin film formed by plating, sputtering, vapor deposition, or the like have begun to be used as high-density magnetic recording bodies.

薄膜磁気ディスクの基板としては、従来アルミニウム合
金基板等の基体上にNi合金めっき膜を形成して研磨し
たもの(以下Ni合金めっき基板という)が用いられて
いる。通常、この基板は、アルミニウム合金基板上に数
limないし数十μmの厚さのNi合金めっき膜をめっ
き後、ラッピング、ボリシング等の研磨方法により表面
粗さRa0.004μm程度以下に鏡面研磨して使用さ
れる(研究実用化報告26−2.471頁、1977)
Conventionally, as a substrate for a thin film magnetic disk, a substrate such as an aluminum alloy substrate on which a Ni alloy plating film is formed and polished (hereinafter referred to as a Ni alloy plating substrate) is used. Normally, this substrate is produced by plating a Ni alloy plating film several lim to several tens of μm thick on an aluminum alloy substrate, and then mirror-polishing the surface to a surface roughness Ra of about 0.004 μm or less using polishing methods such as lapping and boring. Used (Research and Practical Application Report 26-2, p. 471, 1977)
.

ところが、この基板に磁性薄膜を形成した場合、通常塗
布型ディスクの磁気記録層の数分の−の膜厚の磁性薄膜
は平滑かつ一様であり、磁気ディスク表面に潤滑剤の滞
留場所がないために極めて少量の潤滑剤しか保持できず
、磁気ヘッドのC85(コンタクト・スタート・ストッ
プ)耐久性が劣るという問題が生じる。また、鏡面研磨
した磁気ディスク表面に液体潤滑剤を塗布した場合、平
滑な表面性を有する磁気へラドスライダ面との間に吸着
を生じ、ディスク起動時に損傷を起こしゃすい欠点があ
った。
However, when a magnetic thin film is formed on this substrate, the thickness of the magnetic thin film, which is several times smaller than that of the magnetic recording layer of a typical coated disk, is smooth and uniform, and there is no place for lubricant to accumulate on the magnetic disk surface. Therefore, only a very small amount of lubricant can be held, resulting in a problem that the C85 (contact start/stop) durability of the magnetic head is poor. Furthermore, when a liquid lubricant is applied to the surface of a mirror-polished magnetic disk, adhesion occurs between the liquid lubricant and the magnetic rad slider surface, which has a smooth surface, and the disk is likely to be damaged when the disk is started.

このため、前記の様に鏡面研磨したNi合金めっき基板
を回転させながら研磨砥粒を含有したテープを接触させ
て同心円状の細い筋(テクスチャ)を形成する方法や、
特開昭59−82626号公報に見られるように、Ni
合金めっき基板を研磨加工によりRa0.006〜0.
010μmの表面粗さにする方法が提案されている。
For this reason, there is a method in which thin concentric streaks (texture) are formed by contacting a tape containing abrasive grains while rotating a mirror-polished Ni alloy plated substrate as described above.
As seen in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-82626, Ni
The alloy plated substrate is polished to an Ra of 0.006 to 0.
A method of achieving a surface roughness of 0.10 μm has been proposed.

(発明が解決しようとする課題) しかし、この様な機械加工により粗面を形成する方法で
は、研磨砥粒中の比較的大きな砥粒や研磨時に混入する
異物等によって信号エラーの原因となる比較的太い研磨
筋を生じやすく、ディスク全面にわたって一様に適度な
粗面を得ることは困難である。こうした不均一な研磨筋
は磁性層の特性に影響を与え、記録再生特性およびサー
ボ信号品質の劣化を招くという問題があった。さらに、
機械加工では、得られる表面粗さが、用いる研磨砥粒の
大きさによってほぼ決まってしまうため、表面粗さを細
かく制御することができず、研磨筋の密度を高めること
が困難であった。従って、ヘッド吸着を防ぎ、十分な膜
厚の潤滑膜を賦与するためには、表面粗さを相当大きく
する必要があり、電磁変換特性の低下を招く問題があっ
た。また、このような精密機械加工は一括多量性生産が
難しく、生産性にも問題があった。
(Problem to be solved by the invention) However, in this method of forming a rough surface by machining, signal errors may occur due to relatively large abrasive grains in the polishing abrasive grains or foreign matter mixed during polishing. This tends to cause thick polishing streaks, and it is difficult to obtain a uniformly moderately rough surface over the entire surface of the disk. There is a problem in that these non-uniform polishing streaks affect the characteristics of the magnetic layer, resulting in deterioration of recording/reproducing characteristics and servo signal quality. moreover,
In machining, the surface roughness obtained is almost determined by the size of the abrasive grains used, making it impossible to finely control the surface roughness and making it difficult to increase the density of the polishing streaks. Therefore, in order to prevent head adsorption and provide a lubricating film of sufficient thickness, it is necessary to considerably increase the surface roughness, which poses a problem of deterioration of electromagnetic conversion characteristics. In addition, such precision machining is difficult to mass produce at once, and there are also problems in productivity.

本発明の目的は信号エラーの増加やS/Nの低下がなく
、磁気ヘッドとの吸着を防止して耐久性に優れた磁気記
録体とその製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium that does not increase signal errors or decrease S/N, prevents adhesion to a magnetic head, and has excellent durability, and a method for manufacturing the same.

(問題点を解決するための手段) 本発明による磁気記録体は、基体と、この基体と被覆す
る磁性層と、この磁性層を被覆する保護層からなり、こ
の保護層の表面形状として4μm2当たり1(!I以上
の微小突起を有することを特徴としている。
(Means for Solving the Problems) The magnetic recording body according to the present invention consists of a base, a magnetic layer covering the base, and a protective layer covering the magnetic layer. It is characterized by having microprotrusions of 1 (!I or more).

本発明による磁気記録体の製造方法は、保護層の表面形
状として4μm2当たり1個以上の微小突起を有する磁
気記録体において、前記基体を構成する基板、下地厚膜
、または下地薄膜に微小突起を形成すること、前記磁性
層に微小突起を形成すること、または前記保護層を構成
する上地薄膜または薄膜保護膜に微小突起を形成するよ
うにしている。
The method for manufacturing a magnetic recording body according to the present invention provides a magnetic recording body having one or more microprotrusions per 4 μm2 as the surface shape of the protective layer, in which microprotrusions are formed on a substrate constituting the base, a thick base film, or a thin base film. microprotrusions are formed on the magnetic layer, or microprotrusions are formed on the upper thin film or thin protective film constituting the protective layer.

また、本発明による磁気記録体の製造方法は、保護層の
表面形状として4μm2当たり1個以上の微小突起を有
する磁気記録体の形成工程において貴金属粗面化処理を
行うことにより微小突起を形成することを特徴としてい
る。
Further, in the method for manufacturing a magnetic recording body according to the present invention, microprotrusions are formed by performing noble metal surface roughening treatment in the process of forming a magnetic recording body having one or more microprotrusions per 4 μm2 as the surface shape of the protective layer. It is characterized by

本発明において用いられる磁気記録体の保護層表面の微
小突起の高さ、大きさなどの要求条件は、磁気記録体が
使用される条件によってそれぞれ異なる。ヘッドの種類
、構造、材質、ヘッド浮上量、潤滑剤、保護膜の種類、
膜厚などのヘッド・ディスク条件によって、磁気ヘッド
とめ吸着を防止して耐久性に優れた磁気記録体を得るた
めの微小突起の高さ、形状などの条件が各場合に応じて
選択されるが、微小突起の高さはヘッド浮上量よりも小
さく、潤滑剤の膜厚よりも大きいことが望ましい。発明
者らの検討によれば、ヘッド吸着を防止して耐久性を向
上するには、微小突起の量(微小突起の密度)の影響が
より顕著であることが明かとなった。微小突起の密度が
大きいほど良好な結果が得られるが、4μm2当たり1
個以上の密度にすることにより、磁気ヘッドとの吸着防
止と耐久性の向上に顕著な効果があった。
Requirements such as the height and size of the microprotrusions on the surface of the protective layer of the magnetic recording body used in the present invention differ depending on the conditions under which the magnetic recording body is used. Head type, structure, material, head flying height, lubricant, protective film type,
Depending on head and disk conditions such as film thickness, conditions such as the height and shape of the microprotrusions are selected in each case in order to prevent the magnetic head from sticking and to obtain a magnetic recording medium with excellent durability. It is desirable that the height of the microprotrusions be smaller than the flying height of the head and larger than the film thickness of the lubricant. According to the inventors' studies, it has become clear that the influence of the amount of microprotrusions (density of microprotrusions) is more significant in preventing head adsorption and improving durability. The higher the density of microprotrusions, the better the results, but 1/4 μm2
By increasing the density to more than 300 ml, there was a remarkable effect in preventing adhesion to the magnetic head and improving durability.

本発明の磁気記録体において用いられる基体とては、基
板、または基板上に種々の付加的皮膜が被覆されたもの
、例えば基板上に下地厚膜が被覆されたもの、さらにこ
の上に下地薄膜が被覆されたものなどがある。基板とし
ては、通常アルミニウム合金、銅、黄銅、鉄、チタン等
の金属基板が用いられるが、これらの表面を酸化処理、
クロメート処理したものや適当な活性化処理によりガラ
ス、セラミックス、樹脂等の非金属基板ないしはこれら
の複合材料からなる基板なども適用できる。下地厚膜、
下地薄膜としては、NiPまたはNiBの無電解めっき
膜を用いることが好ましいが、電気めっき膜やスパッタ
法、蒸着法などによる乾式めっき膜を用いることもでき
る。さらに、NiP、またはNiB膜に、Mn、 Fe
、 Co、 AI、 Ta、 Li、 Mg、 Ti、
 V。
The substrate used in the magnetic recording medium of the present invention is a substrate, or a substrate coated with various additional films, such as a substrate coated with a thick base film, and a thin base film coated on the base film. There are some that are coated with Metal substrates such as aluminum alloy, copper, brass, iron, and titanium are usually used as substrates, but the surfaces of these are oxidized,
Non-metallic substrates such as glass, ceramics, resin, etc., or substrates made of composite materials thereof, which have been subjected to chromate treatment or a suitable activation treatment, can also be used. Base thick film,
As the underlying thin film, it is preferable to use an electroless plating film of NiP or NiB, but it is also possible to use an electroplating film, a dry plating film by sputtering, vapor deposition, or the like. Furthermore, Mn, Fe is added to the NiP or NiB film.
, Co, AI, Ta, Li, Mg, Ti,
V.

Cr、 Cu、 Zn、 Ge、 y、 Zr、 Nb
l Mo、 Ru、 Rh、 pb、 Ags Au。
Cr, Cu, Zn, Ge, y, Zr, Nb
l Mo, Ru, Rh, pb, Ags Au.

Sn、Sb、Te、Cs、W、Re、Pb 、Bi、L
a、Ce、Pr、Nd、Ac、Ba、Pt、Smなどの
少なくとも1種の元素が含有されていてもよく、さらに
これニP、B、 C,N、 O,S、 As。
Sn, Sb, Te, Cs, W, Re, Pb, Bi, L
At least one element such as a, Ce, Pr, Nd, Ac, Ba, Pt, or Sm may be contained, and furthermore, P, B, C, N, O, S, or As.

Na、に、F、CI、Br、I、Caなとの非金属が含
まれていてもよい。また、下地厚膜、下地薄膜としては
、Ni合金膜に限定されることはなく 、W、 Mo、
 Cu、 8n、 Zn。
Na, may contain nonmetals such as F, CI, Br, I, and Ca. Further, the base thick film and base thin film are not limited to Ni alloy films, but may include W, Mo,
Cu, 8n, Zn.

Re、 Mn、 Fe、 Cr、 Co、 Au、 A
g、 AI、Ta、Ti、V、Siなどの少なくとも1
種の元素からなる膜であってもよく、さらにこれにP、
 B、 C,N、 O,S、As、Na、に、F、CI
、Br、I、Caなどの非金属が含まれていてもよい。
Re, Mn, Fe, Cr, Co, Au, A
at least one of g, AI, Ta, Ti, V, Si, etc.
It may also be a film made of a seed element, further containing P,
B, C, N, O, S, As, Na, F, CI
, Br, I, Ca, and other non-metals may be included.

また、下地厚膜、下地薄膜は各々単層である必要はなく
、金属または各種合金膜との多層であってもよい。下地
厚膜は、平滑な表面精度を得るため、通常、1〜50μ
m、好ましくは10〜30μm程度の膜厚の皮膜を形成
した後、研磨加工される。下地薄膜は、通常、下地厚膜
以下の膜厚であり、その上の磁性膜の特性の制御、磁性
膜への基板の影響の除去などを目的に形成される。
Further, the thick base film and the thin base film do not need to each be a single layer, but may be multilayers with metal or various alloy films. The base thick film is usually 1 to 50μ in order to obtain a smooth surface precision.
After forming a film with a thickness of about m, preferably about 10 to 30 μm, it is polished. The base thin film is usually less than the thick base film, and is formed for the purpose of controlling the characteristics of the magnetic film thereon, eliminating the influence of the substrate on the magnetic film, and the like.

本発明の磁気記録体において用いられる磁性層は、少な
くともCo、Ni、Feを含有する磁性膜であるが、さ
らにP、Bなどの添加元素を含有した合金膜であっても
よく、0を含有した酸化物膜や、Nを含有した窒化物膜
であってもよい。本発明において用いられる磁性膜のそ
の他の添加元素としては、特に限定される必要はないが
、Re、 Mn、 W、 Li、 Be、 Mg。
The magnetic layer used in the magnetic recording body of the present invention is a magnetic film containing at least Co, Ni, and Fe, but may also be an alloy film containing additional elements such as P and B, and may contain O. An oxide film containing N or a nitride film containing N may also be used. Other additive elements for the magnetic film used in the present invention are not particularly limited, but include Re, Mn, W, Li, Be, and Mg.

AI、Ru、Si、Mo、Zn、Sr、Y、Zr、Nb
、Cd、In、Sb、Ta、Ir、Hg、TI、Ti。
AI, Ru, Si, Mo, Zn, Sr, Y, Zr, Nb
, Cd, In, Sb, Ta, Ir, Hg, TI, Ti.

V、Or、Cu、Ga、Ge、Tc、Rb、Ra、Hf
、Rh、Pb、Ag、Au、Pt、Sn、Te。
V, Or, Cu, Ga, Ge, Tc, Rb, Ra, Hf
, Rh, Pb, Ag, Au, Pt, Sn, Te.

Ba、Cs、Os、Sc、Se、Pb、Bi、およびラ
ンタン系列希土類元素等の元素が含まれていてもよい。
Elements such as Ba, Cs, Os, Sc, Se, Pb, Bi, and lanthanum series rare earth elements may be included.

磁性膜中にはこれらの元素のほか、C,S、 As、 
Na、 K、 F、 CI、 Br、 I。
In addition to these elements, the magnetic film contains C, S, As,
Na, K, F, CI, Br, I.

Caなどの非金属が含まれていてもよい。磁性膜中には
、Co、Ni、Feは10%以上含まれるが、好ましく
は50%以上である。P、Bは最大30%程度含有され
るが、好ましくは15%以下の範囲である。磁性膜厚は
0.003〜3μmの範囲が用いられるが、高密度記録
用には0.5μm以下が好ましい。磁性層は1層または
2層以上で用いられる。2層以上の場合、同一または組
成、磁気特性等が高密度となる磁性膜を直接ないし非磁
性膜を介して積層される。これらの膜は、無電解めっき
法、電気めっき法などの湿式めっき法またはスパッタ法
、蒸着法、イオンブレーティング法などの乾式めっき法
によって形成される。
Non-metals such as Ca may also be included. The magnetic film contains 10% or more of Co, Ni, and Fe, preferably 50% or more. P and B are contained in a maximum amount of about 30%, but preferably in a range of 15% or less. The magnetic film thickness is preferably in the range of 0.003 to 3 μm, but preferably 0.5 μm or less for high-density recording. One or more magnetic layers are used. In the case of two or more layers, magnetic films having the same composition, high density magnetic properties, etc. are laminated directly or via a nonmagnetic film. These films are formed by wet plating methods such as electroless plating and electroplating, or dry plating methods such as sputtering, vapor deposition, and ion blating.

本発明の磁気記録体において用いられる保護層としては
、薄膜保護膜、または薄膜保護膜の下およびまたは上に
種々の付加的皮膜が形成されたもの、例えば上地薄膜上
に薄膜保護膜が被覆されたもの、さらにこの上に潤滑膜
が被覆されたもの、あるいは上地薄膜上に付加的皮膜が
被覆されさらに薄膜保護膜が被覆されたもの、さらにこ
の上に潤滑膜が被覆されたものなどがある。これらの膜
は、各々1層、もしくは多層であってもよい。薄膜保護
膜としては、石英ガラス、珪酸ガラス、燐酸塩ガラス、
非晶質アルミナなど一般にガラス状物質と呼ばれる非晶
質の半金属酸化物およびテトラヒドロキシシランの縮合
化合物であるポリ珪酸などの非晶質無機酸化物膜あるい
は炭素膜を用いることが好ましいが、513N4などの
珪素化合物膜、Rh、Agなとの金属膜、Co酸化物、
CoNi酸化物などの酸化膜等も使用されることがある
。これらの膜は、適宜スパッタ法、蒸着法、プラズマC
VD法プラズマインジェクションCVD法、イオンブレ
ーティング法などの乾式めっき法、無電解めっき法、電
気めっき法などの湿式めっき法、塗布法、溶液中酸化処
理法、熱酸化法などの方法によって形成される。上地薄
膜としては、Ni合金ないしはクロム化合物、ジルコニ
ウム化合物などの薄膜を用いることが好ましいが、前記
下地厚膜、下地薄膜と同様の材質を使用することもでき
る。潤滑膜としては、非極性固体潤滑材、極性固体潤滑
材、液体潤滑材などが使用される(第46回応用磁気学
会研究回資料、46−5.1986年)。
The protective layer used in the magnetic recording medium of the present invention is a thin protective film, or one in which various additional films are formed under and/or on the thin protective film, for example, a thin protective film coated on an upper thin film. products, products with a lubricating film on top of this, products with an additional film on the top thin film and a thin protective film, and products with a lubricating film on top of this, etc. There is. Each of these films may have one layer or multiple layers. As a thin protective film, quartz glass, silicate glass, phosphate glass,
It is preferable to use an amorphous semimetal oxide generally called a glassy substance such as amorphous alumina, and an amorphous inorganic oxide film such as polysilicic acid, which is a condensation compound of tetrahydroxysilane, or a carbon film, but 513N4 Silicon compound films such as Rh, Ag and other metal films, Co oxide,
Oxide films such as CoNi oxide may also be used. These films can be formed by sputtering, vapor deposition, plasma C.
Formed by methods such as VD method plasma injection CVD method, dry plating method such as ion blating method, wet plating method such as electroless plating method and electroplating method, coating method, oxidation treatment method in solution, thermal oxidation method, etc. . As the upper thin film, it is preferable to use a thin film of Ni alloy, chromium compound, zirconium compound, etc., but the same materials as the above-mentioned thick base film and thin base film can also be used. As the lubricating film, a non-polar solid lubricant, a polar solid lubricant, a liquid lubricant, etc. are used (46th Applied Magnetics Society Research Circular, 46-5, 1986).

本発明の磁気記録体の製造方法において用いられる貴金
属粗面化処理としては、磁気記録体の形成工程において
パラジウム、金、銀などの貴金属粗面化処理液に浸漬し
貴金属粒子を吸着させる方法が好ましいが、湿式あるい
は乾式のめっき法即ち、無電解めっき、電気めっき、ス
パッタ、蒸着、イオンブレーティング、クラスタイオン
ビーム蒸着等の処理方法でパラジウム、金、銀、白金、
ロジウム、ルテニウムなどの貴金属を付着させてもよい
。磁気記録体は、基板から保護膜・潤滑膜に至るまで、
これら貴金属よりもイオン化傾向の大きい金属(卑な金
属)を成分とする多層構造をしている場合が殆どである
。従って、貴金属の微小突起による粗面化された状態は
安定であり、その後の膜形成により溶出したり、変質し
たりする可能性が少ない。また、これら貴金属は非磁性
であり磁気記録体の記録再生特性に影響を与えることも
殆どない。このため貴金属が選定されたが、磁気記録体
を構成する各層よりもイオン化傾向が小さく、磁性の低
い金属、合金、化合物も用いることができる。処理液を
用いた貴金属粗面化処理法としては、プラスチックめっ
き等の前処理である活性化処理法を転用することができ
る。これには、酸性領域で行う塩化すず溶液による感受
性化処理と塩化パラジウム溶液による活性化処理の2段
階活性化処理法、酸性領域で行うすずlパラジウムコロ
イド触媒溶液と酸・アルカリ溶液を用いた促進化処理か
らなる1段階活性化処理法、アルカリ性領域で行うすず
lパラジウム錯体触媒溶液を用いた1段階活性化処理法
、酸性、アルカリ性、中性のいずれでも行える貴金属塩
溶液による活性化処理方法などがある。
The noble metal surface roughening treatment used in the manufacturing method of the magnetic recording body of the present invention includes a method in which noble metal particles such as palladium, gold, silver, etc. are adsorbed by immersion in a noble metal roughening treatment liquid such as palladium, gold, silver, etc. in the process of forming the magnetic recording body. Preferably, palladium, gold, silver, platinum,
Noble metals such as rhodium and ruthenium may also be deposited. Magnetic recording materials, from the substrate to the protective film and lubricant film,
In most cases, it has a multilayer structure composed of metals (base metals) that have a greater ionization tendency than these noble metals. Therefore, the roughened state of the precious metal due to the minute protrusions is stable and less likely to be eluted or altered by subsequent film formation. Furthermore, these noble metals are non-magnetic and have little effect on the recording and reproducing characteristics of the magnetic recording medium. For this reason, noble metals were selected, but metals, alloys, and compounds that have a smaller ionization tendency and lower magnetism than the layers constituting the magnetic recording medium can also be used. As the noble metal surface roughening treatment method using a treatment liquid, an activation treatment method that is a pretreatment for plastic plating and the like can be used. This involves a two-step activation treatment method consisting of sensitization treatment using a tin chloride solution in an acidic region and activation treatment using a palladium chloride solution, and promotion using a tin-palladium colloidal catalyst solution and an acid/alkaline solution in an acidic region. One-step activation treatment method consisting of chemical treatment, one-step activation treatment method using tin-palladium complex catalyst solution performed in alkaline region, activation treatment method using noble metal salt solution that can be performed in acidic, alkaline, or neutral conditions, etc. There is.

従来より広く行われている2段階処理法は、米国特許2
702253号に示されているように5nC1□溶液か
らなるセンシタイザ−液による感受性化処理、それに続
< Pd、Au、Agなどの貴金属イオンを有するアク
チベーター液による活性化処理の工程であり、この処理
により基板表面にはめっき反応の触媒作用をもつPb、
Au、Agなとの微粒子が付着する。処理液組成の例と
しては、金属表面技術講座9「無電解メツキ」、石橋知
著、朝食書店、1968年発行に見られるような、 Narcus液(酸性): 5nC1□10g/l、H
Cl40m1/l。
The two-step treatment method that has been widely used in the past is described in U.S. Pat.
As shown in No. 702253, this is a process of sensitization treatment with a sensitizer solution consisting of a 5nC1□ solution, followed by activation treatment with an activator solution containing noble metal ions such as Pd, Au, Ag, etc. Pb, which has a catalytic effect on the plating reaction, is deposited on the substrate surface.
Fine particles such as Au and Ag adhere. An example of the treatment liquid composition is Narcus liquid (acidic): 5nC1□10g/l, H
Cl40ml/l.

Narcus液(アルカリ性): 5nC1□100g
/l、ロッシェル塩175g/l、NaOH150g/
I Weiss液: 5nSO425〜40g/l、H2S
o45〜20m1/l。
Narcus liquid (alkaline): 5nC1□100g
/l, Rochelle salt 175g/l, NaOH 150g/l
I Weiss liquid: 5nSO425-40g/l, H2S
o45~20ml/l.

アルコール150〜250m1/l。Alcohol 150-250ml/l.

キノール5〜15m1/1.水600〜10100O/
IWalkar液: 5nC1□90g/l、HCl5
5m1/1などのセンシタイザ−液、 Pd処理液(1): PdC1□2g/l、HCl20
m1/l。
Quinol 5-15m 1/1. Water 600-10100O/
IWalkar solution: 5nC1□90g/l, HCl5
Sensitizer liquid such as 5m1/1, Pd treatment liquid (1): PdC1□2g/l, HCl20
m1/l.

Pd処理液(2): PdC1□0.15〜0.25g
/l、HCl2.5ml/1゜Au処理液:塩化金酸1
g/l、HCl2m/1゜Ag処理液:硝酸銀1.5g
/l、アンモニア1.2ml/1などのアクチベーター
液を用いることができる。
Pd treatment liquid (2): PdC1□0.15-0.25g
/l, HCl2.5ml/1°Au treatment solution: chloroauric acid 1
g/l, HCl2m/1°Ag treatment solution: silver nitrate 1.5g
An activator solution such as 1.2 ml/l of ammonia and 1.2 ml/l of ammonia can be used.

また、市販液の1例として日本カニゼン社製、ピンクシ
ューマー(センシタイザ−液)、レッドシューマー(ア
クチベーター液)などを用いることができる。
Further, as examples of commercially available liquids, Pink Schumer (sensitizer liquid), Red Schumer (activator liquid), etc. manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd. can be used.

近年、より均一な触媒化法として米国特許301192
0号、3532518号、3650913号に示されて
いるようにすすlパラジウムコロイド触媒溶液による触
媒化処理と酸ないしはアルカリ溶液による促進化処理液
からなる1段階処理法が行われるようになった。処理液
組成の例としては、ティ・オオサカ他(T、0saka
 et al)、ジャーナル・オブ・エレクトロケミカ
ル・ソサイアテイ(J、 Elctrochemica
l 5ociety)、127巻、5号、1980年、
1021頁にあるように、A液: HCl60m1/l
−+水−+PdPdC12l+SSnCl22H2O2
2の順で調整し、水を加えて10100Oとしたコロイ
ド液、B液: HCl60m1/1−+水−+PdC1
□0.25g−+5nC1□2H2012gの順で調整
し、水を加えて10100Oとしたコロイド液、 C液: HCl300ml−+水−+ PdC1□0g
−+ Na25nO31,5g−+5nC1□2H20
27,5gの順で加えて調整したコロイド液、 D液: HCl320m1−+水神PdC1□1g−+
5nC1□2H2o4gの順で加え1日熟成後5nC1
□22H2O46を加えて調整したコロイド液など、市
販液ではH液:日立化成製塩酸ベースコロイド液H81
01B、 F液ニジプレイファイ−スト製塩ベースコロ
イド液キャタボジット4などの触媒溶液と、ティ・オオ
サカ他(T、 0saka et al)、ジャーナル
・オブ・エレクトロケミカル・ソサイアティ(J、El
ctrochemical 5ociety) 、12
7巻、11号、1980年、 2343頁にあるように
、G液:NaOH1moL/1、・H液: HC16m
ol/l 、 I液:H2S041.12mol/1、
J液:アンモニア1moL/l、H液:NH4BF41
mol/1など、市販液ではH液:日立化成製ADP2
01、M液ニジプレイファイ−スト製アクセスレレータ
19などの促進化処理液を用いることができる。
In recent years, US Patent No. 301192 has been developed as a more uniform catalytic method.
As shown in No. 0, No. 3,532,518, and No. 3,650,913, a one-step treatment method consisting of a catalytic treatment using a soot/palladium colloidal catalyst solution and an acceleration treatment solution using an acid or alkaline solution has been carried out. As an example of the treatment liquid composition, T. Osaka et al.
et al), Journal of Electrochemical Society (J, Electrochemica)
l 5ociety), Volume 127, No. 5, 1980,
As shown on page 1021, liquid A: HCl60ml/l
-+Water-+PdPdC12l+SSnCl22H2O2
Colloidal liquid adjusted in the order of 2 and adjusted to 10100O by adding water, Solution B: HCl60ml1/1-+Water-+PdC1
Colloidal liquid adjusted in the order of □0.25g-+5nC1□2H2012g and made to 10100O by adding water, Solution C: HCl300ml-+Water-+PdC1□0g
-+ Na25nO31,5g-+5nC1□2H20
Colloidal liquid prepared by adding 27.5 g in this order, Solution D: HCl320ml-+Suishin PdC1□1g-+
Add 5nC1□2H2o4g in order and mature for 1 day, then add 5nC1
□For commercially available solutions, such as colloidal solutions prepared by adding 22H2O46, H solution: Hydrochloric acid-based colloidal solution H81 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
Catabosite 4, a salt-based colloidal liquid made by Nijipreifest, and catalyst solutions such as 01B and F liquids, as well as those described by Osaka et al.
ctrochemical 5ociety), 12
As stated in Vol. 7, No. 11, 1980, p. 2343, G solution: NaOH 1 moL/1, H solution: HC 16m
ol/l, I liquid: H2S041.12mol/1,
J solution: ammonia 1mol/l, H solution: NH4BF41
For commercially available solutions such as mol/1, H solution: ADP2 manufactured by Hitachi Chemical.
01, M liquid An accelerating treatment liquid such as Access Relater 19 manufactured by Niji Play First can be used.

さらに最近アルカリ性領域で行うすずlパラジウム錯体
触媒溶液が使用されるようになった。市販液としてはシ
エーリング社製アクチベーターネオガント834がある
Furthermore, tin-palladium complex catalyst solutions that operate in alkaline regions have recently come into use. A commercially available solution is Activator Neogant 834 manufactured by Schering.

酸性、アルカリ性ないしは中性領域で行う貴金属塩溶液
による粗面化処理方法としては、前記アクチベーター液
のPd処理液(1)、Pd処理液(2)、Au処理液、
Ag処理液などを用いることができる。
As a surface roughening treatment method using a noble metal salt solution carried out in an acidic, alkaline or neutral region, the activator liquid Pd treatment liquid (1), Pd treatment liquid (2), Au treatment liquid,
Ag treatment liquid or the like can be used.

PdC1□濃度としては0.0001〜50g/l、好
ましくは0.005〜15g/lの範囲が、塩化金酸濃
度としては0.001〜30g爪好ましくは0.1〜1
0g/lの範囲が、硝酸銀濃度としては0.001〜3
5g/l、好ましくは0.1〜15g/lの範囲が用い
られる。HCI濃度としては、0.001〜500m1
/1、好ましくは0.1〜100m1/lの範囲が、ア
ンモニア濃度としては、0.005〜600m1/1.
好ましくは0.1〜150m1/1の範囲が用いられる
。貴金属としては、Au、Ag、PdのほかにPt、R
h、Ru、Reなとの元素も用いることができ、貴金属
塩としては、塩化塩のほかに硫酸塩、硝酸塩、有機酸塩
なども用いることができる。また使用する酸も塩酸のほ
かに、硫酸、硝酸、有機酸等を用いることができる。そ
のほか、pH緩衝剤、錯化剤の作用を与えるコハク酸、
酢酸などの有機酸、界面活性剤などの添加剤が加えられ
ることがある。市販液としては、酸性液には日本カニゼ
ン社製の活性液1アルカリ性液には同じく日本カニゼン
社製の活性液2,3などがある。処理法としては、処理
温度0〜95°C1好ましくは15〜80°Cの範囲、
浸漬処理時間1秒〜100分、好ましくは5秒〜15分
間の範囲で行われる。処理液pHは、HCI酸性では通
常1以下のことが多いが、14以上のアルカリ性あるい
はその間のpH範囲で行われることがあり特に限定され
ない。
The PdC1□ concentration is in the range of 0.0001 to 50 g/l, preferably 0.005 to 15 g/l, and the chloroauric acid concentration is in the range of 0.001 to 30 g/l, preferably 0.1 to 1
The range of 0g/l is 0.001 to 3 as silver nitrate concentration.
5 g/l, preferably a range of 0.1 to 15 g/l is used. HCI concentration is 0.001-500ml
/1, preferably from 0.1 to 100 m1/l, and the ammonia concentration is from 0.005 to 600 m1/1.
Preferably, a range of 0.1 to 150 m1/1 is used. In addition to Au, Ag, and Pd, noble metals include Pt and R.
Elements such as h, Ru, and Re can also be used, and as noble metal salts, in addition to chloride salts, sulfates, nitrates, organic acid salts, etc. can also be used. In addition to hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, organic acids, etc. can also be used. In addition, succinic acid, which acts as a pH buffer and complexing agent,
Additives such as organic acids such as acetic acid and surfactants may be added. Commercially available liquids include Activated Liquid (manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd.) for acidic liquids and Activated Liquids 2 and 3 (also manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd.) for alkaline liquids. The treatment method includes a treatment temperature range of 0 to 95°C, preferably 15 to 80°C;
The immersion treatment time is 1 second to 100 minutes, preferably 5 seconds to 15 minutes. The pH of the treatment solution is not particularly limited, although the pH of the treatment solution is usually 1 or less in the case of HCI acidity, but it may be carried out in the alkalinity of 14 or more or in the pH range therebetween.

以上の処理方法によって必ずしも本発明の目的とする微
小突起が形成されるとは限らない。この処理を行なう表
面の状態との関係が重要であり、前処理として表面改質
を行なっておくことが望ましい。表面改質を行なう調整
処理には、酸処理、アルカリ処理などが用いられる。そ
の後の粗面化処理が酸性であれば酸処理、アルカリ性で
あればアルカリ処理が用いられ、塩酸、硫酸、硝酸、有
機酸などの各種酸やアンモニア、苛性ソーダのどの各種
アルカリの種類、濃度、浸漬時間などの調整処理条件は
所要粗さや粗面化処理に応じて選定される。
The above processing method does not necessarily result in the formation of the microprotrusions that are the object of the present invention. The relationship with the condition of the surface to be treated is important, and it is desirable to carry out surface modification as a pretreatment. Acid treatment, alkali treatment, etc. are used for surface modification treatment. If the subsequent surface roughening treatment is acidic, acid treatment is used; if alkaline, alkali treatment is used. Adjustment processing conditions such as time are selected depending on the required roughness and surface roughening treatment.

得られる磁気ディスクの表面の表面状態は、電子顕微鏡
観察、表面粗さ計を用いて調べることができる。このよ
うな処理法により、4μm2当たり1個以上の微小突起
が形成でき、hとして 0.0003〜0.05μm、好ましくは0.01μm
以下の表面粗さを得ることができる。
The surface condition of the surface of the obtained magnetic disk can be examined using electron microscopy and a surface roughness meter. By such a treatment method, one or more microprotrusions can be formed per 4 μm2, and h is 0.0003 to 0.05 μm, preferably 0.01 μm.
The following surface roughness can be obtained.

本発明の主要な目的は、4μm2当たり1個以上の微小
突起を有する保護層表面形状とすることにより従来の問
題を改善して、磁気ヘッドとの吸着を防止して耐久性に
優れた磁気記録体を提供することにある。従って、種々
の用途に用いるために磁気記録層の上下の層について種
々の材質の付加的層を加えた構成の磁気記録体に対して
も本発明を適用し得ることは明らかである。この様な構
成の磁気記録体としては例えば、材質が選定され精度よ
く加工されたガラス基板、セラミック基板、アルマイト
基板などのように、基板のみで硬度、機械的精度などの
基体に要求される条件を満たすため、下地厚膜ないし下
地薄膜を要しないもの、アルミ基板上にNLPめっき下
地厚膜を形成する基体において欠陥減少の目的で下地厚
膜を多層化したもの、磁気記録層の磁気特性、結晶構造
の制御や作製の容易さ等の目的で磁性層の下にクロム、
モリブデン、チタン、シリコン、金等の前処理層を形成
したもの、磁気記録特性の向上やデータ情報とサーボ情
報を多重すること等の目的で磁気記録層を直接または非
磁性層を介して多層にしたもの、耐候性をより向上させ
るために保護層の多層の多層構造にしたものなどが挙げ
られる。
The main object of the present invention is to improve the conventional problems by providing a surface shape of the protective layer with one or more microprotrusions per 4 μm2, thereby preventing adhesion with the magnetic head and providing magnetic recording with excellent durability. It's about offering your body. Therefore, it is clear that the present invention can also be applied to magnetic recording bodies in which additional layers of various materials are added above and below the magnetic recording layer for use in various applications. Magnetic recording media with such a configuration include, for example, glass substrates, ceramic substrates, alumite substrates, etc., which are made of carefully selected materials and processed with high precision. In order to satisfy the above requirements, a thick base film or a thin base film is not required, a base plate in which a thick base film for NLP plating is formed on an aluminum substrate has multiple layers of thick base films for the purpose of reducing defects, and magnetic properties of the magnetic recording layer. Chromium is added under the magnetic layer to control the crystal structure and facilitate manufacturing.
Pretreatment layers of molybdenum, titanium, silicon, gold, etc. are formed, and the magnetic recording layer is multilayered directly or via a nonmagnetic layer for the purpose of improving magnetic recording characteristics or multiplexing data information and servo information. Examples include those with a multilayer structure of multiple protective layers to further improve weather resistance.

(作用) 高密度磁気記録体として磁性薄膜を媒体に用いた磁気デ
ィスクでは、表面が平滑で潤滑剤の滞留場所がないため
磁気ヘッドとのC8S耐久性に劣り、潤滑剤の量を増す
と磁気へラドスライダ面との間に吸着を生じるという問
題があった。このため、平滑なディスク基板面に機械加
工によってテクスチャと呼ばれる筋をつけることが広く
行われている。しかし、このような機械加工により粗面
を形成する方法では、研磨粗さの不均一によって信号エ
ラーを生じやすいほか、粗さを細かく制御できないため
研磨筋の密度を高めることが困難であった。ヘッド吸着
を防ぎ十分な膜厚の潤滑膜を賦与するためには、表面粗
さを相当大きくする必要があり、電磁変換特性の低下を
招く問題があった。
(Function) In a magnetic disk that uses a magnetic thin film as a medium for high-density magnetic recording, the surface is smooth and there is no place for lubricant to accumulate, so the C8S durability with the magnetic head is poor, and if the amount of lubricant is increased, the magnetic There was a problem that adsorption occurred between the Herad slider and the surface. For this reason, it is widely practiced to create lines called texture by machining on the smooth disk substrate surface. However, this method of forming a rough surface by machining tends to cause signal errors due to non-uniform polishing roughness, and it is difficult to increase the density of polishing streaks because the roughness cannot be precisely controlled. In order to prevent head adsorption and provide a sufficiently thick lubricating film, it is necessary to considerably increase the surface roughness, which poses a problem of deterioration of electromagnetic conversion characteristics.

発明者らは、ディスク表面の粗さ・形状が、ヘッド吸着
、耐久性、電磁変換特性などに与える影響を詳細に検討
した結果、機械加工よりも物理的あるいは化学的表面処
理による方がはるかに微細で密な表面形状が得られしか
もその制御が容易なこと、機械加工によって形成される
研磨筋(凹部)よりも物理的あるいは化学的表面処理に
よって形成した微小突起(凸部)の方がヘッド吸着防止
効果が格段に大きいことが明かとなった。物理的あるい
は化学的表面処理による微小突起は微細かつ緻密に形成
できるため小さい表面粗さで十分であり、耐久性、電磁
変換特性などに良好な結果が得られることも明かとなっ
た。磁気ヘッドとの吸着を防止して耐久性に優れた磁気
記録体を得るための微小突起の高さ、形状などの条件は
ヘッド・ディスク条件に応じて選択されるが、微小突起
の高さよりも微小突起の量(微小突起の密度)の影響が
よす顕著であった。微小突起の密度が大きいほど良好な
結果が得られるが、好ましくは4μm2当たり1個以上
の密度であることが明かとなった。本発明は、このよう
な知見を得たことによりもたらされたものである。
The inventors conducted a detailed study on the effects of disk surface roughness and shape on head adsorption, durability, electromagnetic characteristics, etc., and found that physical or chemical surface treatment is far more effective than mechanical processing. A fine and dense surface shape can be obtained and it is easy to control, and it is better to use micro protrusions (protrusions) formed by physical or chemical surface treatment than polishing streaks (concavities) formed by machining. It has become clear that the adsorption prevention effect is significantly greater. It has also been revealed that microprotrusions produced by physical or chemical surface treatment can be formed finely and densely, so a small surface roughness is sufficient, and good results can be obtained in terms of durability, electromagnetic conversion characteristics, etc. Conditions such as the height and shape of the microprotrusions are selected depending on the head and disk conditions in order to prevent adsorption with the magnetic head and obtain a magnetic recording medium with excellent durability. The influence of the amount of microprotrusions (density of microprotrusions) was significant. It has been found that the higher the density of microprotrusions, the better the results, and that the density is preferably one or more per 4 μm 2 . The present invention was brought about by obtaining such knowledge.

(実施例) (実施例1) 十分な硬度と良好な表面精度(Ra0.001μm、T
IR≦20μm、加速度≦2G)のアルミナセラミック
ス基板(内径100mm、外径210mm)の表面を洗
浄、調整処理を行った後、この表面上に下記の条件で貴
金属粗面化処理をおこなった。
(Example) (Example 1) Sufficient hardness and good surface precision (Ra0.001μm, T
After cleaning and conditioning the surface of an alumina ceramic substrate (inner diameter 100 mm, outer diameter 210 mm) with IR≦20 μm and acceleration≦2G, noble metal roughening treatment was performed on the surface under the following conditions.

貴金属粗面化処理(1) センシタイザ−液(SnC1210g/l、HC140
mL/1,30°C)に1分間浸漬後、アクチベーター
液(PdC1□0.2g/l。
Precious metal surface roughening treatment (1) Sensitizer liquid (SnC1210g/l, HC140
mL/1,30°C) for 1 minute, then activator solution (PdC1□0.2g/l).

HCl2m1/1.40°C)に2分間浸漬。Immerse in HCl2ml/1.40°C for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(2) センシタイザ−液(SnC125g/l、HCl5m1
/1.35°C)に2分間浸漬後、アクチベーター液(
塩化金酸 1g/l、HCl2m1/1.45°C)に3分間浸漬
Precious metal surface roughening treatment (2) Sensitizer liquid (SnC125g/l, HCl5ml
/1.35°C) for 2 minutes, then soak in the activator solution (
Immersed in chloroauric acid (1g/l, HCl2ml/1.45°C) for 3 minutes.

貴金属粗面化処理(3) センシタイザ−液(SnC1□12g/l、HCl45
m1/1.35°C)に3分間浸漬後、アクチベーター
液(硝酸銀1.5g/l、アンモニア1.2ml/1.
50°C)に4分間浸漬。
Noble metal surface roughening treatment (3) Sensitizer liquid (SnC1□12g/l, HCl45
m1/1.35°C) for 3 minutes, then activator solution (silver nitrate 1.5 g/l, ammonia 1.2 ml/1.
50°C) for 4 minutes.

貴金属粗面化処理(4) センシタイザ−液(日本カニゼン社製ピンクシュー7−
125°C)に2分間浸漬後、アクチベーター液(日本
カニゼン社製レッドシューマー、40’C)に2分間浸
漬。
Precious metal surface roughening treatment (4) Sensitizer liquid (Pink Shoe 7- manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd.)
125°C) for 2 minutes, and then immersed in an activator solution (Red Schumer, manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd., 40'C) for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(5) 触媒化処理液(D液: HCl320m1−+水神Pd
C1□1g→SSnCl22H2O4の順で加え1日熟
成後5nC1□22H2O46を加えて調整したコロイ
ド液、30°C)に2分間浸漬後、促進化処理液(K液
:NH4BF41mol/1,45°C)に3分間浸漬
Precious metal surface roughening treatment (5) Catalytic treatment liquid (D liquid: HCl320ml- + Suishin Pd
Add 1g of C1□→SSnCl22H2O4 and mature for 1 day, then immerse for 2 minutes in a colloidal solution prepared by adding 5nC1□22H2O46 (30°C), then accelerate treatment solution (K solution: NH4BF41mol/1,45°C) Soak for 3 minutes.

貴金属粗面化処理(6) 触媒化処理液(F液ニジプレイファイ−スート製塩ベー
スコロイド液キャタボジット必、50°C)に1分間浸
漬後、促進化処理液(M液ニジプレイファースト製アク
セレレータ19.30°C)に4分間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (6) After immersing for 1 minute in the catalytic treatment liquid (F liquid, salt-based colloidal liquid Catabosite, manufactured by Niji Play Phi-Suite, 50°C), the acceleration treatment liquid (M liquid, Niji Play First, Accelerator 19) was added. .30°C) for 4 minutes.

次にその上に無電解めっき法によりめっき浴(1)を用
いて膜厚0.08μmの磁性薄膜を形成した。
Next, a magnetic thin film having a thickness of 0.08 μm was formed thereon by electroless plating using plating bath (1).

めっき浴(1) めっき浴組成 硫酸コバルト        0.07mol/1硫酸
ニッケル        0.035mol/1次亜リ
ン酸ナトリウム    0.25mol/1マロン酸ナ
トリウム     0.5moL’1リンゴ酸ナトリウ
ム     0.3mol/1コハク酸ナトリウム  
   0.4moL/1硫酸アンモニウム      
0.4mol/1めっき条件 浴温82°C めっき浴のpH9,2(室温にてアンモニア水でpH調
節)めっき液の容量1001 次ニこの上に珪酸上ツマ−を回転塗布し、190°Cで
30時間焼成して膜厚0.08μmの珪酸重合体を主成
分とする薄膜保護膜を形成し、更にこの上に固体潤滑剤
(モノステアリン)からなる潤滑層を形成し磁気ディス
ク(1〜6←−−−一貴金属粗面化処理の番号に対応)
を作製した。
Plating bath (1) Plating bath composition Cobalt sulfate 0.07 mol/1 Nickel sulfate 0.035 mol/1 Sodium hypophosphite 0.25 mol/1 Sodium malonate 0.5 moL'1 Sodium malate 0.3 mol/1 Succinic acid sodium
0.4mol/1 ammonium sulfate
0.4 mol/1 plating condition Bath temperature 82°C Plating bath pH 9.2 (pH adjusted with aqueous ammonia at room temperature) Plating solution volume 1001 A thin protective film mainly composed of silicic acid polymer with a film thickness of 0.08 μm was formed by baking for 30 hours, and a lubricating layer made of a solid lubricant (monostearin) was further formed on top of this to form a thin protective film with a thickness of 0.08 μm. 6←---corresponds to the No. 1 noble metal roughening treatment number)
was created.

得られた磁気ディスクの表面の電子顕微鏡観察を行なっ
た結果、4μm2当たり1個以上の微小突起が形成され
ていた。こうして得られた磁気記録体の構造をモデル図
で示すと第1図のようになる。
Electron microscopic observation of the surface of the obtained magnetic disk revealed that one or more microprotrusions were formed per 4 μm 2 . The structure of the thus obtained magnetic recording medium is shown in a model diagram as shown in FIG.

(実施例2) 実施例1と同様の手順で磁気記録体の作製を行なったが
、本実施例では実施例1での各貴金属粗面化処理の後、
日本カニゼン社製無電解NLPめっき液(シューマー)
を用いて膜厚0.05μmの非磁性N1−P下地薄膜を
形成する工程を加えた。
(Example 2) A magnetic recording body was manufactured using the same procedure as in Example 1, but in this example, after each noble metal roughening treatment in Example 1,
Electroless NLP plating solution manufactured by Nihon Kanigen Co., Ltd. (Schumer)
A step of forming a non-magnetic N1-P base thin film with a film thickness of 0.05 μm was added using the above method.

用いた各貴金属粗面化処理(1)〜(6)に対して、デ
ィスク番号を順に(7)〜(12)とする。
For each of the noble metal surface roughening treatments (1) to (6) used, the disk numbers are sequentially designated as (7) to (12).

得られた磁気ディスクの表面の電子顕微鏡観察を行なっ
た結果、4μm2当たり1個以上の微小突起が形成され
ていた。こうして得られた磁気記録体の構造をモデル図
で示すと第2図のようになる。
Electron microscopic observation of the surface of the obtained magnetic disk revealed that one or more microprotrusions were formed per 4 μm 2 . The structure of the thus obtained magnetic recording medium is shown in a model diagram as shown in FIG.

(実施例3) アルミ合金基板(内径100mm外径210mm)上に
、公知の前処理(洗浄、亜鉛置換処理等)を行った後、
シブレイファイ−スト社製無電解NiPめっき液にポジ
ット)を用いて膜厚25μmの非磁性N1−P下地厚膜
をめっきした。次に下地厚膜表面を鏡面研磨°した後、
調整処理を行ないこの表面上に下記の条件で貴金属粗面
化処理をおこなった。
(Example 3) After performing known pretreatment (cleaning, zinc substitution treatment, etc.) on an aluminum alloy substrate (inner diameter 100 mm outer diameter 210 mm),
A non-magnetic N1-P base thick film having a thickness of 25 μm was plated using an electroless NiP plating solution manufactured by Sibley First Co., Ltd. (posit). Next, after mirror polishing the base thick film surface,
After the adjustment treatment, noble metal roughening treatment was performed on the surface under the following conditions.

貴金属粗面化処理(7) センシタイザ−液(SnC127g/l、HC130m
L/1,25°C)に2分間浸漬後、アクチベーター液
(PdC120,05g/l。
Precious metal surface roughening treatment (7) Sensitizer liquid (SnC127g/l, HC130m
After immersion for 2 minutes in the activator solution (PdC 120,05 g/l).

HCl2m1/1.45°C)に1分間浸漬。Immerse in HCl2ml/1.45°C for 1 minute.

貴金属粗面化処理(8) センシタイザ−液(SnC1290g/l、ロッシェル
塩150g/l、NaOH100g/l)に3分間浸漬
後、アクチベーター液(塩化金酸1.5g/l、HCl
2m1/1.25°C)に2分間浸漬。
Noble metal surface roughening treatment (8) After 3 minutes immersion in sensitizer liquid (SnC 1290 g/l, Rochelle salt 150 g/l, NaOH 100 g/l), activator liquid (chloroauric acid 1.5 g/l, HCl
2m1/1.25°C) for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(9) センシタイザ−液(SnC125g/l、HCl15m
1/1.40°C)に30秒間浸漬後、アクチベーター
液(硝酸銀1g/l、アンモニア2ml/1.40°C
)に2分間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (9) Sensitizer liquid (SnC125g/l, HCl15m
1/1.40°C) for 30 seconds, then activator solution (silver nitrate 1g/l, ammonia 2ml/1.40°C)
) for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(10) センシタイザ−液(日本カニゼン社製ピンクシューマー
、25°C)に2分間浸漬後、アクチベーター液(日本
カニゼン社製レッドシューマー、30°C)に2分間浸
漬。
Precious metal surface roughening treatment (10) After 2 minutes of immersion in a sensitizer solution (Pink Schumer, manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd., 25°C), it was immersed for 2 minutes in an activator liquid (Red Schumer, manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd., 30°C).

貴金属粗面化処理(11) 触媒化処理液(A液:HCl60m1/1−+水神Pd
C1□Ig→5nC1□22H2O22の順で調整し、
水を加えて10100Oとしたコロイド液)に1分間浸
漬後、促進化処理液(K液:NH4BF41mol/1
,45°C)に2分間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (11) Catalytic treatment liquid (Liquid A: HCl 60ml 1/1- + Suishin Pd
Adjust in the order of C1□Ig→5nC1□22H2O22,
After 1 minute immersion in the colloidal solution (colloidal solution adjusted to 10100O by adding water),
, 45°C) for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(12) 触媒化処理液(F液ニジプレイファイ−スト製塩ベース
コロイド液キャタポジット必、40°C)に30秒間浸
漬後、促進化処理液(M液ニジプレイファイ−スト製ア
クセレレータ19.25°C)に2分間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (12) After immersing in the catalytic treatment liquid (F liquid Niji Play Fist salt-based colloidal liquid Cataposit, 40°C) for 30 seconds, the acceleration treatment liquid (M liquid Niji Play Fist) immersed in a manufactured accelerator (19.25°C) for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(13) アクチベーター液(PdC120,02g/l、HCl
2rn1/1,65°C)に5分間浸漬。
Noble metal surface roughening treatment (13) Activator liquid (PdC120.02g/l, HCl
2rn1/1, 65°C) for 5 minutes.

貴金属粗面化処理(14) アクチベーター液(塩化金酸0.8g/l、 HCl1
.5ml/l。
Noble metal surface roughening treatment (14) Activator liquid (chloroauric acid 0.8 g/l, HCl1
.. 5ml/l.

40°C)に2分間浸漬。40°C) for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(15) アクチベーター液(硝酸銀1.2g/l、アンモニア1
.2ml/1.45°C)に3分間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (15) Activator liquid (silver nitrate 1.2 g/l, ammonia 1
.. 2ml/1.45°C) for 3 minutes.

貴金属粗面化処理(16) アクチベーター液(日本カニゼン社製の活性液1.50
℃)に1分間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (16) Activator liquid (activator liquid 1.50 manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd.)
℃) for 1 minute.

次にこの上に実施例1と同様の条件で膜厚0.08μm
の磁性薄膜を形成した。
Next, a film with a thickness of 0.08 μm was applied on top of this under the same conditions as in Example 1.
A magnetic thin film was formed.

次にこの上に珪酸モノマーを回転塗布し、190°Cで
1時間焼成して膜厚0.08μmの珪酸重合体を主成分
とする薄膜保護膜を形成し、更にこの上に液体潤滑剤(
パーフロロアルキルポリエーテル)からなる潤滑層を形
成し磁気ディスクを作製した。
Next, a silicic acid monomer was spin-coated on top of this, and baked at 190°C for 1 hour to form a thin protective film mainly composed of a silicic acid polymer with a film thickness of 0.08 μm.Furthermore, a liquid lubricant (
A magnetic disk was fabricated by forming a lubricating layer made of perfluoroalkyl polyether.

用いた各貴金属粗面化処理(7)〜(16)に対して、
ディスク番号を順に(13)〜(22)とする。
For each noble metal roughening treatment (7) to (16) used,
Let the disk numbers be (13) to (22) in order.

得られた磁気ディスクの表面の電子1鼾教鏡観察を行な
った結果、4μm2当たり1個以上の微小突起が形成さ
れていた。こうして得られた磁気記録体の構造をモデル
図で示すと第3図のようになる。
As a result of electron microscope observation of the surface of the obtained magnetic disk, it was found that one or more microprotrusions were formed per 4 μm 2 . The structure of the thus obtained magnetic recording medium is shown in a model diagram as shown in FIG.

(実施例4) 実施例3と同様の手順で磁気記録体の作製を行なったが
、本実施例では実施例3での下地厚膜表面の鏡面研磨後
、シプレイファーイーストサ製無電解N1CuPめっき
液にクロイ)を用いて膜厚0.5μmの非磁性N1Cu
P下地薄膜を形成する工程を加えた。
(Example 4) A magnetic recording medium was manufactured in the same manner as in Example 3, but in this example, after mirror polishing the surface of the base thick film in Example 3, electroless N1CuP plating manufactured by Shipley Fareastsa was applied. Non-magnetic N1Cu with a film thickness of 0.5 μm was made using
A step of forming a P base thin film was added.

したがって実施例3で下地厚膜表面上に行なった調整処
理と各貴金属粗面化処理を、本実施例ではこの下地薄膜
表面上に行なうことになる。
Therefore, the adjustment treatment and each noble metal surface roughening treatment performed on the surface of the thick base film in Example 3 are performed on the surface of this thin base film in this example.

用いた各貴金属粗面化処理(7)〜(16)に対して、
ディスク番号を順に(23)〜(32)とする。
For each noble metal roughening treatment (7) to (16) used,
Let the disk numbers be (23) to (32) in order.

得られた磁気ディスクの表面の電子顕微鏡観察を行なっ
た結果、4μm”当たり1個以上の微小突起が形成され
ていた。こうして得られた磁気記録体の構造をモデル図
で示すと第4図のようになる。
As a result of electron microscopy observation of the surface of the magnetic disk obtained, it was found that one or more microprotrusions were formed per 4 μm.The structure of the magnetic recording medium obtained in this way is shown in a model diagram as shown in Figure 4. It becomes like this.

(実施例5) 実施例3と同様の手順で磁気記録体の作製を行なったが
、本実施例では実施例3での下地厚膜表面の鏡面研磨後
、その上に無電解めっき法によりめっき浴(2)を用い
て膜厚0.08μmの磁性薄膜を形成した。次に、この
磁性層の表面上に調整処理の後下記の条件で貴金属粗面
化処理をおこなった。
(Example 5) A magnetic recording medium was manufactured using the same procedure as in Example 3, but in this example, after mirror polishing the surface of the base thick film in Example 3, plating was performed on it by electroless plating. A magnetic thin film with a thickness of 0.08 μm was formed using bath (2). Next, after an adjustment treatment, a noble metal surface roughening treatment was performed on the surface of this magnetic layer under the following conditions.

貴金属粗面化処理(17) センシタイザ−液(SnC1□Ig/l、HCl15m
1/1.25°C)に1分間浸漬後、アクチベーター液
(PdC1□0.02gA。
Noble metal surface roughening treatment (17) Sensitizer liquid (SnC1□Ig/l, HCl15m
1/1.25°C) for 1 minute, and then immersed in activator solution (PdC1□0.02gA).

HCl1.5ml、40°C)に50秒間浸漬。Immerse in HCl (1.5 ml, 40°C) for 50 seconds.

貴金属粗面化処理(18) センシタイザ−液(SnC1□50g/l、ロッシエ)
I/ 塩100g/l、NaOH50g/l、25°C
)に1分間浸漬後、アクチベーター液(塩化金酸0.5
g/l、HCl3.ml/1,25°C)に30秒間浸
漬。
Precious metal surface roughening treatment (18) Sensitizer liquid (SnC1□50g/l, Rossier)
I/ Salt 100g/l, NaOH50g/l, 25°C
) for 1 minute, then activator solution (chloroauric acid 0.5
g/l, HCl3. ml/1, 25°C) for 30 seconds.

貴金属粗面化処理(19) センシタイザ−液(Sn01□20g/l、ロッシェル
塩50g/l、NaOH20g/l、25°C)に30
秒間浸漬後、アクチベーター液(硝酸銀1.5g/l、
アンモニア3ml/1.45°C)に2分間浸漬。
Noble metal surface roughening treatment (19) Sensitizer liquid (Sn01□20g/l, Rochelle salt 50g/l, NaOH20g/l, 25°C)
After immersion for seconds, add activator solution (silver nitrate 1.5 g/l,
Soaked in ammonia (3ml/1.45°C) for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(20) 触媒化処理液(F液ニジプレイファイ−スト製塩ベース
コロイド液キャタボジット44.30°C)に10秒間
浸漬後、促進化処理液(M液ニジプレイファイ−スト製
アクセレレータ19.25°C)に1分間浸漬。
Noble metal surface roughening treatment (20) After immersing in the catalytic treatment liquid (F liquid, salt-based colloidal liquid Catabosite manufactured by Niji Play Fist, 44.30°C) for 10 seconds, the acceleration treatment liquid (M liquid, manufactured by Niji Play Fist) Immerse in accelerator (19.25°C) for 1 minute.

貴金属粗面化処理(21) アクチベーター液(PdC1□0.01g/l、HCl
1m1/1.30°C)に2分間浸漬。
Noble metal surface roughening treatment (21) Activator liquid (PdC1□0.01g/l, HCl
1m1/1.30°C) for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(22) アクチベーター液(塩化金酸0.TgA、 HCl1.
5ml/l。
Noble metal surface roughening treatment (22) Activator liquid (chloroauric acid 0.TgA, HCl 1.
5ml/l.

35°C)に2分間浸漬。35°C) for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(23) アクチベーター液(硝酸銀1.5g/l、アンモニア2
ml/1.25°C)に1分間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (23) Activator liquid (silver nitrate 1.5 g/l, ammonia 2
ml/1.25°C) for 1 minute.

貴金属粗面化処理(24) アクチベーター液(日本カニゼン社製の活性液3.60
°C)に2分間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (24) Activator liquid (activator liquid 3.60 manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd.)
℃) for 2 minutes.

したがって、実施例3で下地厚膜表面上に行った貴金属
粗面化処理を本実施例では磁性層表面上に行なったこと
になる。
Therefore, the noble metal surface roughening treatment performed on the surface of the thick base film in Example 3 was performed on the surface of the magnetic layer in this example.

用いた各貴金属粗面化処理(17)〜(24)に対して
ディスク番号を順に(33)〜(40)とする。
The disk numbers are (33) to (40) in order for the noble metal surface roughening treatments (17) to (24) used.

得られた磁気ディスクの表面の電子顕微鏡観察を行なっ
た結果、4μm2当たり1個以上の微小突起が形成され
ていた。こうして得られた磁気記録体の構造をモデル図
で示すと第5図のようになる。
Electron microscopic observation of the surface of the obtained magnetic disk revealed that one or more microprotrusions were formed per 4 μm 2 . The structure of the magnetic recording medium thus obtained is shown in a model diagram as shown in FIG.

(実施例6) 実施例5と同様の手順で磁気記録体の作製を行なったが
、本実施例では実施例5での磁性層のめっき後、その上
に日本カニゼン社製無電解NiPめっき液(シューマー
)を用いて膜厚0.04μmの非磁性N1−P上地薄膜
を形成する工程を加え、この上地薄膜の表面上に実施例
5と同様の条件で貴金属粗面化処理を行った。したがっ
て実施例5で磁性層表面に行った貴金属粗面化処理を、
本実施例ではこの上地薄膜表面上に行なうことになる。
(Example 6) A magnetic recording medium was produced in the same manner as in Example 5, but in this example, after plating the magnetic layer in Example 5, an electroless NiP plating solution manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd. was applied on top of the magnetic layer. A step of forming a non-magnetic N1-P overlying thin film with a film thickness of 0.04 μm was added using (Schumer), and noble metal roughening treatment was performed on the surface of this overlying thin film under the same conditions as in Example 5. Ta. Therefore, the noble metal roughening treatment performed on the magnetic layer surface in Example 5 was
In this embodiment, the process will be carried out on the surface of this upper thin film.

次にこの上にRFスパッタ法により膜厚0.04μmの
炭素膜よりなる薄膜保護膜を形成した。
Next, a thin protective film made of a carbon film having a thickness of 0.04 μm was formed thereon by RF sputtering.

用いた各貴金属粗面化処理(17)〜(24)に対して
、ディスク番号を順に(41)〜(48)とする。
For each of the noble metal surface roughening treatments (17) to (24) used, the disk numbers are given as (41) to (48) in order.

得られた磁気ディスクの表面の電子顕微鏡観察を行なっ
た結果、4m2当たり1個以上の微小突起が形成されて
いた。こうして得られた磁気記録体の構造をモデル図で
示すと第6図のようになる。
Electron microscopic observation of the surface of the obtained magnetic disk revealed that one or more microprotrusions were formed per 4 m2. The structure of the thus obtained magnetic recording medium is shown in a model diagram as shown in FIG.

(実施例7) 実施例5と同様の手順で磁気記録体の作製を行なったが
、本実施例では実施例5での磁性層のめっき後、その上
にRFスパッタ法により膜厚0.03μmのクロム化合
物(主成分はクロムであるが、一部酸化クロムを含む)
よりなる上地薄膜を形成し、この上にRFスパッタ法に
より膜厚0.04μmの炭素膜よりなる薄膜保護膜を形
成した。次に、この薄膜保護膜の表面上に下記の条件で
貴金属粗面化処理を行った。
(Example 7) A magnetic recording body was manufactured using the same procedure as in Example 5, but in this example, after plating the magnetic layer in Example 5, a film with a thickness of 0.03 μm was formed on it by RF sputtering. Chromium compounds (the main component is chromium, but some chromium oxide is included)
A top thin film was formed, and a thin protective film made of a carbon film having a thickness of 0.04 μm was formed thereon by RF sputtering. Next, noble metal surface roughening treatment was performed on the surface of this thin protective film under the following conditions.

貴金属粗面化処理(25) センシタイザ−液(SnC1□3g/l、HCl3m1
/1.30°C)に1分間浸漬後、アクチベーター液(
PdC1□0.03g/l、 HCl2m1/l。
Noble metal surface roughening treatment (25) Sensitizer liquid (SnC1□3g/l, HCl3ml
/1.30°C) for 1 minute, then soak in the activator solution (
PdC1□0.03g/l, HCl2m1/l.

35°C)に1分間浸漬。35°C) for 1 minute.

貴金属粗面化処理(26) センシタイザ−液(Sn01270g/l、ロッシェル
塩120g/l、NaOH50g/l、25°C)に2
分間浸漬後、アクチベーター液(塩化金酸1.3g/l
、HCl5m1/1,30°C)に50秒間浸漬。
Noble metal surface roughening treatment (26) Sensitizer liquid (Sn01270g/l, Rochelle salt 120g/l, NaOH50g/l, 25°C)
After soaking for a minute, activator solution (chloroauric acid 1.3g/l)
, HCl 5ml/1, 30°C) for 50 seconds.

貴金属粗面化処理(27) センシタイザ−液(SnC1□30gA、ロッシェル塩
60g/l、NaOH30g/l、35°C)に2分間
浸漬後、アクチベーター液(硝酸銀1.5g/l、アン
モニア4ml/1.40°C)に3分間浸漬。
Noble metal surface roughening treatment (27) After immersion in sensitizer solution (SnC1□30gA, Rochelle salt 60g/l, NaOH 30g/l, 35°C) for 2 minutes, activator solution (silver nitrate 1.5g/l, ammonia 4ml/l) 1.40°C) for 3 minutes.

貴金属粗面化処理(28) 触媒化処理液(F液ニジプレイファイ−スト製塩ベース
コロイド液キャタポジット44.50°C)に45秒間
浸漬後、促進化処理液(M液ニジプレイファイ−スト製
アクセレレータ19.25°C)に30秒間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (28) After 45 seconds of immersion in the catalytic treatment liquid (F liquid Niji Play Fist salt-based colloidal liquid Cataposit 44.50°C), the acceleration treatment liquid (M liquid Niji Play Fist) immersed in a manufactured accelerator (19.25°C) for 30 seconds.

貴金属粗面化処理(29) アクチベーター液(PdC1□0.1g/l、HCl6
m1/1.30°C)に3分間浸漬。
Noble metal surface roughening treatment (29) Activator liquid (PdC1□0.1g/l, HCl6
m1/1.30°C) for 3 minutes.

貴金属粗面化処理(30) アクチベーター液(塩化金酸1g/l、 HCl1.5
ml/l。
Noble metal surface roughening treatment (30) Activator liquid (chloroauric acid 1g/l, HCl 1.5
ml/l.

30°C)に3分間浸漬。30°C) for 3 minutes.

貴金属粗面化処理(31) アクチベーター液(硝酸銀1.5g/l、アンモニア5
ml/1,35°C)に2分間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (31) Activator liquid (silver nitrate 1.5 g/l, ammonia 5
ml/1, 35°C) for 2 minutes.

貴金属粗面化処理(32) アクチベーター液(日本カニゼン社製の活性液2.60
°C)に2分間浸漬。
Precious metal surface roughening treatment (32) Activator liquid (activated liquid 2.60 manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd.)
℃) for 2 minutes.

したがって実施例5で磁性層表面上に行った貴金属粗面
化処理を、本実施例ではこの薄膜保護膜表面上に行なう
ことになる。
Therefore, the noble metal roughening treatment performed on the surface of the magnetic layer in Example 5 is performed on the surface of this thin protective film in this example.

用いた各貴金属粗面化処理(25)〜(32)に対して
、ディスク番号を順に(49)〜(56)とする。
For each of the noble metal surface roughening treatments (25) to (32) used, the disk numbers are given as (49) to (56) in order.

得られた磁気ディスクの表面の電子顕微鏡観察を行なっ
た結果、4μm2当たり1個以上の微笑突起が形成され
ていた。こうして得られた磁気記録体の構造をモデル図
で示すと第7図のようになる。
As a result of electron microscopic observation of the surface of the obtained magnetic disk, it was found that one or more smile protrusions were formed per 4 μm 2 . The structure of the thus obtained magnetic recording medium is shown in a model diagram as shown in FIG.

(比較例1) 実施例3と同様の手順で磁気記録体の作製を行なったが
、本比較例では下地厚膜表面上に行った各貴金属粗面化
処理を省略した。
(Comparative Example 1) A magnetic recording body was produced in the same manner as in Example 3, but in this comparative example, the noble metal roughening treatment performed on the surface of the underlying thick film was omitted.

得られた磁気ディスクの表面の電子顕微鏡観察および表
面粗さの測定を行なった結果、微小突起はなく極めて平
滑な表面であった。こうして得られたディスクの番号を
(57)とする。この磁気記録体の構造をモデル図で示
すと第8図のようになる。
Electron microscopic observation of the surface of the obtained magnetic disk and measurement of surface roughness revealed that the surface was extremely smooth with no microprotrusions. The disk number thus obtained is assumed to be (57). The structure of this magnetic recording medium is shown in a model diagram as shown in FIG.

(比較例2) 実施例7と同様の手順で磁気記録体の作製を行なったが
、本比較例では薄膜保護膜表面上に行なった各貴金属粗
面化処理を省略した。
(Comparative Example 2) A magnetic recording body was produced in the same manner as in Example 7, but in this comparative example, the noble metal roughening treatment performed on the surface of the thin protective film was omitted.

得られた磁気ディスクの表面の電子顕微鏡観察および表
面粗さの測定を行なった結果、微小突起はなく極めて平
滑な表面であった。こうして得られたディスクの番号を
(58)とする。この磁気記録体の構造をモデル図で示
すと第9図のようになる。
Electron microscopic observation of the surface of the obtained magnetic disk and measurement of surface roughness revealed that the surface was extremely smooth with no microprotrusions. The disk number obtained in this way is assumed to be (58). The structure of this magnetic recording medium is shown in a model diagram as shown in FIG.

実施例および比較例で得られた磁気ディスクについて、
3350型Mn−Znフェライト磁気ヘッドを用いてヘ
ッド吸着の有無を検討した。W!を気ヘッドと各ディス
クをドライブに設定し、放置前後の摩擦係数を測定した
。放置前の摩擦係数は全てのディスクにって0.23〜
0.27の範囲にあったが、比較例のディスク(57)
および(58)では100時間放置後の摩擦係数が1.
0以上に増加しヘッド吸着現象を生じていた。しかし、
実施例では得られたディスク(1)〜(56)について
は、100時間放置後の摩擦係数の値は0.21〜0.
25の範囲にありヘッド吸着に関しなんら問題がなかっ
た。また実施例および比較例で得られた磁気ディスクに
ついて、3350型Mn−Znフェライト磁気ヘッドを
用いてC85(接触・始動・停止)試験を行ない表面に
傷が発生するまでのC8S回数を調べた。この回数が2
万回以上であれば実用上十分な耐久性をもつと考えられ
る。比較例のディスク(57)および(58)では数百
回で表面に傷が発生し、ディスク(57)でC8866
500回、ディスク(58)でC887300回でヘッ
ドクラッシュに至った。実施例で得られたディスク(1
)〜(56)については、C885万回後においもディ
スク表面に傷の発生は認められず、耐久性が著しく向上
していた。さらに実施例および比較例で得られた磁気デ
ィスクについて、記録再生特性の比較を行なったが、出
力、分解能、オーバーライド、ノイズ、ピークシフトの
いずれの特性も同様の値を示し、実施例において微小突
起を磁気記録体の表面に形成したことによる影響は認め
られなかった。
Regarding the magnetic disks obtained in Examples and Comparative Examples,
The presence or absence of head adsorption was investigated using a 3350 type Mn-Zn ferrite magnetic head. W! The head and each disk were set in the drive, and the coefficient of friction was measured before and after leaving the drive. The coefficient of friction before storage is 0.23~ for all discs.
Although it was in the range of 0.27, the comparative example disk (57)
In (58), the friction coefficient after standing for 100 hours is 1.
The number increased to more than 0, causing a head adsorption phenomenon. but,
In the examples, for the disks (1) to (56) obtained, the friction coefficient values after being left for 100 hours were 0.21 to 0.
It was within the range of 25, and there were no problems with head adsorption. Further, the magnetic disks obtained in Examples and Comparative Examples were subjected to a C85 (contact/start/stop) test using a 3350 type Mn-Zn ferrite magnetic head to determine the number of C8S cycles until scratches appeared on the surface. This number is 2
If it is used more than 10,000 times, it is considered to have sufficient durability for practical use. Comparative example discs (57) and (58) had scratches on the surface after several hundred cycles, and disc (57)
500 times, the disk (58) led to a head crash at C887,300 times. Disk obtained in Example (1
) to (56), no scratches were observed on the disk surface after 8.85 million cycles, and the durability was significantly improved. Furthermore, the recording and reproducing characteristics of the magnetic disks obtained in Examples and Comparative Examples were compared, and the characteristics of output, resolution, override, noise, and peak shift all showed similar values, and microprotrusions were observed in Examples. No effect was observed due to the formation of the magnetic recording material on the surface of the magnetic recording medium.

(発明の効果) 以上、実施例および比較例で示されたように本発明によ
れば、基体と、この基体を被覆する磁性層と、この磁性
層を被覆する保護層からなる磁気記録体において、前記
基体を構成する基板表面、下地厚膜表面または下地薄膜
表面、前記磁性層の表面、または前記保護層を構成する
上地薄膜または薄膜保護膜に微小突起を形成して、4μ
m2当たり1個以上の突起密度の表面状態とすることに
より、信号エラーの増加やS/Nの低下がなく、磁気ヘ
ッドとの吸着を防止して耐久性に優れた磁気記録体が得
られる。
(Effects of the Invention) As shown above in the Examples and Comparative Examples, according to the present invention, a magnetic recording body consisting of a base, a magnetic layer covering the base, and a protective layer covering the magnetic layer. , forming microprotrusions on the surface of the substrate constituting the base, the surface of the base thick film or the base thin film, the surface of the magnetic layer, or the top thin film or thin protective film constituting the protective layer;
By creating a surface condition with a protrusion density of 1 or more per m2, a magnetic recording body with excellent durability can be obtained without increasing signal errors or decreasing S/N, preventing adhesion with the magnetic head.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第7図は、それぞれ本発明の磁気記録体の実施
例1〜実施例7の断面模式図第8図および第9図は本発
明の実施例と比較される磁気記録体の断面模式図である
。 1・・・基板、2・・・下地厚膜、3・・・下地薄膜、
400.磁性層、5・・・上地薄膜、6・・・薄膜保護
膜、7・・・潤滑膜、8・・・貴金属粗面化処理層
FIGS. 1 to 7 are schematic cross-sectional views of Examples 1 to 7 of magnetic recording bodies of the present invention, respectively. FIGS. 8 and 9 are cross-sectional views of magnetic recording bodies compared with Examples of the present invention. It is a schematic diagram. 1...Substrate, 2...Thick base film, 3...Thin base film,
400. Magnetic layer, 5... Upper thin film, 6... Thin protective film, 7... Lubricating film, 8... Noble metal roughening treatment layer.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基体と、この基体を被覆する磁性層と、この磁性
層を被覆する保護層からなる磁気記録体において、前記
保護層の表面形状として4μm^2当たり1個以上の微
小突起を有することを特徴とする磁気記録体。
(1) In a magnetic recording body consisting of a substrate, a magnetic layer covering this substrate, and a protective layer covering this magnetic layer, the surface shape of the protective layer has one or more microprotrusions per 4 μm^2. A magnetic recording medium characterized by:
(2)基体と、この基体を被覆する磁性層と、この磁性
層を被覆する保護層からなり、前記基体が基板、または
前記基体が基板およびこれを被覆する付加的皮膜からな
る磁気記録体において、前記基板に貴金属粗面化処理に
より微小突起を形成することを特徴とする保護層の表面
形状として4μm^2当たり1個以上の微小突起を有す
る磁気記録体の製造方法。
(2) A magnetic recording body consisting of a base, a magnetic layer covering the base, and a protective layer covering the magnetic layer, wherein the base is a substrate, or the base is a substrate and an additional film covering the same. . A method for manufacturing a magnetic recording body having a protective layer having one or more microprotrusions per 4 μm^2 as a surface shape of the protective layer, characterized in that microprotrusions are formed on the substrate by a noble metal surface roughening treatment.
(3)基体と、この基体を被覆する磁性層と、この磁性
層を被覆する保護層からなり、前記基体が基板およびこ
れを被覆する下地厚膜、または前記基体が基板およびこ
れを被覆する下地厚膜およびこれを被覆する付加的皮膜
からなる磁気記録体において、前記下地厚膜に貴金属粗
面化処理により微小突起を形成することを特徴とする保
護層の表面形状として4μm^2当たり1個以上の微小
突起を有する磁気記録体の製造方法。
(3) Consisting of a base, a magnetic layer covering the base, and a protective layer covering the magnetic layer, wherein the base is a substrate and a base thick film covering the base, or the base is a base and a base coat covering the base. In a magnetic recording body consisting of a thick film and an additional film covering the same, the protective layer has a surface shape of one microprotrusion per 4 μm^2, characterized in that microprotrusions are formed on the thick underlying film by noble metal roughening treatment. A method of manufacturing a magnetic recording body having the above microprotrusions.
(4)基体と、この基体を被覆する磁性層と、この磁性
層を被覆する保護層からなり、前記基体が基板およびこ
れを被覆する下地厚膜およびこれを被覆する下地薄膜か
らなる磁気記録体において、前記下地薄膜に貴金属粗面
化処理により微小突起を形成することを特徴とする保護
層の表面形状として4μm^2当たり1個以上の微小突
起を有する磁気記録体の製造方法。
(4) A magnetic recording body consisting of a substrate, a magnetic layer covering the substrate, and a protective layer covering the magnetic layer, the substrate comprising a substrate, a thick base film covering the base film, and a thin base film covering the base film. A method for manufacturing a magnetic recording body having a protective layer having one or more microprotrusions per 4 μm^2 as a surface shape of the protective layer, characterized in that microprotrusions are formed on the base thin film by noble metal roughening treatment.
(5)基体と、この基体を被覆する磁性層と、この磁性
層を被覆する保護層からなる磁気記録体において、前記
磁性層に貴金属粗面化処理により微小突起を形成するこ
とを特徴とする保護層の表面形状として4μm^2当た
り1個以上の微小突起を有する磁気記録体の製造方法。
(5) A magnetic recording body comprising a base, a magnetic layer covering the base, and a protective layer covering the magnetic layer, characterized in that minute protrusions are formed on the magnetic layer by noble metal roughening treatment. A method for manufacturing a magnetic recording material having a protective layer having one or more microprotrusions per 4 μm^2 as a surface shape.
(6)基体と、この基体を被覆する磁性層と、この磁性
層を被覆する保護層からなり、前記保護層が上地薄膜お
よびこれを被覆する薄膜保護膜、または前記保護層が上
地薄膜およびこれを被覆する薄膜保護膜、または前記保
護層が上地薄膜およびこれを被覆する薄膜保護膜および
これを被覆する潤滑膜、または前記保護層が上地薄膜お
よびこれを被覆する付加的皮膜およびこれを被覆する薄
膜保護膜、または前記保護層が上地薄膜およびこれを被
覆する付加的皮膜およびこれを被覆する薄膜保護膜およ
びこれを被覆する潤滑層からなる磁気記録体において、
前記上地薄膜に貴金属粗面化処理により微小突起を形成
することを特徴とする保護層の表面形状として4μm^
2当たり1個以上の微小突起を有する磁気記録体の製造
方法。
(6) Consisting of a base, a magnetic layer covering the base, and a protective layer covering the magnetic layer, wherein the protective layer is an overlying thin film and a thin protective film covering the overlying thin film, or the protective layer is an overlying thin film. and a thin protective film covering this, or the protective layer is a top thin film, a thin protective film covering this, and a lubricating film covering this, or the protective layer is a top thin film and an additional film covering this, and In a magnetic recording body, the protective layer is composed of an overlying thin film, an additional film covering this, a thin protective film covering this, and a lubricating layer covering this,
The surface shape of the protective layer is 4 μm^, characterized in that minute protrusions are formed on the upper thin film by noble metal roughening treatment.
A method for manufacturing a magnetic recording body having one or more microprotrusions per second.
(7)基体と、この基体を被覆する磁性層と、この磁性
層を被覆する保護層からなり、前記保護層が薄膜保護膜
、または前記保護層が薄膜保護膜およびその上およびま
たは下に形成された付加的皮膜からなる磁気記録体にお
いて、前記薄膜保護膜に貴金属粗面化処理により微小突
起を形成することを特徴とする保護層の表面形状として
4μm^2当たり1個以上の微小突起を有する磁気記録
体の製造方法。
(7) Consists of a substrate, a magnetic layer covering the substrate, and a protective layer covering the magnetic layer, wherein the protective layer is a thin protective film, or the protective layer is formed on and/or below the thin protective film. A magnetic recording body comprising an additional film formed by the above method, characterized in that microprotrusions are formed on the thin protective film by noble metal roughening treatment, and the surface shape of the protective layer is one or more microprotrusions per 4 μm^2. A method of manufacturing a magnetic recording body comprising:
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