JPS6085433A - Magnetic recording material - Google Patents

Magnetic recording material

Info

Publication number
JPS6085433A
JPS6085433A JP19185783A JP19185783A JPS6085433A JP S6085433 A JPS6085433 A JP S6085433A JP 19185783 A JP19185783 A JP 19185783A JP 19185783 A JP19185783 A JP 19185783A JP S6085433 A JPS6085433 A JP S6085433A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
film
thin film
layer
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19185783A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumio Goto
文男 後藤
Yoji Suganuma
菅沼 葉二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP19185783A priority Critical patent/JPS6085433A/en
Publication of JPS6085433A publication Critical patent/JPS6085433A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a practical durability and attain a uniform reproduced output by oxidizing a metallic thin film, which has a resistance to oxidation lower than that of a magnetic layer and consists essentially of Co, to form a protective layer. CONSTITUTION:The metallic thin film which has a resistance to oxidation lower than that of the magnetic layer and consists essentially of Co is oxidized to form the protective layer of a magnetic recording medium. This metallic thin film where an oxide is formed of the protective layer must have a resistance to oxidation lower than that of the magnetic layer and must contain Co and must have uniform composition and thickness and must be continuous. For the purpose of obtaining the protective layer having a sufficient durability, it is necessary that the thickness of the metallic thin film is >=0.005mum, and it is desirable that the metallic thin film contains >=50% Co. The metallic thin film is oxidized by the method where it is left in constant-temperature and constant- humidity environments, the thermal oxidation method, the anodic oxidation method, the method using an oxidizer or acid treatment, the method where it is sintered in air, or the like, or cominations of these methods.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記録装置に用いられる磁気ディスク、磁気
ドラム、磁気テープ等の磁気記録体にかかる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to magnetic recording bodies such as magnetic disks, magnetic drums, and magnetic tapes used in magnetic recording devices.

近年、高密度磁気記録体として、記録媒体(磁性層)に
磁性金属薄膜を用いた磁気ディスク等が用いられ始めた
。記録媒体に磁性金属薄膜を用いる利点は、飽和磁束密
度が大きいので媒体の薄膜化が可能であり、また高保磁
力が得られるため高密度記録に適することである。磁性
金属薄膜の他の利点は、無電解メッキ、電気メッキ、ス
バ、り蒸着等の方法で薄膜作製が容易なことである。
In recent years, magnetic disks and the like using a magnetic metal thin film as a recording medium (magnetic layer) have begun to be used as high-density magnetic recording bodies. The advantage of using a magnetic metal thin film for a recording medium is that it has a high saturation magnetic flux density, so the medium can be made thin, and it also has a high coercive force, making it suitable for high-density recording. Another advantage of magnetic metal thin films is that they can be easily fabricated by methods such as electroless plating, electroplating, sputtering, and vapor deposition.

ところで、磁気記録装置における高記録密度化への要請
は、年々高まりつつあり、これを実現するために磁気記
録体の媒体特性の改善、媒体の薄膜化および磁気ヘッド
の特性改善とともに、ヘッド−媒体分離長の減少が不可
欠となっている。磁気テープ、70ツピデイスク等の磁
気記録体は記録密度を最大限に高めるために磁気ヘッド
と接触状態もしくはそれに近い状態で使用される。また
、磁気ヘッドを磁気記録体から微小間隔浮上させて使用
する磁気ディスクの場合には、磁気記録装置の高性能化
lこ伴ないこの浮上間隔を小さくするために磁気ヘッド
の荷重を小さくすると同時に接触始動・停止(コンタク
ト・スタート・ストップ。
By the way, the demand for higher recording densities in magnetic recording devices is increasing year by year. Reducing the separation length has become essential. Magnetic recording media such as magnetic tapes and 70 disks are used in contact with or close to a magnetic head in order to maximize recording density. In addition, in the case of magnetic disks in which the magnetic head is used by floating a minute distance from the magnetic recording material, as the performance of the magnetic recording device increases, the load on the magnetic head is reduced in order to reduce the flying distance. Contact start/stop (contact start/stop.

C55)型のヘッド浮揚システムが採用されている。こ
のため、磁気ヘッドによる磁気記録体の損傷がしばしば
生じる。これを防ぐ有効な方法として磁性金属薄膜の表
面に保護層を設ける方法があり、耐久性の改善がはから
れてきた。保護層としては耐摩耗性を有するとともに、
−磁性、平滑性と強固な密着力をもち、可能な限り薄膜
化が図られねばならない。これらの目的のために従来様
々の検討が、なされたが、いづれも不十分であった。
C55) type head flotation system is adopted. For this reason, damage to the magnetic recording medium due to the magnetic head often occurs. An effective method for preventing this is to provide a protective layer on the surface of the magnetic metal thin film, and efforts have been made to improve durability. As a protective layer, it has wear resistance and
- It must have magnetism, smoothness and strong adhesion, and be made as thin as possible. Various studies have been made for these purposes, but all have been insufficient.

従来、提案された方法としてRh、Cr等の高硬度の金
属を電気メツキ法によって媒体表面に被覆する方法があ
るが、電解液浸漬時に受ける媒体の侵食、またはそれを
避けるために設ける中間層による保護層の実質的な膜厚
増大という欠点がある。
Conventionally, there has been a method proposed in which a high hardness metal such as Rh or Cr is coated on the surface of the medium by electroplating. This has the disadvantage of substantially increasing the thickness of the protective layer.

別の方法としてCr 、W等の金属、8 s 01 、
−AA% Os等の酸化物を蒸着、スパッタなどの手段
で媒体表面に被覆する方法があるが密着力が不十分であ
り真空系内で作製するため生産性に問題があった。
Alternatively, metals such as Cr and W, 8 s 01 ,
-AA% There is a method of coating the surface of the medium with an oxide such as Os by means such as vapor deposition or sputtering, but the adhesion is insufficient and there are problems with productivity because the coating is produced in a vacuum system.

耐摩耗性と密着力に優れた保護層として、 Coまたは
Co−Niの磁性金属薄膜の表面を酸化してCo。
The surface of a Co or Co-Ni magnetic metal thin film is oxidized to form a protective layer with excellent wear resistance and adhesion.

0、の酸化膜を形成する方法が提案された。A method of forming an oxide film of 0.0 was proposed.

例えば、特公昭42−20025号、 USP 3,3
53,166号では、温度および湿度を制御した酸化雰
囲気中で金属薄膜の表面に存在するCoを酸化し、保護
酸化皮膜を形成する方法が提案された。より強固な酸化
皮膜を得るために陽極酸化による方法、酸処理による方
法、さらに空気中で焼成する方法(特公昭49−294
45号、 [J8P 3,719,525号)等が提案
された。しかし、上記の方法では広い処理面積にわたっ
て均一なCO酸化皮膜を得ることは困難であり、保護酸
化皮膜の厚さのバラツキと残存磁性層の厚さのバラツキ
によって、再生出力の均一性が損われ、時にはビットエ
ラーの多発を生じるという問題があった。このため、こ
れを改善する方法として、[J8P 4,124,73
6に示される様に記憶媒体の磁性層と保護酸化皮膜を得
るための金属層の間に酸化処理の障壁となる中間層を形
成する方法が提案された。この様な中間層を設けること
によって、酸化処理による反応が磁性層にまで達するこ
とが妨げられ、かつ、均一な膜厚の保護酸化皮膜が得ら
れることを目的としていたが、酸化処理による磁性層の
侵食を防止し十分な障壁効果を得るには中間層の膜厚を
非常に厚くする必要があった。この様に、記録媒体と保
護酸化皮膜の間に酸化処理の障壁となる厚い中間層を形
成することは保護膜厚の実質的な増大となり記録再生特
性の著しい低下を招い廠。
For example, Special Publication No. 42-20025, USP 3,3
No. 53,166 proposed a method of oxidizing Co present on the surface of a metal thin film in an oxidizing atmosphere with controlled temperature and humidity to form a protective oxide film. In order to obtain a stronger oxide film, a method of anodizing, a method of acid treatment, and a method of firing in air (Japanese Patent Publication No. 49-294
No. 45, [J8P No. 3,719,525), etc. were proposed. However, with the above method, it is difficult to obtain a uniform CO oxide film over a wide treated area, and the uniformity of the reproduction output is impaired due to variations in the thickness of the protective oxide film and variations in the thickness of the residual magnetic layer. However, there was a problem in that bit errors sometimes occurred frequently. Therefore, as a method to improve this, [J8P 4,124,73
As shown in No. 6, a method has been proposed in which an intermediate layer that serves as a barrier to oxidation treatment is formed between a magnetic layer of a storage medium and a metal layer for obtaining a protective oxide film. By providing such an intermediate layer, the purpose was to prevent the reaction caused by the oxidation treatment from reaching the magnetic layer and to obtain a protective oxide film with a uniform thickness. In order to prevent corrosion and obtain a sufficient barrier effect, it was necessary to make the intermediate layer extremely thick. As described above, forming a thick intermediate layer between the recording medium and the protective oxide film, which acts as a barrier to oxidation treatment, substantially increases the thickness of the protective film, resulting in a significant deterioration of recording and reproducing characteristics.

さらに記録媒体、中間層、保護層と薄膜の積層数が増加
する程、工程が複雑化し生産性が損われる。また、中間
層にNi合金を用い酸化処理に高温焼成を伴なう場合、
中間層が帯磁し再生出力の著しい低下を招くおそれがあ
る。
Furthermore, as the number of laminated layers of the recording medium, intermediate layer, protective layer, and thin film increases, the process becomes more complicated and productivity is impaired. In addition, when a Ni alloy is used in the intermediate layer and oxidation treatment involves high temperature firing,
There is a risk that the intermediate layer may become magnetized, leading to a significant decrease in reproduction output.

本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を改善して、
実用的な耐久性を備えた高密度記録用の磁気記録体を提
供することにある。
The purpose of the present invention is to improve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and
The object of the present invention is to provide a magnetic recording medium for high-density recording that has practical durability.

(5) 本発明の他の目的は、保護酸化皮膜を有する磁気記録体
の再生出力の一様性を保持するとともに製作工程の簡素
化をはかることにより、高品質かつ安価な磁気記録体を
提供することにある。
(5) Another object of the present invention is to provide a high quality and inexpensive magnetic recording medium by maintaining the uniformity of the reproduction output of a magnetic recording medium having a protective oxide film and simplifying the manufacturing process. It's about doing.

本発明のさらにもう一つの目的は、均一で耐摩耗性に優
れた保護酸化皮膜を有する磁気記録体を再現性よく提供
することにある。
Yet another object of the present invention is to provide a magnetic recording medium having a protective oxide film that is uniform and has excellent wear resistance with good reproducibility.

本発明によれば、基体上に磁性層および保護層が、この
順に設けられた磁気記録体において、前記保護層が前記
磁性層よりも耐酸化性の弱いC。
According to the present invention, in a magnetic recording body in which a magnetic layer and a protective layer are provided in this order on a substrate, the protective layer is made of carbon having weaker oxidation resistance than the magnetic layer.

を主成分とする金属薄膜を酸化することにより形成され
た層であることを特徴とする磁気記録体が提供される。
Provided is a magnetic recording body characterized in that it is a layer formed by oxidizing a metal thin film containing as a main component.

本発明の磁気記録体の基体には、ディスク状、ドラム状
、テープ状等従来公知の種々の形状が適用される。基体
の材質としては、アルミニウム合金、黄銅等の金属、マ
イラー、ポリイミド等の樹脂あるいは、それらの上にN
1−Pメ、キ膜、 Cu。
The base of the magnetic recording medium of the present invention may have various conventionally known shapes such as a disk shape, a drum shape, and a tape shape. The base material may be metal such as aluminum alloy or brass, resin such as Mylar or polyimide, or N on top of them.
1-P Me, Ki Membrane, Cu.

Cr 等の蒸着膜、スパッタ膜などが記憶媒体の下地と
して被覆されたものが用いられる。
A material coated with a deposited film of Cr, etc., a sputtered film, etc. as the base of the storage medium is used.

(6) 本発明の磁気記録体の磁性層としては、Fe。(6) The magnetic layer of the magnetic recording body of the present invention is Fe.

Co、Nの少なくとも一種を構成元素とする磁性金属薄
膜が用いられる。他の二次的成分としてCu。
A magnetic metal thin film containing at least one of Co and N as a constituent element is used. Cu as another secondary component.

Zn等の金属、P、B、O等の非金属が含有されていて
もよいが、高密度記録媒体として用いるには、一般に3
000e 以上の保磁力を有している必要がある。磁性
層の厚みは、均一性を確保するために0.01μm以上
とする必要があり1面内記録刃式で10.0OOBPI
 (1インチ当りのビット数)以上の記録密度を得るた
めには、1.0μm 程度以下にする必要がある。
Although metals such as Zn and non-metals such as P, B, and O may be contained, generally three
It is necessary to have a coercive force of 000e or more. The thickness of the magnetic layer must be 0.01 μm or more to ensure uniformity, and the thickness of the magnetic layer must be 10.0 OOBPI in one in-plane recording blade type.
In order to obtain a recording density higher than (the number of bits per inch), it is necessary to reduce the thickness to about 1.0 μm or less.

しかし、垂直記録方式を使用する場合には、1.0μm
以上の膜厚の磁性層を用いることもできる。
However, when using the perpendicular recording method, 1.0 μm
A magnetic layer having a thickness greater than that can also be used.

本発明による磁性層は無電解メッキ法によって形成され
ることが、生産性と膜厚の一様性の点で望ましいが、電
気メツキ法、蒸着法、スパッタ法等を用いてもよい。
The magnetic layer according to the present invention is preferably formed by electroless plating in terms of productivity and uniformity of film thickness, but electroplating, vapor deposition, sputtering, etc. may also be used.

本発明の保護層の酸化物を形成するための金属薄膜とし
ては、記録媒体の磁性層よりも耐酸化性の弱い金属薄膜
であることが要求され%Coを含有(7) し一様な組成と膜厚を有する連続した金属薄膜であるこ
とが要求される。十分な耐久性の保護層を得るためには
、この金属薄膜の膜厚は0.005μm以上である必要
があり、この金属薄膜は509b以上のCOを含有して
いることが望ましい。この金属薄膜は、Coを主成分と
する力ξこれにMn 、 B 、 V 。
The metal thin film for forming the oxide of the protective layer of the present invention is required to be a metal thin film that has weaker oxidation resistance than the magnetic layer of the recording medium, contains % Co (7), and has a uniform composition. It is required to be a continuous thin metal film having a film thickness of . In order to obtain a sufficiently durable protective layer, the thickness of this metal thin film must be 0.005 μm or more, and it is desirable that this metal thin film contains 509b or more CO. This metal thin film has a force mainly composed of Co, ξ, and Mn, B, and V.

Fe、Zn から選ばれた少なくとも一種を含有するこ
とがあり、さらにNi、Pから選ばれた少なくとも一種
を含有することがある。Mn含有量は0.01チから3
0チの範囲が用いられるが、0.1%から8チの範囲が
好ましい。B含有量はo、ooi sから2゜チの範囲
が用いられるが、0.1%から6%の範囲が好ましい。
It may contain at least one selected from Fe and Zn, and may further contain at least one selected from Ni and P. Mn content is from 0.01 to 3
A range of 0 inches is used, but a range of 0.1% to 8 inches is preferred. The B content ranges from o, oois to 2°, preferably from 0.1% to 6%.

■含有量は0.01 %から30チの範囲が用いられる
が、0.05%から25qIbの範囲が好ましい。
(2) The content ranges from 0.01% to 30qIb, preferably from 0.05% to 25qIb.

Fe含有量はO,i%から40%の範囲が用いられるが
The Fe content ranges from O,i% to 40%.

1チから30チの範囲が好ましい。Zn含有量は0.1
チから20%の範囲が用いられるが、0.3%から5チ
の範囲が好ましい。Ni含有量は0.1%から40チの
範囲が用いられるが、1%から25優の範囲が好ましい
。P含有量は0.01%から8チの範囲が用い(8) られるが、3%以下の範囲が好ましい。COにMn。
A range of 1 inch to 30 inches is preferred. Zn content is 0.1
A range of 1 to 20% is used, with a range of 0.3% to 5% being preferred. The Ni content ranges from 0.1% to 40%, preferably from 1% to 25%. The P content ranges from 0.01% to 8% (8), but is preferably 3% or less. Mn in CO.

B、V、Fe、Znを含有させる目的の一つは金属薄膜
の耐酸化性を減少させることにある。Ni 、Pの含有
は耐酸化性を増大させるが、無電解00合金メツキにお
いてCO以外の元素の共析量を増加させる場合にNiの
同時共析が利用されることがあり、次亜リン酸を還元剤
とする無電解メッキにおいてはPの共析を伴う。金属薄
膜の耐酸化性が磁性層のそれよりも小であれば、これら
以外にどの様な二次的元素が含有されていてもよいが、
金属薄膜と磁性層の耐酸化性の差が大きい程良好な品質
の磁気記録体が得られやすい。金属薄膜は一様な組成と
膜厚を有する連続した薄膜が容易に得られる無電解メッ
キ法によって形成することが望ましいが、電気メツキ法
、蒸着法、スパッタ法等を用いてもよい。
One of the purposes of containing B, V, Fe, and Zn is to reduce the oxidation resistance of the metal thin film. The inclusion of Ni and P increases oxidation resistance, but simultaneous eutectoid deposition of Ni is sometimes used to increase the amount of eutectoid elements other than CO in electroless 00 alloy plating. In electroless plating using P as a reducing agent, P is eutectoid. As long as the oxidation resistance of the metal thin film is lower than that of the magnetic layer, any secondary elements other than these may be contained.
The greater the difference in oxidation resistance between the metal thin film and the magnetic layer, the easier it is to obtain a magnetic recording medium of good quality. It is preferable to form the metal thin film by electroless plating, which can easily produce a continuous thin film having a uniform composition and thickness, but electroplating, vapor deposition, sputtering, etc. may also be used.

電気メツキ法によってCo−Mn合金膜を得るには1例
えばBrenner著Electrodepositi
on ofAlloys volume …(ACAD
RMICPRE881963年刊)13,140〜15
0に示される様な硫酸コ(9) バルト、硫酸マンガンの他にチオシアン酸アンモニウム
、硫酸アンモニウム、クエン酸ナトリウム等を加えたメ
ッキ浴を用いることができる。電気メツキ法によってC
o −Mn −P合金膜を得る一例としては、′新しい
合金メッキ法“(日・ソ通信社発行)p、142に示さ
れる様な、塩化コバルト。
To obtain a Co-Mn alloy film by electroplating method 1, for example, Electrodeposit by Brenner.
on of Alloys volume…(ACAD
RMICPRE88 Published in 1963) 13, 140-15
A plating bath containing ammonium thiocyanate, ammonium sulfate, sodium citrate, etc. in addition to balt sulfate and manganese sulfate as shown in 0 can be used. C by electroplating method
An example of obtaining an o-Mn-P alloy film is cobalt chloride as shown in ``New Alloy Plating Method'' (published by Japan-Soviet Press) p. 142.

塩化マンガン、次亜リン酸アンモンを加えたメッキ浴を
用いる方法がある。無電解メッキ法によって、Co −
Mn−FあるいはCo−Ni −Mn −P合金膜を得
るには、例えば、Journal of Electr
oche−mical 5ociety 、 Vol、
 130.44 、1983のp、 790〜794に
示される様な、次亜リン酸を還元剤とし、金属塩として
硫酸コバルト、硫酸マンガンまたはこれらに硫酸ニッケ
ル、錯化剤として有機酸他を加えたメッキ浴を用いるこ
とができる。
There is a method using a plating bath containing manganese chloride and ammonium hypophosphite. By electroless plating method, Co −
To obtain a Mn-F or Co-Ni-Mn-P alloy film, for example, the Journal of Electr.
oche-mical 5ociety, Vol.
130.44, 1983, p. 790-794, hypophosphorous acid is used as a reducing agent, cobalt sulfate or manganese sulfate is used as a metal salt, or nickel sulfate is added as a complexing agent, and an organic acid or the like is added as a complexing agent. A plating bath can be used.

無電解メッキ法によってCo−B あるいはこれに他の
金属元素を加えた8合金膜を得るには、ホウ水素化ナト
リウム、ジメチルアミンボランまたはこれらの誘導体を
還元剤とし、金属塩として硫酸コバルト、塩化コバルト
等のコバルト塩、それに(10) 得たい合金のCO以外の金属塩を加え、錯化剤として有
機酸、pH緩衝剤、pH調節剤等の添加剤を加えたメッ
キ浴を用いることができる。2合金膜の場合は、還元剤
として次亜リン酸塩を用いるほかは同様の成分を加えた
メッキ浴より得ることができる。
To obtain Co-B or 8 alloy film with other metal elements added thereto by electroless plating, sodium borohydride, dimethylamine borane or a derivative thereof is used as a reducing agent, and cobalt sulfate or chloride is used as a metal salt. A plating bath can be used in which a cobalt salt such as cobalt, (10) a metal salt other than CO of the desired alloy is added, and additives such as an organic acid, a pH buffer, a pH adjuster, etc. are added as a complexing agent. . In the case of a 2-alloy film, it can be obtained from a plating bath containing the same components except that hypophosphite is used as a reducing agent.

電気メッキの場合には、無電解メッキにくらべて一般に
浴成分が少なく、得られる合金の種類および組成が広範
囲である。スパッタ、蒸着の場合には、ターゲット組成
または蒸発源元素の種類をかえることにより、より広範
囲の合金を得ることができる。
In the case of electroplating, the bath components are generally smaller than those in electroless plating, and the types and compositions of the resulting alloys are wide-ranging. In the case of sputtering or vapor deposition, a wider range of alloys can be obtained by changing the target composition or the type of evaporation source element.

保護層は、前記金属薄膜を恒温・恒湿環境中に放置する
方法、熱酸化による方法、陽極酸化による方法、酸化剤
または酸処理による方法、さらに空気中で焼成する方法
等の各々またはこれらの組合せによって酸化することに
より形成される。恒温・恒湿環境中に放置する方法とし
ては、35℃以上、相対温度50チ以上の空気中、酸素
雰囲気中または蒸気中に30分以上放置することによっ
て酸化(11) 膜を形成する方法がある。陽極酸化による方法としては
、硫酸浴、クロム酸浴、シュウ酸浴等が用いられる。酸
化剤または酸処理による方法としては、硝酸、硫酸、塩
酸、フッ酸等の強酸、ギ酸、シーウ酸、リン酸、乳酸、
プロピオン酸、リンゴ酸、クエン酸、酢酸、酒石酸、ア
スパラギン酸、コハク酸、安息香酸、酪酸、マロン酸、
ホウ酸、ピロリン酸、タルトロン酸等昭和41年9月2
5日発行日本化学会編化学便覧基礎編■p 1054〜
1058の表に示さイ1.る様な弱酸およびそれらの塩
の15ITJまたは2種以上の組合せ、または過マンガ
ン酸カリ、過酸化水素等の酸化剤などの溶液に10秒以
上浸漬することにより酸化膜を形成する方法がある。
The protective layer can be formed by leaving the metal thin film in a constant temperature and humidity environment, by thermal oxidation, by anodic oxidation, by treatment with an oxidizing agent or acid, and by firing it in air, or any of these methods. Formed by oxidation in combination. A method of leaving it in a constant temperature/humidity environment is to form an oxidation (11) film by leaving it in air, oxygen atmosphere, or steam at a temperature of 35°C or higher and a relative temperature of 50°C or higher for 30 minutes or more. be. As the anodic oxidation method, a sulfuric acid bath, a chromic acid bath, an oxalic acid bath, etc. are used. Examples of methods using oxidizing agents or acids include strong acids such as nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and hydrofluoric acid, formic acid, sialic acid, phosphoric acid, lactic acid,
Propionic acid, malic acid, citric acid, acetic acid, tartaric acid, aspartic acid, succinic acid, benzoic acid, butyric acid, malonic acid,
Boric acid, pyrophosphoric acid, tartronic acid, etc.September 2, 1960
Published on the 5th, published by the Chemical Society of Japan, Basic Edition of the Chemical Handbook, p. 1054~
1058 table shows i1. There is a method of forming an oxide film by immersing the substrate in a solution of 15 ITJ or a combination of two or more of weak acids and their salts, or an oxidizing agent such as potassium permanganate or hydrogen peroxide for 10 seconds or more.

強酸については0.001〜15%の濃度が用いられる
が、o、ooi〜5俤の範囲が好ましい。弱酸では0.
01〜50%、好ましくは0.1〜20チの濃度範囲が
使用できる。酸化剤については、0.1〜40チ、好ま
しくは0.2〜15%の濃度範囲が使用できる。
For strong acids, concentrations of 0.001 to 15% are used, with a range of o, ooi to 5 yen being preferred. 0 for weak acids.
A concentration range of 0.01% to 50%, preferably 0.1% to 20% can be used. For the oxidizing agent, a concentration range of 0.1 to 40%, preferably 0.2 to 15% can be used.

これらの濃度および浸漬時間は、酸ぶよび酸化剤の強さ
、酸化する金属薄膜の耐酸化性および膜(12) 厚に応じて適する条件が選択される。これに続いて行わ
れる空気中で焼成する条件としては、従来200℃から
290℃の温度範囲が用いられていたが、この温度範囲
で得られた磁気記録体は摩擦係数が太きく CSSによ
って摩耗粉を生じやすい、また200℃以上の焼成によ
って磁気記録体の下地および中間層に用いるNi合金層
が帯磁しやすい等の問題があった。本発明においては前
記の様な耐酸化性の弱い金属薄膜を用いることにより2
00℃以下の焼成によっても十分な耐久性を有する保護
層の形成が可能となった。また200℃以下の焼成では
酸化膜保護層の表面が完全に最終的な酸化状態には達し
ていないため活性が高くその上の潤滑層を強固に付着さ
せることができ、この温度範囲では摩擦係数も小さい。
Suitable conditions are selected for these concentrations and immersion time depending on the strength of the acid and oxidizing agent, the oxidation resistance of the thin metal film to be oxidized, and the thickness of the film (12). Conventionally, a temperature range of 200°C to 290°C has been used for the subsequent firing in air, but magnetic recording bodies obtained in this temperature range have a large coefficient of friction and wear due to CSS. There were problems such as easy generation of powder, and easy magnetization of the Ni alloy layer used for the base and intermediate layer of the magnetic recording body due to firing at 200° C. or higher. In the present invention, by using a metal thin film with weak oxidation resistance as described above,
It became possible to form a protective layer with sufficient durability even by firing at temperatures below 00°C. In addition, when firing at temperatures below 200°C, the surface of the protective oxide layer has not yet reached its final oxidation state, so it is highly active and allows the lubricant layer on top to adhere firmly.In this temperature range, the coefficient of friction is It's also small.

これらも本発明の利点の一つである。These are also one of the advantages of the present invention.

保護層上には摩擦力を更に低減しヘッドと磁気記録体と
の密着を防止するため固体潤滑剤または液体潤滑剤の薄
層が塗布される場合がある。
A thin layer of solid lubricant or liquid lubricant may be coated on the protective layer to further reduce the frictional force and prevent the head from coming into close contact with the magnetic recording medium.

本発明において、従来技術に比べてヘッド−媒(13) 体スペーシングの著しい減少が可能となり、ビット・エ
ラーの少ない高品質、高性能な磁気記録体が実現できる
理由を図を用いて説明する。保護層を形成する金属薄膜
の酸化方法の一例として、酸処理による方法をとりあげ
る。酸処理方法として。
The reason why the present invention makes it possible to significantly reduce head-medium (13) body spacing compared to the conventional technology and realize a high-quality, high-performance magnetic recording medium with few bit errors will be explained using diagrams. . An example of a method for oxidizing the metal thin film forming the protective layer is a method using acid treatment. As an acid treatment method.

従来より知られているU8P 3,719,525 に
示された0、16〜0.25 %の硝酸溶液に浸漬する
工程(工程A)と、本発明の効果をより顕著に実現しつ
る0、1〜数チのギ酸、シーウ酸、リン酸等の弱酸に浸
漬する工程(工程B)を用いる。被処理皮膜としては、
従来より知られている構成の試験片、即ちアルミ板上に
膜厚50μmのN1−P合金をメッキし研磨したものを
基板とし、この上に膜厚0.08μmのCo −Ni 
−P メッキ膜よりなる磁性層、膜厚0.05μmのN
i −P メッキ膜よりなる中間層、膜厚0,05μm
のCo−N1−P メッキ膜からなる金属薄膜を形成し
たもの(試験片A)、および試験片人において中間層を
除き、金属薄膜として膜厚0.05 timのCo −
Mn−P 、 Co −Mn 、 Co−B 、 Co
 −Pe−P、Co等磁性層にくらべて著しく耐酸化性
(14) の小さい金属層を用いた本発明の構成の試験片(試験片
B)を用いる。試験片Aに対し工程A1試験片A、Bに
対し、工程Bの処理を施した場合の各試験片の飽和磁化
量の変化を振動試料式磁束計(VSM) で測定した。
The process of immersing in a 0.16 to 0.25% nitric acid solution (process A) shown in the conventionally known U8P 3,719,525, and the process of immersing it in a 0.16 to 0.25% nitric acid solution (process A), which more clearly realizes the effects of the present invention, A step (step B) of immersing in one to several acids of a weak acid such as formic acid, sialic acid, or phosphoric acid is used. The film to be treated is
A test piece with a conventionally known configuration, that is, an aluminum plate plated with N1-P alloy with a thickness of 50 μm and polished, was used as the substrate, and a Co-Ni film with a thickness of 0.08 μm was placed on top of this.
-P Magnetic layer made of plated film, N film thickness 0.05 μm
i-P Intermediate layer made of plating film, film thickness 0.05 μm
A thin metal film made of a Co-N1-P plating film was formed (test piece A), and a test piece with a thickness of 0.05 tim as a metal thin film, excluding the intermediate layer.
Mn-P, Co-Mn, Co-B, Co
A test piece (test piece B) having a structure according to the present invention using a metal layer having significantly lower oxidation resistance (14) than magnetic layers such as -Pe-P and Co is used. Test piece A was subjected to process A1 Test pieces A and B were subjected to process B, and the change in saturation magnetization of each test piece was measured using a vibrating sample magnetometer (VSM).

その結果の傾向を図に比較して示す。各試験片の面積は
一定とし、飽和磁化量は磁性層のみの値を1とした相対
値を示す。
The trends of the results are compared and shown in the figure. The area of each test piece was kept constant, and the saturation magnetization amount is a relative value with the value of only the magnetic layer being 1.

曲線1は、試験片Aに工程Aを施した場合の飽和磁化量
の時間変化である。曲線2.3は各々試験片A、Bに工
程Bを施した場合の飽和磁化量の時間変化である。
Curve 1 is a change in saturation magnetization over time when test piece A is subjected to process A. Curve 2.3 shows the change in saturation magnetization over time when process B was applied to test pieces A and B, respectively.

従来の構成の試験片人に工程Aを施した曲線1について
述べると、最初の約3分間に金属薄膜の酸化が進行し磁
性が失われている。次の約5分間は磁化の減少がゆるや
かになり合金中間層の障壁効果があられれているものの
十分ではなく、磁性層への侵食もかなり進んでいる。浸
漬8分以後は中間層はその作用をはたさず磁性層の酸化
が急速に進む。これに対し、試験片Aに工程Bを施した
場合、曲線2に示す様に金属薄膜の酸化の進行は(15
) わずかである。そこで本発明の構成の試験片Bに工程B
を施した場合は、曲線3に示す様に最初の約7分間で金
属薄膜の酸化が終了した後、磁性層の酸化が殆ど進行し
ないことが分った。即ち、本発明の構成をとることによ
り、中間層を用いることなく、金属薄膜の酸化に対する
障壁効果が得られることを示している。このため従来技
術に比べてヘッド−媒体スペーシングの著しい減少かり
能々なり、ビット・エラーの少ない高品質、高性能な磁
気記録体を潜ることが可能となる。なお、試験片Bを強
酸溶液に浸漬する場合も非常ζこ薄い濃度、例えば硝酸
については工程ho)’/、o以下の濃度を用いること
により曲線3と同様の関係が得られる。
Regarding curve 1 obtained by subjecting a conventional test piece to process A, oxidation of the metal thin film progresses during the first approximately 3 minutes and magnetism is lost. For the next 5 minutes, the magnetization decreases slowly and the barrier effect of the alloy intermediate layer is being reduced, but it is not sufficient and the erosion of the magnetic layer has progressed considerably. After 8 minutes of immersion, the intermediate layer does not lose its effect and the oxidation of the magnetic layer proceeds rapidly. On the other hand, when process B is applied to test piece A, the progress of oxidation of the metal thin film is (15
) is slight. Therefore, in the test piece B having the structure of the present invention, process B was applied.
It was found that when oxidation of the magnetic layer was performed, the oxidation of the magnetic layer hardly progressed after the oxidation of the metal thin film was completed in the first approximately 7 minutes as shown in curve 3. That is, it is shown that by adopting the configuration of the present invention, a barrier effect against oxidation of the metal thin film can be obtained without using an intermediate layer. This significantly reduces the head-medium spacing compared to the prior art, making it possible to record high-quality, high-performance magnetic recording media with fewer bit errors. Note that when test piece B is immersed in a strong acid solution, a relationship similar to curve 3 can be obtained by using a very low concentration, for example, for nitric acid, a concentration below step ho)'/o.

次に実施例によって本発明による磁気記録体の特徴を説
明する。下記の実施例は本発明の効果を示す一例であっ
て、ここに示す成分、膜厚、処理方法等を適宜変更して
もその目的を達成しつることは当然である。
Next, the features of the magnetic recording medium according to the present invention will be explained using examples. The following example is an example showing the effects of the present invention, and it goes without saying that the object can be achieved even if the components, film thickness, processing method, etc. shown here are changed as appropriate.

(16) 実施例1゜ 機械加工により表面を平坦かつ平滑に仕上げたアルミ合
金円板(直径21111.厚さ1.9 tnw )上ζ
こ公知のメッキ法により厚さ50μmの非磁性Ni −
P合金を形成した後、表面を機械加工により鏡面仕上げ
し、磁気ディスク基板を得た。Ni −P メッキ液に
は多くの市販品があるが、ここではカニセン・シー−マ
ー液を用いた。さらに、この基体上に保磁力6000e
、残留磁束密度7,300 gauss (7)磁気特
性をもち、膜厚0.08 pmO) Co−N1−P膜
からなる磁性層を形成した後、膜厚を0.005μm〜
0.08μmの範囲で変化させて、当金有量4%のCo
−Mnメッキ膜からなる金属薄膜を形成した。
(16) Example 1゜ Aluminum alloy disk (diameter 21111, thickness 1.9 tnw) whose surface was finished flat and smooth by machining ζ
By this known plating method, a non-magnetic Ni −
After forming the P alloy, the surface was machined to a mirror finish to obtain a magnetic disk substrate. Although there are many commercially available Ni-P plating solutions, Kanisen Seamer solution was used here. Furthermore, a coercive force of 6000e is applied on this substrate.
, a residual magnetic flux density of 7,300 gauss (7) After forming a magnetic layer consisting of a Co-N1-P film, which has magnetic properties and a film thickness of 0.08 pm, the film thickness is reduced to 0.005 μm or more.
By varying the range of 0.08 μm, the amount of Co was 4%.
- A metal thin film consisting of a Mn plating film was formed.

メッキ方法は前記の様な′1気メッキ法によった。The plating method was the 1-air plating method as described above.

次にこれを硫酸溶液(濃度1〜3q6)に数分〜十数分
間浸漬した後、空気中において190’C前後で6時間
加熱した。浸漬時間はCo−Mnメッキ膜厚に応じて増
加させた。
Next, this was immersed in a sulfuric acid solution (concentration 1 to 3q6) for several minutes to more than ten minutes, and then heated in air at around 190'C for 6 hours. The immersion time was increased according to the thickness of the Co--Mn plating film.

こうして得られた磁気ディスクの表面には、C0−Mn
 メッキ膜が酸化さnて生じた一様な酸化物(17) 保護層が形成されており、第1表のC8S試験結果に示
す様にCo−Mnメッキ膜厚0.02μm以上のサンプ
ルについては実用上十分な耐久性が得られた。
On the surface of the magnetic disk obtained in this way, C0-Mn
Uniform oxide (17) formed by the oxidation of the plating film.As shown in the C8S test results in Table 1, for samples with a Co-Mn plating film thickness of 0.02 μm or more, Sufficient durability for practical use was obtained.

第1表 C8B試験結果(Mn−Znフェライトヘッド
使用)本実施例で得られた磁気ディスクを下記の条件で
記録再生試験を行なった。
Table 1 C8B test results (using Mn-Zn ferrite head) A recording/reproducing test was conducted on the magnetic disk obtained in this example under the following conditions.

測定条件 ディスク回転数: 3000 rpm 使用ヘッド:トラック巾18.5μm。Measurement condition Disc rotation speed: 3000 rpm Head used: track width 18.5 μm.

キャップ長0.8μtn。Cap length 0.8μtn.

コイル巻数 16+16゜ ヘッド浮上量二0.2μm 記録周波数(2F) : 6.08 MHzエラー・ス
ライスレベル二60チ (18) −面あたりのエラー個数は、第2表に示す様に100個
以下となり、各Co−Mn膜厚のディスクについて磁性
層の膜厚は実用上十分な一様性が保たれていることが認
められた。
Number of coil turns: 16 + 16° Head flying height: 20.2 μm Recording frequency (2F): 6.08 MHz Error slice level: 260 inches (18) - The number of errors per plane is 100 or less as shown in Table 2. It was confirmed that the thickness of the magnetic layer of the disks with each Co--Mn film thickness was sufficiently uniform for practical use.

第2表 記録再生試験結果 比較例1゜ 基体および磁性層は実施例1と同様に作製し、磁性層の
上にNi −P メッキ膜よりなる中間層を形成した後
、膜厚0.031tmO)Co −Ni −P メ、 
+膜よりなる金属薄膜を形成し、この金属薄膜を酸化し
て保護層とした磁気ディスクを作製した。この場合、金
属薄膜、磁性層ともにCo −Ni−Pメッキ膜であり
、両者の耐酸化性が同等であるため金属薄膜の酸化によ
り保護層を形成する工程における酸浸漬処理には前述の
Go−Mn膜の処理で用いた処理液よりも高濃度の酸溶
液を必要とした。
Table 2 Recording/reproduction test results Comparative example 1゜The substrate and magnetic layer were prepared in the same manner as in Example 1, and after forming an intermediate layer made of a Ni-P plating film on the magnetic layer, the film thickness was 0.031 tmO) Co-Ni-P Me,
A magnetic disk was fabricated by forming a metal thin film consisting of a + film and oxidizing this metal thin film to use it as a protective layer. In this case, both the metal thin film and the magnetic layer are Co-Ni-P plated films, and since they have the same oxidation resistance, the aforementioned Go- This required an acid solution with a higher concentration than the treatment solution used in the treatment of the Mn film.

(19) このため前述の記録再生試験と同じ測定条件において一
面当りのエラー数が100個以下となる磁気ディスクを
得るためには厚さo、ioμm以上の中間層を必要とし
、保護層の厚さがほぼ同等のCo −Mnメッキ膜厚0
.03μmの実施例1の磁気ディスクに比べて再生出力
が27チ程度減少した。また金属薄膜としてCo −N
i−P膜を用い、硫酸浸漬後の焼成温度を190℃とし
た場合、耐久性が著しく劣りC8S回数100〜200
回で傷を生じた。275℃で焼成した場合にはC8S耐
久性は約4000回まで増したが、N1−Pメッキ層の
帯磁によって記録再生特性が著しく劣化した。
(19) Therefore, in order to obtain a magnetic disk in which the number of errors per surface is 100 or less under the same measurement conditions as in the recording/reproduction test described above, an intermediate layer with a thickness of o, io μm or more is required, and the thickness of the protective layer is Co-Mn plating film thickness 0 with almost the same thickness
.. The reproduction output was reduced by about 27 inches compared to the magnetic disk of Example 1 with a diameter of 0.3 μm. Also, as a metal thin film, Co-N
When i-P membrane is used and the firing temperature after immersion in sulfuric acid is set to 190°C, the durability is extremely poor and the number of C8S cycles is 100 to 200.
The wound was caused by the injury. When fired at 275° C., the C8S durability increased to about 4000 times, but the recording and reproducing characteristics were significantly deteriorated due to the magnetization of the N1-P plating layer.

実施例2゜ 実施例1と同様にして磁気ディスクを作製したが、本実
施例では膜厚0.05μm、Mn含有量4%のCo −
Mn膜よりなる金属薄膜の酸化工程において用いる処理
液として第3表に示すものをそれぞれ用いた。本発明に
おいては、金属薄膜と磁性層との耐酸化性に著しい差が
あるため、金属薄膜全体に反応が及び、磁性層は侵食さ
れない処理条件を(20) 容易に見い出すことができた。酸の強さに応じて濃度、
浸漬時間等の適する条件が選択されるが、その−例とし
て本実施例で用いた条件を表3に示す。
Example 2 A magnetic disk was produced in the same manner as in Example 1, but in this example, a Co - with a film thickness of 0.05 μm and a Mn content of 4% was used.
The treatment liquids shown in Table 3 were used in the process of oxidizing a metal thin film made of a Mn film. In the present invention, since there is a significant difference in oxidation resistance between the metal thin film and the magnetic layer, it was possible to easily find treatment conditions (20) in which the entire metal thin film was reacted and the magnetic layer was not eroded. Concentration depending on the strength of the acid,
Suitable conditions such as dipping time are selected, and Table 3 shows the conditions used in this example as an example.

第3表 処理液の種類および浸漬条件 こうして得られた磁気ディスクを実施例1と同様にして
C8S試験および記録再生試験を行った結果、実用上十
分な耐久性(css2万回以上回以上性)とエラー特性
(−面あたりのエラー個数100個以下)を有すること
が確認された。また再生出力は、同等のエラー特性が得
られる比較例1のディスクにくらべて32%程度増加し
た。
Table 3 Types of treatment liquid and immersion conditions The magnetic disk thus obtained was subjected to C8S test and recording/reproduction test in the same manner as in Example 1, and the results showed that it had sufficient durability for practical use (CSS 20,000 times or more). It was confirmed that it had error characteristics (100 or less errors per negative side). Furthermore, the playback output increased by about 32% compared to the disk of Comparative Example 1, which had the same error characteristics.

(21) 実施例3゜ 実施例1と同様にして磁気ディスクを作製したが、本実
施例では磁性層上に、当金有量を変化させた膜厚0.0
3μm (7) Co −Mn電気メツキ膜からなる金
属薄膜を形成し、2〜4チのリン酸溶液で処理した後1
80℃、8時間の焼成を行った。C。
(21) Example 3 A magnetic disk was produced in the same manner as in Example 1, but in this example, a film with a thickness of 0.0 with varying amounts of metal was formed on the magnetic layer.
3 μm (7) After forming a metal thin film consisting of a Co-Mn electroplated film and treating it with 2 to 4 t of phosphoric acid solution, 1
Firing was performed at 80° C. for 8 hours. C.

−胤膜は、0.196から7チのものを用いた。- Seed membranes of 0.196 to 7 inches were used.

こうして得られた磁気ディスクを実施例1と同様にして
C8S試験を行なった。ディスク表面に傷が発生するC
8S回数を第4表に示す。
The magnetic disk thus obtained was subjected to a C8S test in the same manner as in Example 1. C: Scratches occur on the disc surface.
Table 4 shows the number of 8S.

第4表 胤含有量とC88耐久回数 (22) 比較例2゜ 実施例2と同様にして作製したが、中間層膜厚をQ、1
9μmとし、膜厚0.04 ttmノCo −Ni −
P 膜からなる金属薄膜を硝酸浸漬後230℃で焼成し
て保護層とした磁気ディスクでは、同様のC8S試験に
おいて0883500回で傷が発生した。
Table 4 Seed content and C88 durability (22) Comparative example 2゜Produced in the same manner as Example 2, but with the intermediate layer film thickness Q, 1
9 μm, film thickness 0.04 ttm Co - Ni -
In a magnetic disk in which a protective layer was formed by immersing a metal thin film made of a P film in nitric acid and baking it at 230° C., scratches occurred after 0,883,500 cycles in a similar C8S test.

本実施例において保護層に少量の鳩を含有することによ
って耐久性が著しく向上することが示された。
In this example, it was shown that the durability was significantly improved by including a small amount of dove in the protective layer.

実施例4゜ 実施例1と同様にして磁気ディスクを作製したが、本実
施例では膜厚0,04μm、B含有量3チのCo −B
 膜よりなる金属薄膜を形成した。Co −B膜は、金
属塩として硫酸コバルト、還元剤としてジメチルアミン
ボラン、錯化剤としてマロン酸ナトリウム、クエン酸ナ
トリウムを含む無電解メ、キ浴を用い、pH5〜6の酸
性側で作製した。
Example 4 A magnetic disk was prepared in the same manner as in Example 1, but in this example, Co-B with a film thickness of 0.04 μm and a B content of 3.
A thin metal film consisting of a film was formed. The Co-B film was prepared at an acidic pH of 5 to 6 using an electroless bath containing cobalt sulfate as a metal salt, dimethylamine borane as a reducing agent, and sodium malonate and sodium citrate as complexing agents. .

下記の第5表に示す条件でそれぞれ処理した後。After each treatment under the conditions shown in Table 5 below.

170℃にて25時間焼成した。It was baked at 170°C for 25 hours.

(23) 第5表 処理液の種類および浸漬条件 こうして得られた磁気ディスクの表面には一様な酸化物
保護層が形成されていた。C8S試験の結果、2万回の
C88に耐え、十分な耐久性をもつことが確認された。
(23) Table 5 Type of treatment liquid and immersion conditions A uniform oxide protective layer was formed on the surface of the magnetic disk thus obtained. As a result of the C8S test, it was confirmed that it withstood 20,000 cycles of C88 and had sufficient durability.

実施例1と同様の記録再生試験の結果、処理液濃度が減
少する程エラー個数が減少する傾向があり、各処理液の
濃度を適宜選ぶことにより一面あたりのエラー数が10
0個以下(24) のディスクを得ることができた。また再生出力は同等の
エラー特性が得られる比較例1のディスクにくらべて3
4−程度増加した。
As a result of the same recording and reproducing test as in Example 1, the number of errors tends to decrease as the concentration of the processing liquid decreases, and by appropriately selecting the concentration of each processing liquid, the number of errors per page can be reduced to 10.
Less than 0 (24) discs were obtained. Also, the playback output is 3.3 times higher than that of the disk in Comparative Example 1, which has the same error characteristics.
It increased by about 4.

実施例5゜ 実施例1と同様にして磁気ディスクを作製したが、本実
施例では磁性層上に膜厚0.05μmQ)Co−B膜か
らなる金属薄膜を形成し、第6表の条件で処理した後、
180℃、15時間の焼成を行なった。
Example 5 A magnetic disk was prepared in the same manner as in Example 1, but in this example, a thin metal film consisting of a Co-B film with a thickness of 0.05 μm was formed on the magnetic layer, and the magnetic disk was prepared under the conditions shown in Table 6. After processing,
Firing was performed at 180°C for 15 hours.

Co−B膜は、0.01%から4.0チのB含有量のも
のを用いた。B含有量はメッキ浴のpi(を増加する゛
ことにより減少させた。実施例4と同様のメッキ浴を用
いたが、アルカリ側では浴の安定性を増すため錯化剤と
してアスパラギン酸を用いた。
The Co-B film used had a B content of 0.01% to 4.0%. The B content was decreased by increasing the pi of the plating bath. The same plating bath as in Example 4 was used, but on the alkaline side, aspartic acid was used as a complexing agent to increase the stability of the bath. there was.

こうして得られた磁気ディスクを実施例1と同様にして
C8S試験を行なった。ディスク表面に傷が発生するC
8S回数を同じく第6表に示す。
The magnetic disk thus obtained was subjected to a C8S test in the same manner as in Example 1. C: Scratches occur on the disc surface.
The number of 8S is also shown in Table 6.

(25) 第6表 B含有量 処理条件、gcss回数比較例3゜ 実施例5と同様にして作製したが、中間層のN1−P、
メッキ膜厚を0.10μmとし、この上に膜厚0.05
μmのCo −Ni −P メッキ膜からなる金属薄膜
を形成し、これを0.25%の硝酸に数分間浸漬後18
0℃で15時間焼成して保護層とした磁気ディスクでは
、同様のC8S試験においてC8S約150回で傷が発
生した。実用上必要なエラー特性を得るため中間層膜厚
を0.10μmとしたので、本実施例で得た磁気ディス
クにくらべて再生出力が約26(26) チ減少した。焼成温度を275℃とした場合にはC8S
耐久性は約5000回まで増加したが、下地および中間
層のNi −P メッキ膜の帯磁によって記録再生特性
が著しく劣化した。
(25) Table 6 B content Processing conditions, gcss number comparison example 3゜Produced in the same manner as Example 5, but N1-P of the intermediate layer,
The plating film thickness is 0.10μm, and on top of this, a film thickness of 0.05μm is applied.
A thin metal film consisting of a Co-Ni-P plating film with a thickness of μm was formed, and this was immersed in 0.25% nitric acid for several minutes.
In a similar C8S test, scratches occurred on a magnetic disk baked at 0° C. for 15 hours to form a protective layer after approximately 150 C8S cycles. Since the intermediate layer thickness was set to 0.10 μm in order to obtain practically necessary error characteristics, the reproduction output was reduced by about 26 (26) inches compared to the magnetic disk obtained in this example. When the firing temperature is 275℃, C8S
Although the durability increased to about 5,000 times, the recording and reproducing characteristics were significantly deteriorated due to magnetization of the Ni--P plating film of the base and intermediate layer.

実施例5において、保護層に少量のBを含有することに
よって耐久性が著しく向上することが示された。
In Example 5, it was shown that the durability was significantly improved by containing a small amount of B in the protective layer.

実施例6゜ 実施例5と同様にして磁気ディスクを作製したが、本実
施例ではB含有量0.4チのCo−B メッキ膜からな
る金属薄膜の膜厚を0.005μmから0.1μmの範
囲で変化させた。金属薄膜の酸化は、1〜10チのプロ
ピオン酸に数分間浸漬後、195℃で15時間焼成した
Example 6 A magnetic disk was produced in the same manner as in Example 5, but in this example, the thickness of the metal thin film consisting of a Co-B plating film with a B content of 0.4 μm was changed from 0.005 μm to 0.1 μm. It was varied within the range of. The metal thin film was oxidized by immersing it in 1-10% propionic acid for several minutes and then baking it at 195°C for 15 hours.

C8S試験の結果を第7表に示す様にCo−Bメッキ膜
厚0.02μm以上においてC3S 2万回以上の耐久
性を示した。プロピオン酸処理条件をCo−B メッキ
膜厚に応じて適宜変化させたところ、各膜厚について一
面あたりのエラー個数が100個以下のディスクが得ら
れた。
As the results of the C8S test are shown in Table 7, the Co--B plating film thickness of 0.02 μm or more exhibited durability over 20,000 cycles of C3S. When the propionic acid treatment conditions were changed as appropriate depending on the Co-B plating film thickness, disks with the number of errors per surface of 100 or less were obtained for each film thickness.

(27) 第7表 Co−Bメッキ膜厚とCSS回数実施例7゜ 実施例1と同様にして磁気ディスクを作製したが、本実
施例ではCo−N1−P磁性層上に膜厚0.04pm、
Mn含有量1.5優、P含有量 2.5 %のC。
(27) Table 7 Co-B plating film thickness and CSS number Example 7゜A magnetic disk was produced in the same manner as in Example 1, but in this example, a film thickness of 0.00000. 04pm,
C with Mn content of 1.5% and P content of 2.5%.

−Mn −P無電解メッキ膜よりなる金属薄膜を第8表
に示す条件でそれぞれ処理した後、190℃にて7時間
焼成して保護層を形成した。
A metal thin film made of -Mn-P electroless plating film was treated under the conditions shown in Table 8, and then baked at 190°C for 7 hours to form a protective layer.

第8表 処理液の種類および浸漬条件 (28) Co −Mn −P無電解メッキ膜は、Journal
 ofmlectrochemical 5ocjet
y 、 Vol、 130 、 A 4 e1983の
p、790〜794に示した様に次亜リン酸ナトリウム
を還元剤とし、金属塩に硫酸コバルト、(jtt[tマ
ンガン、錯化剤としてマロン酸ナトリウムおよびリンゴ
酸ナトリウム、pH緩衝剤として硫酸アンモニウムを用
いたメッキ浴より作製した。
Table 8 Types of treatment liquid and immersion conditions (28) Co-Mn-P electroless plated film
ofmelectrochemical 5ocjet
As shown in p. 790-794 of Vol. y, Vol. 130, A4 e1983, sodium hypophosphite is used as a reducing agent, cobalt sulfate as a metal salt, manganese as a complexing agent, sodium malonate and It was prepared from a plating bath using sodium malate and ammonium sulfate as a pH buffer.

本実施例で得られた磁気ディスクを実施例1と同様にし
て記録再生試験を行った結果、処理液濃度が減少する程
エラー個数が減少する傾向があり処理条件を適宜選ぶこ
とにより一面あたりのエラー個数が100個以下のディ
スクが得られた。またC8S試験においても実用上十分
な耐久性が得られた。再生出力については、同等のエラ
ー特性が得られる比較例1のディスクにくらべて34%
程度増加した。
As a result of performing a recording/reproduction test on the magnetic disk obtained in this example in the same manner as in Example 1, it was found that the number of errors tends to decrease as the processing liquid concentration decreases, and by appropriately selecting the processing conditions, the number of errors per side can be reduced. A disk with less than 100 errors was obtained. Furthermore, practically sufficient durability was obtained in the C8S test. The playback output is 34% compared to the disc of Comparative Example 1, which has the same error characteristics.
The degree has increased.

実施例8゜ 実施例1と同様にして磁気ディスクを作製したθξ本本
実側例は磁性層の上に膜厚0,04μmの下記第9表に
示す各糧金属薄膜を形成し%0.5〜7%(29) の酢酸溶液に数分間浸漬した後190℃で8時間焼成し
た。
Example 8゜A magnetic disk was prepared in the same manner as in Example 1 θξ In this actual example, a thin film of each of the metals shown in Table 9 below with a film thickness of 0.04 μm was formed on the magnetic layer. After being immersed in ~7% (29) acetic acid solution for several minutes, it was calcined at 190°C for 8 hours.

第9表 各種金属薄膜 Co −Mn −P膜、 Co −Ni −Mn−P膜
はJournal of Electrochemic
al 5ociety 、 Vol 。
Table 9: Various metal thin films Co-Mn-P film, Co-Ni-Mn-P film, Journal of Electrochemical
al 5ociety, Vol.

130、腐4 、1983のp、 790〜794 で
用いたメッキ浴より作製した。Co −Fe −P膜は
、Platlnge1967年、 p、705に示され
る次亜リン酸を還元剤とするアンモニア・アルカリ性ク
エン酸浴より作製した。Co −Zn −P膜は、IE
EE Tran、onMag、、 1966年、 9.
681に示される次亜リン酸を還元剤とするアンモニア
・アルカリ性クエン111[よ(30) り作製した。Co膜はヒドラジンを還元剤とするカセイ
アルカリ性メッキ浴より作製した。Co −■膜はRF
スパッタ法によって作製した。
130, Fu 4, 1983, p. 790-794. The Co-Fe-P film was prepared from an ammonia-alkaline citric acid bath using hypophosphorous acid as a reducing agent as shown in Platlnge 1967, p. 705. Co-Zn-P film is IE
EE Tran, onMag, 1966, 9.
Ammonia-alkaline citric acid 111 [Yo (30)] was prepared using hypophosphorous acid as a reducing agent as shown in No. 681. The Co film was prepared using a caustic alkaline plating bath using hydrazine as a reducing agent. Co-■ membrane is RF
It was manufactured by sputtering method.

こうして得られた磁気ディスクを実施例1と同様にして
試験した結果、CB52万回以上の耐久性と実用上十分
なエラー特性を有していた。再生出力は、同等のエラー
特性が得られる比較例1のディスクにくらべて約34チ
増加した。
The thus obtained magnetic disk was tested in the same manner as in Example 1, and as a result, it had durability of 520,000 CBs or more and error characteristics sufficient for practical use. The playback output increased by about 34 inches compared to the disk of Comparative Example 1, which had the same error characteristics.

実施例9゜ 実施例1と同様にして磁気ディスクを作製したが、本実
施例では、膜厚0.03μm、Mn含有i1.5%。
Example 9 A magnetic disk was produced in the same manner as in Example 1, but in this example, the film thickness was 0.03 μm and the Mn content was 1.5%.

B含有量0,6チのCo −Mn −B無電解メッキ膜
からなる金属薄膜を形成し、数チのリン酸、シュウ酸、
酢酸、プロピオン酸等の弱酸に十数分間浸漬後100℃
から190℃の温度範囲で30時間焼成した。
A thin metal film consisting of a Co-Mn-B electroless plating film with a B content of 0.6 T was formed, and a few T of phosphoric acid, oxalic acid,
100℃ after immersion in weak acids such as acetic acid and propionic acid for more than 10 minutes.
It was fired for 30 hours at a temperature ranging from 190°C to 190°C.

こうして得られた磁気ディスクを実施例1と同様にして
試験した結果、C3S2万回以上の耐久性と実用上十分
なエラー特性を有していた。また、本実施例において焼
成工程を省いた場合もC88回数5ooo回程度の耐久
性を得ることができた。
The thus obtained magnetic disk was tested in the same manner as in Example 1, and as a result, it had durability of more than 20,000 C3S cycles and error characteristics sufficient for practical use. Furthermore, even when the firing step was omitted in this example, durability of approximately 500 C88 cycles could be obtained.

再生出力は、比較例1で同等のエラー特性が得られたデ
ィスクにくらべて約36俤増加した。
The reproduction output increased by about 36 yen compared to the disc of Comparative Example 1, which had the same error characteristics.

実施例10 実施例1と同様にして磁気ディスクを作製したが、本実
施例では当台有量3.5チ、膜厚0.02μmのco−
Mn膜を金属薄膜とし、酸化工程は、空気中195℃で
50時間焼成する方法をとった。こうして得られた磁気
ディスクを実施例1と同様にして試験した結果、実用上
十分な耐久性とエラー特性を有していた。再生出力は、
比較例1で同等のエラー特性が得られたディスク1こく
らべて約38係増加した。
Example 10 A magnetic disk was produced in the same manner as in Example 1, but in this example, a co-coated disk with a capacity of 3.5 inches and a film thickness of 0.02 μm was used.
The Mn film was a metal thin film, and the oxidation step was performed by firing in air at 195° C. for 50 hours. The thus obtained magnetic disk was tested in the same manner as in Example 1, and as a result, it had practically sufficient durability and error characteristics. The playback output is
Compared to Disc 1, which had the same error characteristics in Comparative Example 1, the error was increased by about 38 factors.

以上の実施例により明らかなように基体、磁性層および
保護層の順をこ設けらnた磁気記録体において、前記保
護層となる酸化物形成に用いる金属薄膜に前記磁性層よ
りも耐酸化性の弱い金属膜を用いることにより、実用的
な耐久性を有し一様な再生出力の得られる磁気記録体が
得られる。特に磁性層と保@層の間に中間層を形成した
従来の磁気記録体に比べ、ヘッド−媒体分離長低減によ
る再生出力の増大が図れるきともに、製作工程の簡素化
が可能となり、本発明の実用的、工業的価値は極めて高
い。
As is clear from the above examples, in a magnetic recording body in which a substrate, a magnetic layer, and a protective layer are provided in this order, the metal thin film used to form the oxide that becomes the protective layer has a higher oxidation resistance than the magnetic layer. By using a metal film with a weak strength, a magnetic recording medium with practical durability and uniform reproduction output can be obtained. In particular, compared to conventional magnetic recording bodies in which an intermediate layer is formed between the magnetic layer and the holding layer, the reproduction output can be increased by reducing the head-medium separation length, and the manufacturing process can be simplified. has extremely high practical and industrial value.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は酸化処理液浸漬時間に対する飽和磁化量の変化を
示す図である。 (33)
The drawing shows the change in the amount of saturation magnetization with respect to the immersion time in the oxidation treatment solution. (33)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1) 基体上に磁性層および保護層が、この順に設け
られた磁気記録体において、前記保護層が前記磁性層よ
りも耐酸化性が弱いCoを主成分とする金属薄膜を酸化
することにより形成された層であることを特徴とする磁
気記録体。
(1) In a magnetic recording body in which a magnetic layer and a protective layer are provided in this order on a substrate, the protective layer oxidizes a metal thin film mainly composed of Co, which has weaker oxidation resistance than the magnetic layer. A magnetic recording body characterized by being a formed layer.
(2)前記保護層力ξ Coを主成分とし、これにMn
 。 す逼磁気記録体。
(2) The protective layer force ξ has Co as the main component, and Mn
. A magnetic recording medium.
(3)前記保護層が、coを主成分とし、これにMn。 B、V、Fe、Znから選ばれた少なくとも一種を含有(3) The protective layer mainly contains cobalt and Mn. Contains at least one selected from B, V, Fe, and Zn
JP19185783A 1983-10-14 1983-10-14 Magnetic recording material Pending JPS6085433A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19185783A JPS6085433A (en) 1983-10-14 1983-10-14 Magnetic recording material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19185783A JPS6085433A (en) 1983-10-14 1983-10-14 Magnetic recording material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6085433A true JPS6085433A (en) 1985-05-14

Family

ID=16281655

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19185783A Pending JPS6085433A (en) 1983-10-14 1983-10-14 Magnetic recording material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6085433A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007097361A (en) * 2005-09-30 2007-04-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Step-up/down converter

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007097361A (en) * 2005-09-30 2007-04-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Step-up/down converter

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4150172A (en) Method for producing a square loop magnetic media for very high density recording
US5252367A (en) Method of manufacturing a magnetic recording medium
JPS6085433A (en) Magnetic recording material
JPS59217224A (en) Magnetic memory medium
JPS5961107A (en) Magnetic memory body
JPS6085431A (en) Magnetic recording material
JPS6085432A (en) Magnetic recording medium
JPH0719372B2 (en) Method of manufacturing magnetic recording medium
JPH0451885B2 (en)
JPH0514325B2 (en)
JPS59142735A (en) Magnetic recording medium
JPH0315254B2 (en)
JPS59180829A (en) Magnetic storage body
JPH09147357A (en) Production of magnetic recording medium
JPS6038731A (en) Magnetic recording body
JPS6342021A (en) Magnetic recording medium
JPS59177725A (en) Magnetic storage body
JPH0556006B2 (en)
JP2773477B2 (en) Manufacturing method of magnetic recording medium
JPS5885923A (en) Magnetic recording body
JPH077494B2 (en) Magnetic recording medium
JPS6364623A (en) Magnetic recording medium
JPS62150524A (en) Magnetic recording medium
JPH0467251B2 (en)
WO2006022437A1 (en) Substrate for perpendicular magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and perpendicular magnetic recording medium