JPH01258786A - 超純水製造装置 - Google Patents

超純水製造装置

Info

Publication number
JPH01258786A
JPH01258786A JP8769588A JP8769588A JPH01258786A JP H01258786 A JPH01258786 A JP H01258786A JP 8769588 A JP8769588 A JP 8769588A JP 8769588 A JP8769588 A JP 8769588A JP H01258786 A JPH01258786 A JP H01258786A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pure water
water
effect
stage
primary
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8769588A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidetaka Sawada
澤田 英隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanadevia Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
Hitachi Shipbuilding and Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp, Hitachi Shipbuilding and Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Zosen Corp
Priority to JP8769588A priority Critical patent/JPH01258786A/ja
Publication of JPH01258786A publication Critical patent/JPH01258786A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、半導体工業等の電子工業で使用される超純
水の製造装置に関する。
従来技術およびその問題点 近年、半導体工業等の電子工業では、極めて高度に精製
された水が必要とされている。そして、その原水として
は、通常、工業用水、上水道水、井戸水等が用いられて
いるが、これら原水中には懸濁物質、電解質、微粒子、
微生物、6機物、溶存ガス等が、要求される水質基準値
に対して多量に含まれているため、これら不純物を除去
しなければならない。しかし、このような多量の不純物
を一度に処理できる処理技術はなく、したがって従来の
超純水製造装置は各不純物を除去するのに適した多数の
処理装置を組合わせたものであった。
たとえば第3図に示される超純水製造システム(51)
は、1次純水系(52)と2次純水系(53)よりなり
、また1次純水系(52)は、濾過装置(54)、逆浸
透装置(55)、脱気装置(5B)およびイオン交換装
置(57)よりなり、さらに2次純水系(53)は、紫
外線殺菌装置(58)、デミネラライザ−(59)およ
び逆浸透装置(60)よりなっている。このように、第
3図の超純水製造システムでは、特性の異なる多数の処
理装置を組合わせるため、装置の構成が複雑になるとと
もに、運転監視が面倒なものとなり、さらにはイオン交
換装置を使用しているため、イオン交換樹脂の再生のた
めの費用が高くつくといった欠点があった。
また、第4図に示される超純水製造システム(6I)は
、第3図の超純水製造システム(51)の欠点を解消す
る目的で案出されたものであって、1次純水系(62)
として機械的蒸気圧縮式蒸留装置(63)を使用すると
ともに、2次純水系(C4)として逆浸透装置(65)
を使用している。このシステム(61)では組合わされ
る処理装置の数が少ないため、運転監視が容易でありイ
オン交換装置を使用しないため、イオン交換樹脂の再生
および取替えも必要なく、メンテナンス費の節減を果た
すことができる。しかしこのシステム(61)では機械
的蒸気圧縮式蒸留装置(63)から出る1次純水は、熱
による逆浸透膜の加水分解による劣化、ないしは逆浸透
膜モジュールを構成する部材の強度劣化、接着剤の接着
強度劣化等を防止するために、熱交換器で通常50℃以
下に冷却しなければならない。ところで、半導体工業関
係ではこうして冷却された1次純水を逆浸透装置で処理
し、iすられた2次純水をエツチング加]二工程で洗浄
液として使用しているが、洗浄効果を上げるために、洗
浄ポイント付近で2次純水を80℃以上に昇温しでいる
。したがっ−C1第4図のシステム(61)では、この
昇温用熱エネルギーが必要となる上に、逆浸透装置内に
おける生菌繁殖防止のため1次純水を殺菌する必要があ
るといった欠点がある。
第5図および第6図はそれぞれ多段フラッシュ蒸留装置
および多重効用蒸留装置を示す。これら装置で得られる
純水の水質は、原水としてたとえば電導度1000μS
 / c m  の水質の水を用いた場合、比抵抗で約
15MΩ・Cmであって、集積度1メガピッド以上の半
導体の洗浄に使用される超純水の比抵抗で18MΩ・C
m以上という水質の要求を満足しない。
さらに、第7図に示す超純水製造蒸留プロセスは、多重
効用蒸留装置(71)と多段フラッシュ蒸留装置(72
)を組合わせたものである。このプロセスでは多重効用
蒸留装置で得られた1次純水を還流式多段フラッシュ蒸
留装置に導入し、1次純水の自己蒸発により発生した水
蒸気を凝縮せしめて、2次純水を得る。この場合、多重
効用蒸留装置から出る1次純水に対する2次純水の回収
率は、1次純水の顕熱から蒸発潜熱をiL7るため、極
めて低いという欠点がある。
たとえば、第3図の超純水製造システムでは、原水に対
する2次純水の回収率は70%以上であるが、第7図の
システムでは10%以下である。この欠点を解消するた
めに、1次純水を循環し、2次純水の回収率を高める方
法があるが、循環に要するポンプの消費電力、および循
環水を所要温度まで昇温するのに必要な外部からの供給
蒸気が必要となり、省エネルギーの点で問題がある。
この発明は、上記従来技術の問題点をすべて解決するこ
とができる超純水の製造装置を提供することを目的とす
る。
問題点の解決手段 この発明による純水製造装置は、上記目的の達成のため
に、1次純水系として多重効用蒸留装置を使用するとと
もに、2次純水系として別の多重効用蒸留装置を使用す
ることを特徴とする。
この発明の好ましい実施態様においては、1次純水系の
多重効用蒸留装置の複数の蒸留器のうちの最終段で発生
した蒸気を、2次純水系の多重効用蒸留装置の加熱源と
して使用する。
作     用 不純物を含む原水をまず2次純水系の多重効用蒸留装置
で蒸発・凝縮処理して、1次純水としての蒸留水を得、
ついでこれを2次純水系の多重効用蒸留装置でさらに処
理してその純度を上げ、2次純水として超純水を得る。
実  施  例 つぎに、この発明の実施例について、図面により具体的
に説明する。
実施例1 第1図に示す超純水製造装置は、1次純水系多重効用蒸
留装置(A)と2次純水系多重効用蒸留装置(B)から
成っている。各多重効用蒸留装置(A)(B)は、多重
効用蒸留器(1)(1’)、複数の効用ポンプ(5) 
(5°)、1次純水送水ポンプ(9) 、2次純水送水
ポンプ(9°)、真空装a (0) (6’)等から主
として構成されている。また、多重効用蒸留22 (1
)(1’)は各々、垂直に配置された複数の伝熱管(7
)(7°)、氷室(8)(8°)、凝縮室(10)(1
0°)、水溜部(11)(11°)、水溜部(11)(
11’)の上部に設置されたミストセパレータ(4)(
4’)および凝縮室(10)(10’)内に設置された
予熱段(2)(2′)からなる複数の各効用段と、各多
重効用蒸留器(1)(1’)最終部にある純水溜部(1
2)(12′)と、その上部に配置された復水段(3)
(3’)と、予熱段(2)(2’)とから構成されてい
る。
上記構成の超純水製造装置において、装置外に設置され
た取水部より取水された原水は、1次純水系多重効用蒸
留装置(A)の多重効用蒸留器(1)内の純水溜部(1
2)内の上部の予熱段(2)内の複数の伝熱管内に入り
、最終効用の第n効用段で発生した蒸気の一部の凝縮潜
熱を受けて加熱される。ついで原水は、各効用段凝縮室
(10)内の予熱段(2)の伝熱管内を順次流れて各効
用段で発生した蒸気の凝縮潜熱の一部を受けて順次加熱
され、第1効用予熱段(2)で装置外に設置されている
ボイラー等から供給された加熱蒸気の凝縮潜熱の一部を
受けて所定温度まで加熱される。
原水は、ついで第1効用段下部の水溜部(11)に入り
、水溜部(11)上部の複数の垂直伝熱管(7)内から
薄膜流下した濃縮水と混合し、第1効用段に対応する効
用ポンプ(5)により蒸留器(1)外に引き出され、第
1効用段上部の氷室(8)内に循環流入する。
氷室(8)内に流入した循環水は、垂直に配置された伝
熱管(7)内に入り、薄膜流下しながら伝熱管(7)外
面で凝縮した加熱蒸気の凝縮潜熱を受けて一部蒸発する
。この発生蒸気即ち水蒸気と残余の循環水は水溜部(1
1)に流下する。
循環水の一部は第1効用段と第2効用段の隔壁(14)
下部に設けられたオリフィス(13)を通過して、第2
効用段の水溜部(11)に流入し、第2効用段の垂直伝
熱管(7)内から流下した循環水と混合する。ついでこ
の混合循環水は、第2効用段に対応する効用ポンプ(5
)で蒸留器(1)外に引き出され、第2効用段上部の氷
室(8)内に循環装入し、第2効用段凝縮室(lO)内
の垂直伝熱管(7)内を薄膜流下し、第1効用段で発生
した蒸気即ち水蒸気の凝縮潜熱の大半を受けて一部蒸発
する。このように、各効用段で循環水より蒸気が発生す
る。
第1効用段水溜部(11)に流下した発生蒸気は、ミス
トセパレータ(4)を通過することにより発生蒸気に同
伴する不純物を含むミストの大半が除去され、はぼ純粋
な水蒸気となる。この水蒸気は、前述のとおり、第2効
用段内の垂直伝熱管(7)外面で大部分凝縮して、その
凝縮潜熱を循環水に与えて循環水の一部を蒸発せしめる
第1効用段で発生した蒸気の残余の部分は、第2効用段
の凝縮室(10)内の予熱段(2)内の伝熱管外面で凝
縮し、その凝縮潜熱を伝熱管内を流れる原水に与えて原
水を加熱する。
発生蒸気が各々伝熱管外面で凝縮してできた凝縮液は、
第2効用段凝縮室(10)の底部に集められ、凝縮室隔
壁(14)の下端に設けられたオリフィス(13)を通
って第3効用段の凝縮室(10)の底部に入り、一部自
己蒸発するとともに、第3効用段凝縮室(10)ででき
た凝縮液と混合する。
各効用段で前述のプロセスが繰り返されてできた凝縮液
は第n効用段凝縮室(10)の隔壁(14)のオリフィ
ス(13)を通って純水溜部(12)の底部に流下し、
純水溜部(12)の上部に設けられた復水段(3)およ
び予熱段(2)でできた凝縮液と混合する。
最終効用の第n効用段凝縮室(lO)内の垂直伝熱管(
7)内で発生した蒸気は、同伴する不純物を含むミスト
の大半がミストセパレータ(4)で除去されることによ
って、はぼ純水の水蒸気となって純水溜部(12)に流
入し、前述の如く、予熱段(2)の伝熱管外面で凝縮し
、残余の水蒸気は復水段(3)の伝熱管外面で凝縮し、
純水溜部(■2)の底部に落下する。また原水中に溶存
する空気管のガスは、循環水の加熱・蒸発工程でその大
部分脱気され、真空装置(6)で蒸留器(1)外に排出
される。
この1次純水系多重効用蒸留装置(A)で得られた凝縮
水即ち1次純水の純度を更に上げるため、1次純水系多
重効用蒸留装置(A)の蒸留器(1)の純水溜部(12
)の凝縮液は、1次純水送水ポンプ(9)により2次純
水系多重効用蒸留装置(B)内の多重効用蒸留器(1゛
)内の純水溜部(12’)向上部に配置された予熱段(
2′)内の複数の伝熱管内に送られる。そして、1次純
粋は、最終効用の第n゛効用段で発生した水蒸気の一部
の凝縮潜熱を受けて加熱された後、各効用段凝縮室(1
0’)内の予熱段(2゛)の伝熱管内を順次流れ第1°
効用段の予熱段(2°)で装置外に設置されているボイ
ラー等から供給された加熱蒸気の凝縮潜熱を受けて所定
温度まで加熱される。
加熱された1次純水は、第1゛効用段下部の水溜部(+
i’)に入り、1次純水系多重効用蒸留装置(A)と同
じプロセスで各効用段の垂直伝熱管(7°)内で蒸発し
て水蒸気を発生し、ミストセパレータ(4゛)により微
量の不純物を含むミストが除去され、ミストが除去され
た水蒸気が凝縮して1次純水より更に純度の高い凝縮液
となる。
こうして得られた凝縮水は、多重用蒸留器(lo)の純
水溜部(12’)より2次純水送水ポンプ(9°)によ
り引き出されて、1次純水より純度の極めて高い2次純
水として使用点に送られる。
実施例2 第2図は、上記実施例1での1次純水系多重効用蒸発器
(A)内の復水段(3)をなくし、かつ、原水を1次純
水系および2次純水系の各多重効用蒸発器内の予熱段(
2)(2’)に通して、上記実施例1より経済性を高め
た第2の実施例を示す。
第2図に示す超純水製造装置を構成する1次純水系多重
効用蒸留装置(A)および2次純水系多重効用蒸留装置
(B)は、いずれも実施例1のものと同じ構造をなすの
で、説明を省略する。
第2図に示す装置において、装置外に設置された取水部
より取水された原水は、1次純水濃縮水と混合し、2次
純水系多重効用蒸留装置(B)内の多重効用蒸留器(l
o)内の純水溜部(12′)内の上部に配置された予熱
段(2°)内の複数の伝熱管内に入る。ここで原水は、
最終効用の第n°効用段で発生した蒸気の一部の凝縮潜
熱を受けて加熱され、各効用段凝縮室(■0)内の予熱
段(2゛)の伝熱管内を順次流れて各効用段で発生した
蒸気の一部の凝縮潜熱を受けて順次加熱され、第1°効
用段内の予熱段(2°)で、1次純水系多重効用蒸留装
置(A)内の多重効用蒸留器(1)内の最終効用の第n
効用段で発生した蒸気の一部の凝縮潜熱を受けて所定温
度まで加熱される。
ついで原水は、1次純水系多重効用蒸留装置(A)の蒸
留器(1)の第n段凝縮室(lO)内の予熱段(2〉の
複数の伝熱管内に流入する。ここで原水は第(n−1)
効用段で発生した蒸気の一部の凝縮潜熱を受けて更に加
熱され、順次各効用凝縮室(10)内の予熱段(2)の
伝熱管内を流れて、最終的に第1効用段凝縮室(10)
内の予熱段(2)で所定温度まで加熱される。
ついで原水は、第1効用段水溜部(11)に入り、ここ
で水溜部(11)で上部の複数の垂直伝熱管(7)内か
ら薄膜流下した循環水の濃縮水と混合する。混合水は、
第1効用段に対応する効用ポンプ(5)により蒸留器(
1)外に引き出され、第1効用段上部の水室(8)内に
入り、薄膜流下しながら伝熱管(7)外面で凝縮したボ
イラー等の外部熱源より供給された加熱蒸気の凝縮潜熱
の大半(一部は予熱段(2)の原水加熱に使用される)
を受けて一部蒸発する。この発生蒸気即ち水蒸気と残余
の循環水は水溜部(11)に流下する。
循環水の一部は第1効用段と第2効用段の隔壁(14)
下部に設けられたオリフィス(13)を通過して、第2
効用段の水溜部(11)に流入し、第2効用段の垂直伝
熱管(7)内から流下した循環水と混合する。ついでこ
の混合循環水は、第2効用段に対応する効用ポンプ(5
)で蒸留器(1)外に引き出され、第2効用段上部の氷
室(8)内に循環装入し、第2効用段凝縮室(10)内
の垂直伝熱管(7)内を薄膜流下し、第1効用段で発生
した蒸気即ち水蒸気の凝縮潜熱の大半を受けて一部蒸発
する。このように、各効用段で循環水より蒸気が発生す
る。
第1効用段水溜部(11)に流下した発生蒸気は、ミス
トセパレータ(4)を通過することにより発生蒸気に同
伴する不純物を含むミストの大半が除去され、はぼ純粋
な水蒸気となる。この水蒸気は、前述のとおり、第2効
用段内の垂直伝熱管(7)外面で大部分凝縮して、その
凝縮潜熱を循環水に与えて′fi環水の一部を蒸発せし
める。
第1効用段で発生した蒸気の残余の部分は、第2効用段
の凝縮室(10)内の予熱段(2)内の伝熱管外面で凝
縮し、その凝縮潜熱を伝熱管内を流れる原水に与えて原
水を加熱する。
発生蒸気が各々伝熱管外面で凝縮してできた凝縮液は、
第2効用段凝縮室(10)の底部に集められ、凝縮室隔
壁(I4)の下端に設けられたオリフィス(13)を通
って第3効用段の凝縮室(10)の底部に入り、一部自
己蒸発するとともに、第3効用段凝縮室(10)ででき
た凝縮液と混合する。
このようにして各効用段でできた凝縮液は、1次純水系
多重効用蒸発器(1)の純水溜部(12)に流入し、1
次純水として純水溜部(12)より2次純水系多重効用
蒸留装置(B)の蒸留器(lo)の第1゛効用段の水溜
部(11’)に流入する。
第n効用段の垂直伝熱管(7)で発生した蒸気は、ミス
トセパレータ(4)でミストが除去された後、2次純水
系多重効用蒸留器(lo)の第1゜効用段凝縮室(10
°)に入り、複数の伝熱管(7゛)外面でその大半が凝
縮し、その凝縮潜熱を管内を薄膜流下する1次純水循環
水に与えて、その一部を蒸発せしめる。残余の発生蒸気
の凝縮潜熱は凝縮室(10°)内の予熱段(2゛)の伝
熱管内を流れる原水の混合液に与えて、この混合液を加
熱する。
第1゛効用段凝縮室(10°)内の各伝熱管で凝縮して
できた凝縮液はまだ1次純水であり、1次純水系蒸留器
(1)の純水溜部(12)に戻され、第n効用段凝縮室
(lO)の底部より流入した凝縮液と混合し、前述のと
おり、第1″効用段の水溜部(11’)に1次純水とし
て流入する。
2次純水系多重効用蒸留器(1°)の水溜部(11’)
に流入した1次純水は、水溜部(11’)上部の垂直伝
熱管(7°)を薄膜流下した1次純水循環水と混合し、
その一部は隔壁(14’)のオリフィス(13°)を通
って第2°効用段の水溜部(11°)に流入する。残余
の混合液は循環水として第1゜効用段に対応する効用ポ
ンプ(5°)で引き出され、第1゛効用段上部の氷室(
8°)に入り、垂直伝熱管(7°)内を薄膜流下し、前
述の第n効用段で発生した蒸気の凝縮潜熱を受けて、そ
の一部が蒸発し、この発生水蒸気とともに水溜#(II
’)に流下する。
第1′効用段の垂直伝熱管(7′)内で発生した水蒸気
は、水溜部(11”)の上部配置されたミストセパレー
タ(4゛)で、水蒸気に同伴する不純物を含む1次純水
濃縮水のミストを除去される。
これは、極めて純粋な水蒸気として第2°効用段凝縮室
(10°)内に入り、垂直伝熱管(7°)の外面で凝縮
するとともに、伝熱管(7°)内面を薄膜流下する1次
純水循環水を加熱し、蒸気を発生せしめ、また凝縮室(
10″)内の予熱段(2°)の伝熱管外面で凝縮し、伝
熱管内を流れる原水の混合液を加熱する。
各伝熱管外面で凝縮してできた凝縮液は、凝縮室(10
’)の底部に集められ、隔壁(14’)の下端に設けら
れたオリフィス(13°)を通って第3効用段凝縮室(
10’)に流入する。こうして各効用段でできた凝縮液
は各凝縮室(to’)を通って最終的に純水溜部(12
°)に流入する。
純水溜部(12°)に流入した凝縮液は、1次純水に含
まれる不純物を、蒸発作用およびミストセパレータ(4
°)での除去作用により除去したものであるから、1次
純水より極めて純度の高い超純水であり、2次純水とし
て2次純水送水ポンプ(9゛)により使用点へ送水され
る。
以上2つの実施例に示される超純水製造システムでは原
水あるいは1次純水を垂直伝熱管の管内に膜状に流−ド
させて蒸発せしめているが、この発明はこれに限定され
ることなく、垂直伝熱管の管内を上昇させて蒸発せしめ
てもよい。
また、原水あるいは1次純水を水平伝熱管の管外面に流
し蒸発せしめる蒸留器を用いてもよい。
また各多重効用蒸留装置に蒸気圧縮式多重効用蒸留装置
を採用してもよい。また実施例2においては、1次純水
系多重効用蒸発器の最終効用の発生蒸気を蒸気圧縮装置
を使用して加圧せしめて2次純水系多重効用蒸発器に供
給せしめてもよい。
発明の効果 この発明によれば、1次純水系として多重効用蒸留装置
を使用するとともに、2次純水系として別の多重効用蒸
留装置を使用するため、不純物を含む原水をまず2次純
水系の多重効用蒸留装置で蒸発・凝縮処理して、1次純
水としての蒸留水を得、ついでこれを2次純水系の多重
効用蒸留装置でさらに処理してその純度を上げ、2次純
水として超純水を得ることができる。
したがって、この発明の純水製造システムによれば、特
性の異なる多数の処理技術を組合せた従来のシステムの
ように、原水を前処理する必要がなく、その運転監視が
大巾に簡略化せられる。またこの発明の純水製造システ
ムでは、原水をイオン交換しなくとも所定の水質が得ら
れ、イオン交換樹脂の再生、取替えの費用が不要となる
。更には原水および1次純水の水温が蒸発温度まで上昇
されるため、微生物も殺菌され、2次純水系での蒸発作
用およびミスト除去作用により限外濾過装置、ミクロフ
ィルター、紫外線滅菌装置等が不要になり、その分運転
監視、維持管理が楽になる。
また1次系、2次系ともに蒸留作用を採用しているため
、1段の蒸留作用より更に純度の高い超純水が得られ、
また、蒸発エネルギーとして潜熱を利用しているため、
顕熱を利用する多段フラッシュ蒸留法よりも1次純水を
循環するポンプ動力が不要となり、ランラニングコスト
も安くなる。また1次純水系からの発生蒸気を2次純水
系の蒸発エネルギーに使用する場合は、更にエネルギー
費が安くなる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図はそれぞれこの発明の実施例のシス
テムを示すフローシート、第3図、第4図、第5図、第
6図および第7図はいずれも従来のシステムを示すフロ
ーシートである。 以上 手続補正書 昭和63年 6月13日 1、事件の表示 昭和63年特許願第87695号 2、発明の名称 超純水製造装置 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 4、代理人 氏名  (6087)弁理士 岸 本 瑛 之 助5 
補正命令。B(寸             外4名昭
和 年 月 日 8、補正の内容 別   添 補正の内容 (1)明細書中の誤記を下記正誤表のとおりに訂正する
。 (2)図面中の第1図および第2図を別紙のとおりに訂
正する。 以上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1次純水系として多重効用蒸留装置を使用するとともに
    、2次純水系として別の多重効用蒸留装置を使用するこ
    とを特徴とする超純水製造装置。
JP8769588A 1988-04-08 1988-04-08 超純水製造装置 Pending JPH01258786A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8769588A JPH01258786A (ja) 1988-04-08 1988-04-08 超純水製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8769588A JPH01258786A (ja) 1988-04-08 1988-04-08 超純水製造装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01258786A true JPH01258786A (ja) 1989-10-16

Family

ID=13922060

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8769588A Pending JPH01258786A (ja) 1988-04-08 1988-04-08 超純水製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01258786A (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5211169A (en) * 1975-07-18 1977-01-27 Babcock Hitachi Kk Pure water producing apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5211169A (en) * 1975-07-18 1977-01-27 Babcock Hitachi Kk Pure water producing apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3351120A (en) Multiple effect, multi-stage flash and film evaporator
CN101327407B (zh) 一种液体蒸发浓缩设备与方法
CN102531256B (zh) 一种低温海水淡化工艺方法及装置
JP2520317B2 (ja) 超純水製造装置および方法
JP4531973B2 (ja) 原水から純粋な水を得る設備
CN101117258A (zh) 高碱性、高盐、高有机物含量的环氧树脂废水的处理方法
WO1998054096A1 (en) System for recovering and treating waste water
CN101564649A (zh) 一种压气膜蒸馏装置与方法
CN107585936A (zh) 一种高盐废水的零排放处理工艺和装置
CN111635053A (zh) 脱硫废水零排放处理系统及方法
CN203976564U (zh) 医药注射用水净化装置
CN105000741A (zh) 反渗透浓液的处理系统
CN114075007B (zh) 一种油田高温采出水资源化利用方法与系统
WO2001072638A1 (fr) Dispositif de dessalement
US3803001A (en) Combination condenser-degasser-deaerator for a desalination plant
US3901768A (en) Distillation method and apparatus
JPH01258786A (ja) 超純水製造装置
CN1791556B (zh) 水处理的方法和设备
Awerbuch et al. Disposal of concentrates from brackish water desalting plants by means of evaporation technology
JPS6193897A (ja) 超純水製造装置
JPH04176382A (ja) 海水を原水とする超純水製造装置
JP2000167535A (ja) 蒸留法純水製造装置
EP0569644B1 (en) Equipment for manufacturing ultrapure water
JPH0632812B2 (ja) 蒸留装置
CN207958074U (zh) 污水处理系统