JP2000167535A - 蒸留法純水製造装置 - Google Patents
蒸留法純水製造装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 産業廃棄物を極力発生させず、高純度の純水
を製造する蒸留法純水製造装置を提供する。 【解決手段】 純水製造装置は、給水用真空脱気器21a
と、これの下流に設けられた多重効用蒸留器22と、これ
の下流に設けられた純水用真空脱気器21bとから構成さ
れている。工業用水を供給水として給水用真空脱気器21
aに供給し、同真空脱気器21aで供給水中に含まれる炭酸
ガスを除去する。給水用真空脱気器21aでは、炭酸ガス
を極微量まで除去できるように、次のような操作条件を
とる。脱気器給水のｐＨを酸性側に調整する。脱気器入
口で供給水を断熱蒸発させる。供給水を脱気器内の充填
物層上へ均一に分散させる。非凝縮性ガスおよび脱気さ
れた気体が充填物の間から効率的に除去されるよう、充
填層の下から供給水に対して所定比率でストリッピング
スチームが流される。
を製造する蒸留法純水製造装置を提供する。 【解決手段】 純水製造装置は、給水用真空脱気器21a
と、これの下流に設けられた多重効用蒸留器22と、これ
の下流に設けられた純水用真空脱気器21bとから構成さ
れている。工業用水を供給水として給水用真空脱気器21
aに供給し、同真空脱気器21aで供給水中に含まれる炭酸
ガスを除去する。給水用真空脱気器21aでは、炭酸ガス
を極微量まで除去できるように、次のような操作条件を
とる。脱気器給水のｐＨを酸性側に調整する。脱気器入
口で供給水を断熱蒸発させる。供給水を脱気器内の充填
物層上へ均一に分散させる。非凝縮性ガスおよび脱気さ
れた気体が充填物の間から効率的に除去されるよう、充
填層の下から供給水に対して所定比率でストリッピング
スチームが流される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体工業等の
電子工業で使用される純水製造装置に関し、特に産業廃
棄物を極力発生させず、高純度の純水を製造する蒸留法
純水製造装置に関する。
電子工業で使用される純水製造装置に関し、特に産業廃
棄物を極力発生させず、高純度の純水を製造する蒸留法
純水製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体工業等の電子工業では、極
めて高度に精製された水が必要とされている。この精製
水の原水としては、通常、工業用水、上水道水、井戸水
等が用いられているが、これら原水中には懸濁物質、電
解質、微粒子、微生物、有機物、溶存酸素等が、要求さ
れる水質基準値を大きく越えた量で含まれているため、
これら不純物を除去しなければならない。
めて高度に精製された水が必要とされている。この精製
水の原水としては、通常、工業用水、上水道水、井戸水
等が用いられているが、これら原水中には懸濁物質、電
解質、微粒子、微生物、有機物、溶存酸素等が、要求さ
れる水質基準値を大きく越えた量で含まれているため、
これら不純物を除去しなければならない。
【０００３】従来、上記の如き不純物を除去して純水を
得る装置としては、図５に示すものおよび図６に示すも
のが知られている。
得る装置としては、図５に示すものおよび図６に示すも
のが知られている。
【０００４】図５に示す従来例１の装置(71)は、原水を
処理する一次純水系(72)と、一次純水系(72)で得られた
一次純水を処理して超純水を得る２次純水系(73)とより
なる。一次純水系(72)は、濾過装置(74)、逆浸透装置(7
5)、脱気装置(76)およびイオン交換装置(77)よりなり、
２次純水系(73)は、紫外線殺菌装置(78)、デミネライザ
ー(79)および限外濾過（ＵＦ）装置(80)よりなる。この
装置(71)によると、供給原水中のイオン成分は、逆浸透
装置(75)、イオン交換装置(77)、デミネライザー(79)に
より極めて微量となるまで除去され、例えば抵抗率１
８．０ＭΩ・ｃｍ以上の純水を得ることができる。しか
しながら、この装置(71)には、シリカや有機物などの非
イオン性不純物の除去性能が不十分であること、生産水
中の溶存酸素を充分下げることが困難であること、装置
(71)が常温下で操作されるためバクテリアの発生・増殖
が避けられず装置を停止して殺菌処理することが必要で
あること、多数の処理装置を組み合わせるため、装置(7
1)の構成が複雑となると共に、運転監視が面倒なものと
なることなどの問題があった。
処理する一次純水系(72)と、一次純水系(72)で得られた
一次純水を処理して超純水を得る２次純水系(73)とより
なる。一次純水系(72)は、濾過装置(74)、逆浸透装置(7
5)、脱気装置(76)およびイオン交換装置(77)よりなり、
２次純水系(73)は、紫外線殺菌装置(78)、デミネライザ
ー(79)および限外濾過（ＵＦ）装置(80)よりなる。この
装置(71)によると、供給原水中のイオン成分は、逆浸透
装置(75)、イオン交換装置(77)、デミネライザー(79)に
より極めて微量となるまで除去され、例えば抵抗率１
８．０ＭΩ・ｃｍ以上の純水を得ることができる。しか
しながら、この装置(71)には、シリカや有機物などの非
イオン性不純物の除去性能が不十分であること、生産水
中の溶存酸素を充分下げることが困難であること、装置
(71)が常温下で操作されるためバクテリアの発生・増殖
が避けられず装置を停止して殺菌処理することが必要で
あること、多数の処理装置を組み合わせるため、装置(7
1)の構成が複雑となると共に、運転監視が面倒なものと
なることなどの問題があった。
【０００５】他方、図６に示す従来例２の装置は、従来
例１の装置では十分に除去できなかったシリカや有機物
コロイドなどの非イオン性の不純物および溶存酸素を完
全に除去し、しかも、リンス効率および乾燥効率を向上
させるのに適した温度の高温純水を製造することを企図
したものである。
例１の装置では十分に除去できなかったシリカや有機物
コロイドなどの非イオン性の不純物および溶存酸素を完
全に除去し、しかも、リンス効率および乾燥効率を向上
させるのに適した温度の高温純水を製造することを企図
したものである。
【０００６】従来例２の装置は、一次純水系で得られた
一次純水を処理して高温純水を得る多重効用蒸発器(I)
を主体とし、その後流に限外濾過（ＵＦ）装置(2) を備
えたものである。一次純水系は、従来例１の装置におけ
る一次純水系と同じものである。蒸発器(I) に供給され
た一次純水は、蒸発器(I) 内の各効用段を縦貫する予熱
管(5) に導かれ、各効用段の蒸発管(7) 内で発生した水
蒸気の一部の凝縮潜熱を受けて加熱され、第１効用段内
の予熱管(5) で加熱蒸気の一部の凝縮潜熱を受けて１０
０℃程度の所定温度に加熱され、第１効用段底部の水溜
部(13)に入る。水溜部(13)に入った供給水は蒸発管(7)
内で水蒸気を発生した残りの濃縮液と混合し、混合液の
大部分は循環ポンプ(6) を介して第１効用段上部に配置
された蒸発管(7) 内を薄膜状に流下し、管外面から加熱
蒸気の大半の凝縮潜熱を受けて１００℃程度の温度で蒸
発し水蒸気を発生する。水蒸気を発生した濃縮液は水溜
部(13)に流下し、前記の如く供給水と混合し、その大半
は循環ポンプ(6) を介して上部水室(15)に送られる。残
りの混合液は連通口(14)を通って第２効用段水溜部に入
り、ここで同じく蒸発管内から流下する濃縮液と混合
し、その大部分は第２効用段の循環ポンプを介して第２
効用段上部水室に送られる。
一次純水を処理して高温純水を得る多重効用蒸発器(I)
を主体とし、その後流に限外濾過（ＵＦ）装置(2) を備
えたものである。一次純水系は、従来例１の装置におけ
る一次純水系と同じものである。蒸発器(I) に供給され
た一次純水は、蒸発器(I) 内の各効用段を縦貫する予熱
管(5) に導かれ、各効用段の蒸発管(7) 内で発生した水
蒸気の一部の凝縮潜熱を受けて加熱され、第１効用段内
の予熱管(5) で加熱蒸気の一部の凝縮潜熱を受けて１０
０℃程度の所定温度に加熱され、第１効用段底部の水溜
部(13)に入る。水溜部(13)に入った供給水は蒸発管(7)
内で水蒸気を発生した残りの濃縮液と混合し、混合液の
大部分は循環ポンプ(6) を介して第１効用段上部に配置
された蒸発管(7) 内を薄膜状に流下し、管外面から加熱
蒸気の大半の凝縮潜熱を受けて１００℃程度の温度で蒸
発し水蒸気を発生する。水蒸気を発生した濃縮液は水溜
部(13)に流下し、前記の如く供給水と混合し、その大半
は循環ポンプ(6) を介して上部水室(15)に送られる。残
りの混合液は連通口(14)を通って第２効用段水溜部に入
り、ここで同じく蒸発管内から流下する濃縮液と混合
し、その大部分は第２効用段の循環ポンプを介して第２
効用段上部水室に送られる。
【０００７】第１効用段の蒸発管で発生した水蒸気は、
ミスト分離器(16)を経て第２効用段内の蒸発管外部に入
る。水蒸気に同伴するミストは、ミスト分離器(16)によ
り除去されて極めて微量となる。この水蒸気の大部分は
蒸発管外面で凝縮し、凝縮液は第２効用段内の凝縮液収
集部（図示省略）に入り、残余の水蒸気は第２効用段予
熱管外面で凝縮し、凝縮液は凝縮液収集部で蒸発管から
の凝縮液と混合し、その全部が第３効用段内の凝縮液収
集部に入る。
ミスト分離器(16)を経て第２効用段内の蒸発管外部に入
る。水蒸気に同伴するミストは、ミスト分離器(16)によ
り除去されて極めて微量となる。この水蒸気の大部分は
蒸発管外面で凝縮し、凝縮液は第２効用段内の凝縮液収
集部（図示省略）に入り、残余の水蒸気は第２効用段予
熱管外面で凝縮し、凝縮液は凝縮液収集部で蒸発管から
の凝縮液と混合し、その全部が第３効用段内の凝縮液収
集部に入る。
【０００８】こうして各効用段において上記プロセスが
繰り返される。
繰り返される。
【０００９】最終効用段（第ｎ効用段）で蒸発して生じ
た水蒸気は、ミスト分離器を経由して、最終効用段に近
接した復水器(1) の凝縮管(12)外面で凝縮し、凝縮液は
復水器下部の水溜部(11)に入る。また、各効用段内で凝
縮した全ての凝縮液は、凝縮液収集部を通ってやはり水
溜部(11)に入る。水溜部(11)に溜まった凝縮液は、純水
ポンプ(10)で抜き出され、微粒子除去を目的とした限外
濾過装置(2) に通水される。
た水蒸気は、ミスト分離器を経由して、最終効用段に近
接した復水器(1) の凝縮管(12)外面で凝縮し、凝縮液は
復水器下部の水溜部(11)に入る。また、各効用段内で凝
縮した全ての凝縮液は、凝縮液収集部を通ってやはり水
溜部(11)に入る。水溜部(11)に溜まった凝縮液は、純水
ポンプ(10)で抜き出され、微粒子除去を目的とした限外
濾過装置(2) に通水される。
【００１０】純水ポンプ(10)で抜き出され、限外濾過膜
(2) で微粒子が除去された凝縮液は、高い抵抗率を有
し、ＴＯＣ値および溶存酸素濃度が極めて低くかつ高温
の純水である。
(2) で微粒子が除去された凝縮液は、高い抵抗率を有
し、ＴＯＣ値および溶存酸素濃度が極めて低くかつ高温
の純水である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】近年、環境問題への関
心の高まりから、特に半導体製造工場からの産業廃棄物
排出ゼロ（ゼロエミッション）化が求められている。
心の高まりから、特に半導体製造工場からの産業廃棄物
排出ゼロ（ゼロエミッション）化が求められている。
【００１２】従来の蒸留法による純水製造装置では、逆
浸透（ＲＯ）装置で前処理した市水や工業用水から抵抗
率１５ＭΩ・ｃｍ（高温の純水を２５℃に冷却して測定
した値、この明細書において、抵抗率は、すべて２５℃
での測定値とする）程度の純水を製造しているが、ＲＯ
膜は経年劣化し、それ自身が産業廃棄物になる。
浸透（ＲＯ）装置で前処理した市水や工業用水から抵抗
率１５ＭΩ・ｃｍ（高温の純水を２５℃に冷却して測定
した値、この明細書において、抵抗率は、すべて２５℃
での測定値とする）程度の純水を製造しているが、ＲＯ
膜は経年劣化し、それ自身が産業廃棄物になる。
【００１３】また、ＲＯ装置を用いない真空脱気器と多
重効用蒸留法による蒸留法純水製造では、抵抗率１〜１
０ＭΩ・ｃｍ程度の純水が得られるが、用途によっては
水質が十分でないことがある。
重効用蒸留法による蒸留法純水製造では、抵抗率１〜１
０ＭΩ・ｃｍ程度の純水が得られるが、用途によっては
水質が十分でないことがある。
【００１４】本発明は、上記のような実状に鑑み、産業
廃棄物を極力発生させず、高純度の純水を製造する蒸留
法純水製造装置を提供することを目的とするものであ
る。
廃棄物を極力発生させず、高純度の純水を製造する蒸留
法純水製造装置を提供することを目的とするものであ
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の純水製造
装置は、酸性側で稼働させる給水用真空脱気器と、これ
の下流に設けられた多重効用蒸留器と、これの下流に設
けられた純水用真空脱気器とから構成されるものであ
る。
装置は、酸性側で稼働させる給水用真空脱気器と、これ
の下流に設けられた多重効用蒸留器と、これの下流に設
けられた純水用真空脱気器とから構成されるものであ
る。
【００１６】請求項２記載の純水製造装置は、流動床式
活性炭塔と、これの下流に設けられ酸性側で稼働させる
給水用真空脱気器と、これの下流に設けられた多重効用
蒸留器と、これの下流に設けられた純水用真空脱気器と
から構成されるものである。
活性炭塔と、これの下流に設けられ酸性側で稼働させる
給水用真空脱気器と、これの下流に設けられた多重効用
蒸留器と、これの下流に設けられた純水用真空脱気器と
から構成されるものである。
【００１７】請求項３記載の純水製造装置は、アルカリ
性側で稼働させる前段真空脱気器と、これの下流に設け
られ酸性側で稼働させる後段真空脱気器と、これの下流
に設けられた多重効用蒸留器とから構成されるものであ
る。
性側で稼働させる前段真空脱気器と、これの下流に設け
られ酸性側で稼働させる後段真空脱気器と、これの下流
に設けられた多重効用蒸留器とから構成されるものであ
る。
【００１８】請求項４記載の純水製造装置は、流動床式
活性炭塔と、これの下流に設けられアルカリ性側で稼働
させる前段真空脱気器と、これの下流に設けられ酸性側
で稼働させる後段真空脱気器と、これの下流に設けられ
た多重効用蒸留器とから構成されるものである。
活性炭塔と、これの下流に設けられアルカリ性側で稼働
させる前段真空脱気器と、これの下流に設けられ酸性側
で稼働させる後段真空脱気器と、これの下流に設けられ
た多重効用蒸留器とから構成されるものである。
【００１９】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明による純水製造装
置を実施例に基いて具体的に説明する。
置を実施例に基いて具体的に説明する。
【００２０】実施例１ この実施例の純水製造装置は、図１に示すように、給水
用真空脱気器(21a)と、これの下流に設けられた多重効
用蒸留器(22)と、これの下流に設けられた純水用真空脱
気器(21b)とから構成されている。
用真空脱気器(21a)と、これの下流に設けられた多重効
用蒸留器(22)と、これの下流に設けられた純水用真空脱
気器(21b)とから構成されている。
【００２１】上記構成の純水製造装置において、工業用
水を供給水として給水用真空脱気器(21a)に供給し、同
真空脱気器(21a)で供給水中に含まれる炭酸ガスを除去
する。給水用真空脱気器(21a)では、炭酸ガスを極微量
まで除去できるように、次のような操作条件をとる。脱
気器給水のｐＨを酸性側、望ましくはｐＨ４〜６に調整
する。脱気器入口で供給水を断熱蒸発（フラッシュ蒸
発）させる。供給水を脱気器内の充填物層上へ均一に分
散させる。非凝縮性ガスおよび脱気された気体が充填物
の間から効率的に除去されるよう、充填層の下から供給
水に対して所定比率でストリッピングスチームが流され
る。このストリッピングスチームとしては、加熱用のボ
イラ蒸気あるいは多重効用蒸留器(22)で発生する蒸気の
一部が用いられる。
水を供給水として給水用真空脱気器(21a)に供給し、同
真空脱気器(21a)で供給水中に含まれる炭酸ガスを除去
する。給水用真空脱気器(21a)では、炭酸ガスを極微量
まで除去できるように、次のような操作条件をとる。脱
気器給水のｐＨを酸性側、望ましくはｐＨ４〜６に調整
する。脱気器入口で供給水を断熱蒸発（フラッシュ蒸
発）させる。供給水を脱気器内の充填物層上へ均一に分
散させる。非凝縮性ガスおよび脱気された気体が充填物
の間から効率的に除去されるよう、充填層の下から供給
水に対して所定比率でストリッピングスチームが流され
る。このストリッピングスチームとしては、加熱用のボ
イラ蒸気あるいは多重効用蒸留器(22)で発生する蒸気の
一部が用いられる。
【００２２】脱炭酸した処理水は、ついで多重効用蒸留
器(22)に供給され、凝縮水が純水となる。濃縮水はブロ
ーダウンされる。
器(22)に供給され、凝縮水が純水となる。濃縮水はブロ
ーダウンされる。
【００２３】純水製造量は、供給水の水質によって変わ
り、特に多重効用蒸留器(22)の伝熱管のスケール成分と
なるカルシウムイオン、マグネシウムイオン等の濃度に
より決定される。
り、特に多重効用蒸留器(22)の伝熱管のスケール成分と
なるカルシウムイオン、マグネシウムイオン等の濃度に
より決定される。
【００２４】一般に、濃縮比は、 濃縮比＝（供給水）／（供給水−純水）＝（供給水）／
（濃縮水） で表され、導電率２５０μＳ／ｃｍの給水であれば、濃
縮比は４である。
（濃縮水） で表され、導電率２５０μＳ／ｃｍの給水であれば、濃
縮比は４である。
【００２５】多重効用蒸留器(22)で製造された純水は、
残留する炭酸ガスを除去し水質を向上させるために、純
水用真空脱気器(21b)に供給される。純水用真空脱気器
(21b)では、次のような操作条件とる。脱気器入口で供
給水を断熱蒸発（フラッシュ蒸発）させる。供給水を脱
気器内の充填物層上へ均一に分散させる。非濃縮性ガス
および脱気された気体が充填物の間から効率的に除去さ
れるよう、充填物層の下から供給純水に対して所定比率
でストリッピングスチームが流される。このストリッピ
ングスチームとしては、純水の純度を低下させないよう
に多重効用蒸留器(22)で発生する蒸気の一部あるいは純
水用真空脱気器(21b)に供給される純水の一部を熱交換
器で加熱したものが用いられる。
残留する炭酸ガスを除去し水質を向上させるために、純
水用真空脱気器(21b)に供給される。純水用真空脱気器
(21b)では、次のような操作条件とる。脱気器入口で供
給水を断熱蒸発（フラッシュ蒸発）させる。供給水を脱
気器内の充填物層上へ均一に分散させる。非濃縮性ガス
および脱気された気体が充填物の間から効率的に除去さ
れるよう、充填物層の下から供給純水に対して所定比率
でストリッピングスチームが流される。このストリッピ
ングスチームとしては、純水の純度を低下させないよう
に多重効用蒸留器(22)で発生する蒸気の一部あるいは純
水用真空脱気器(21b)に供給される純水の一部を熱交換
器で加熱したものが用いられる。
【００２６】このようにして抵抗率１５ＭΩ・ｃｍ以上
の純水が得られる。
の純水が得られる。
【００２７】実施例２ この実施例の純水製造装置は、図２に示すように、流動
床式活性炭塔(23)と、これの下流に設けられた給水用真
空脱気器(21a)と、これの下流に設けられた多重効用蒸
留器(22)と、これの下流に設けられた純水用真空脱気器
(21b)とから構成されている。
床式活性炭塔(23)と、これの下流に設けられた給水用真
空脱気器(21a)と、これの下流に設けられた多重効用蒸
留器(22)と、これの下流に設けられた純水用真空脱気器
(21b)とから構成されている。
【００２８】上記構成の純水製造装置において、工業用
水、市水、またはこれらに回収希薄排水が混合した水を
供給水として流動床式活性炭塔(23)に供給し、同活性炭
塔(23)で、供給水中に含まれるＴＯＣ成分および残留塩
素を除去する。また、希薄排水中にアンモニアが含まれ
ている場合、アンモニアが硝化される。
水、市水、またはこれらに回収希薄排水が混合した水を
供給水として流動床式活性炭塔(23)に供給し、同活性炭
塔(23)で、供給水中に含まれるＴＯＣ成分および残留塩
素を除去する。また、希薄排水中にアンモニアが含まれ
ている場合、アンモニアが硝化される。
【００２９】流動床式活性炭塔(23)は、円筒あるいは多
角形状の容器の中に、ある粒径範囲の活性炭が充填され
たものである。この容器に、充填された活性炭がある展
開率になるような流量を供給してやることによって、活
性炭が流動化して、ＴＯＣ成分、残留塩素、アンモニア
を吸着するとともに、活性炭に付着生息している微生物
によりそれらが分解あるいは硝化される。
角形状の容器の中に、ある粒径範囲の活性炭が充填され
たものである。この容器に、充填された活性炭がある展
開率になるような流量を供給してやることによって、活
性炭が流動化して、ＴＯＣ成分、残留塩素、アンモニア
を吸着するとともに、活性炭に付着生息している微生物
によりそれらが分解あるいは硝化される。
【００３０】ＴＯＣ成分、残留塩素およびアンモニアが
処理された水は、ついで給水用真空脱気器に供給され
る。
処理された水は、ついで給水用真空脱気器に供給され
る。
【００３１】これ以降の工程は、実施例１の工程と同じ
である。
である。
【００３２】純水製造能力１ｍ3 ／ｈの純水製造装置で
得られた純水について、各機器での水質の測定値を次に
示す。
得られた純水について、各機器での水質の測定値を次に
示す。
【００３３】市水を供給水とした場合 供給水 ：導電率２４０μＳ／ｃｍ 多重効用蒸留器出口：５〜１３ＭΩ・ｃｍ 純水用真空脱気器出口 ：１５〜１６ＭΩ・ｃｍ アンモニアを含む模擬排水を回収した場合 供給水 ：導電率２００μＳ／ｃｍ アンモ
ニア０．１ｐｐｍ 流動床式活性炭塔出口：アンモニア０．０ｐｐｍ 多重効用蒸留器出口：７〜１０ＭΩ・ｃｍ 純水用真空脱気器出口 ：１５〜１６ＭΩ・ｃｍ
ニア０．１ｐｐｍ 流動床式活性炭塔出口：アンモニア０．０ｐｐｍ 多重効用蒸留器出口：７〜１０ＭΩ・ｃｍ 純水用真空脱気器出口 ：１５〜１６ＭΩ・ｃｍ
【００３４】実施例３ この実施例の純水製造装置は、図３に示すように、前段
真空脱気器(21c)と、これの下流に設けられた後段真空
脱気器(21d)と、これの下流に設けられた多重効用蒸留
器(22)とから構成されている。
真空脱気器(21c)と、これの下流に設けられた後段真空
脱気器(21d)と、これの下流に設けられた多重効用蒸留
器(22)とから構成されている。
【００３５】上記構成の純水製造装置において、アンモ
ニアを含む供給水から純水を製造する例を示す。
ニアを含む供給水から純水を製造する例を示す。
【００３６】アンモニアを含む工業用水を供給水として
前段真空脱気器(21c)に供給し、同真空脱気器(21c)でア
ンモニアを除去する。前段真空脱気器(21c)では、アン
モニアを除去するため、次のような操作条件をとる。脱
気器給水のｐＨを水酸化ナトリウムでアルカリ側に調整
する。脱気器入口で供給水を断熱蒸発（フラッシュ蒸
発）させる。供給水を脱気器内の充填物層上へ均一に分
散させる。非凝縮性ガスおよび脱気された気体が充填物
の間から効率的に除去されるよう、充填物層の下から供
給水に対して所定比率でストリッピングスチームが流さ
れる。
前段真空脱気器(21c)に供給し、同真空脱気器(21c)でア
ンモニアを除去する。前段真空脱気器(21c)では、アン
モニアを除去するため、次のような操作条件をとる。脱
気器給水のｐＨを水酸化ナトリウムでアルカリ側に調整
する。脱気器入口で供給水を断熱蒸発（フラッシュ蒸
発）させる。供給水を脱気器内の充填物層上へ均一に分
散させる。非凝縮性ガスおよび脱気された気体が充填物
の間から効率的に除去されるよう、充填物層の下から供
給水に対して所定比率でストリッピングスチームが流さ
れる。
【００３７】このストリッピングスチームとしては、加
熱用のボイラ蒸気あるいは多重効用蒸留器(22)で発生す
る蒸気の一部が用いられる。
熱用のボイラ蒸気あるいは多重効用蒸留器(22)で発生す
る蒸気の一部が用いられる。
【００３８】アンモニアが除去された供給水は、ついで
後段真空脱気器(21d)に供給され、同真空脱気器(21d)で
炭酸ガスが除去される。後段真空脱気器(21d)では、炭
酸ガスを極微量まで除去するため、次のような操作条件
とる。脱気器(21d)給水のｐＨを酸性側、望ましくはｐ
Ｈ４〜６に調整する。脱気器入口で供給水を断熱蒸発
（フラッシュ蒸発）させる。脱気器内の充填物層上へ供
給水を均一に分散させる。非凝縮性ガスおよび脱気され
た気体が充填物の間から効率的に除去されるよう、充填
物層の下から供給水に対して所定比率でストリッピング
スチームが流される。このストリッピングスチームとし
ては、加熱用のボイラ蒸気あるいは多重効用蒸留器(22)
で発生する蒸気の一部が用いられる。
後段真空脱気器(21d)に供給され、同真空脱気器(21d)で
炭酸ガスが除去される。後段真空脱気器(21d)では、炭
酸ガスを極微量まで除去するため、次のような操作条件
とる。脱気器(21d)給水のｐＨを酸性側、望ましくはｐ
Ｈ４〜６に調整する。脱気器入口で供給水を断熱蒸発
（フラッシュ蒸発）させる。脱気器内の充填物層上へ供
給水を均一に分散させる。非凝縮性ガスおよび脱気され
た気体が充填物の間から効率的に除去されるよう、充填
物層の下から供給水に対して所定比率でストリッピング
スチームが流される。このストリッピングスチームとし
ては、加熱用のボイラ蒸気あるいは多重効用蒸留器(22)
で発生する蒸気の一部が用いられる。
【００３９】脱炭酸した処理水は、ついで多重効用蒸留
器(22)に供給され、凝縮水が純水となる。濃縮水はブロ
ーダウンされる。
器(22)に供給され、凝縮水が純水となる。濃縮水はブロ
ーダウンされる。
【００４０】実施例４ この実施例の純水製造装置は、図４に示すように、流動
床式活性炭塔(23)と、これの下流に設けられた前段真空
脱気器(21c)と、これの下流に設けられた後段真空脱気
器(21d)と、これの下流に設けられた多重効用蒸留器(2
2)とから構成されている。
床式活性炭塔(23)と、これの下流に設けられた前段真空
脱気器(21c)と、これの下流に設けられた後段真空脱気
器(21d)と、これの下流に設けられた多重効用蒸留器(2
2)とから構成されている。
【００４１】上記構成の純水製造装置において、アンモ
ニアとＴＯＣ成分をかなり含む供給水から純水を製造す
る例を示す。
ニアとＴＯＣ成分をかなり含む供給水から純水を製造す
る例を示す。
【００４２】アンモニアとＴＯＣ成分を含む工業用水を
供給水として流動床式活性炭塔(23)に供給し、同活性炭
塔(23)でＴＯＣ成分および残留塩素を除去する。また、
アンモニアの一部が硝化される。
供給水として流動床式活性炭塔(23)に供給し、同活性炭
塔(23)でＴＯＣ成分および残留塩素を除去する。また、
アンモニアの一部が硝化される。
【００４３】流動床式活性炭塔(23)で処理された水は、
ついで前段真空脱気器(21c)に供給される。
ついで前段真空脱気器(21c)に供給される。
【００４４】これ以降の工程は実施例３の工程と同じで
ある。
ある。
【００４５】
【発明の効果】本発明による純水製造装置は下記のよう
な効果を奏する： ・この純水製造装置は構成機器としてＲＯのような経年
劣化を来たすものを具備しないので、産業廃棄物として
処理するものがなく、ゼロエミッションの要望に合致す
る。
な効果を奏する： ・この純水製造装置は構成機器としてＲＯのような経年
劣化を来たすものを具備しないので、産業廃棄物として
処理するものがなく、ゼロエミッションの要望に合致す
る。
【００４６】・ＲＯ装置を組み込んだシステムより、イ
ニシャルコストが安くできる。
ニシャルコストが安くできる。
【００４７】・ＲＯを使用する場合に比べ、電気代が安
くなる（ＲＯ装置では、１０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ以上の操作
圧のポンプが必要であるが。このシステムでは３ｋｇ／
ｃｍ2 Ｇ程度のポンプで良い）。
くなる（ＲＯ装置では、１０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ以上の操作
圧のポンプが必要であるが。このシステムでは３ｋｇ／
ｃｍ2 Ｇ程度のポンプで良い）。
【００４８】・ＲＯでは、性能を維持するため定期的な
膜洗浄が必要であったが、本システムではそのような必
要がなく、洗浄のための薬品や手間も必要でない。
膜洗浄が必要であったが、本システムではそのような必
要がなく、洗浄のための薬品や手間も必要でない。
【図１】実施例１の純水製造装置を示すフローシートで
ある。
ある。
【図２】実施例２の純水製造装置を示すフローシートで
ある。
ある。
【図３】実施例３の純水製造装置を示すフローシートで
ある。
ある。
【図４】実施例４の純水製造装置を示すフローシートで
ある。
ある。
【図５】従来の純水製造装置を示すフローシートであ
る。
る。
【図６】従来の純水製造装置を示すフローシートであ
る。
る。
２１ａ：給水用真空脱気器 ２１ｂ：純水用真空脱気器 ２１ｃ：前段真空脱気器 ２１ｄ：後段真空脱気器 ２２：多重効用蒸留器 ２３：流動床式活性炭塔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０２Ｆ 9/00 ５０２ Ｃ０２Ｆ 9/00 ５０２Ｈ ５０２Ｚ ５０３ ５０３Ｂ (72)発明者 百瀬 祥一 大阪市住之江区南港北１丁目７番89号 日 立造船株式会社内 (72)発明者 吉田 和男 大阪市住之江区南港北１丁目７番89号 日 立造船株式会社内 Ｆターム(参考） 4D024 AA01 AA02 AA03 AB04 AB11 AB13 BA02 BC05 CA01 DB06 DB15 DB20 4D034 BA03 CA14 DA02 4D037 AA03 AB11 BA23 BB05 BB07 CA01 CA07 CA14
Claims (4)
- 【請求項１】 酸性側で稼働させる給水用真空脱気器
と、これの下流に設けられた多重効用蒸留器と、これの
下流に設けられた純水用真空脱気器とから構成される純
水製造装置。 - 【請求項２】 流動床式活性炭塔と、これの下流に設け
られ酸性側で稼働させる給水用真空脱気器と、これの下
流に設けられた多重効用蒸留器と、これの下流に設けら
れた純水真空脱気器とから構成される純水製造装置。 - 【請求項３】 アルカリ性側で稼働させる前段真空脱気
器と、これの下流に設けられ酸性側で稼働させる後段真
空脱気器と、これの下流に設けられた多重効用蒸留器と
から構成される純水製造装置。 - 【請求項４】 流動床式活性炭塔と、これの下流に設け
られアルカリ性側で稼働させる前段真空脱気器と、これ
の下流に設けられ酸性側で稼働させる後段真空脱気器
と、これの下流に設けられた多重効用蒸留器とから構成
される純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35091098A JP3482594B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | 蒸留法純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35091098A JP3482594B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | 蒸留法純水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000167535A true JP2000167535A (ja) | 2000-06-20 |
| JP3482594B2 JP3482594B2 (ja) | 2003-12-22 |
Family
ID=18413739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35091098A Expired - Fee Related JP3482594B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | 蒸留法純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3482594B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012513358A (ja) * | 2008-12-22 | 2012-06-14 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 合成ガス製造ユニットに関連する脱気器からの脱気ガス混合物の利用方法およびその実施のためのプラント |
| KR20130080421A (ko) | 2010-04-30 | 2013-07-12 | 하루오 우에하라 | 순수 액체 제조 장치 |
| CN114031235A (zh) * | 2021-11-26 | 2022-02-11 | 江苏理文化工有限公司 | 一种含氮废水的回收方法 |
-
1998
- 1998-12-10 JP JP35091098A patent/JP3482594B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR20130080421A (ko) | 2010-04-30 | 2013-07-12 | 하루오 우에하라 | 순수 액체 제조 장치 |
| US8617358B2 (en) | 2010-04-30 | 2013-12-31 | Haruo Uehara | Pure liquid manufacturing apparatus |
| CN114031235A (zh) * | 2021-11-26 | 2022-02-11 | 江苏理文化工有限公司 | 一种含氮废水的回收方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3482594B2 (ja) | 2003-12-22 |
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