JPH01255016A - ガス密度安定器 - Google Patents
ガス密度安定器Info
- Publication number
- JPH01255016A JPH01255016A JP8183688A JP8183688A JPH01255016A JP H01255016 A JPH01255016 A JP H01255016A JP 8183688 A JP8183688 A JP 8183688A JP 8183688 A JP8183688 A JP 8183688A JP H01255016 A JPH01255016 A JP H01255016A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- pressure
- temperature
- opening
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 title claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 7
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 claims description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 claims description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は、ガスフロー型比例計数管を流れる計数管ガス
のガス密度を安定化するために使用されるガス密度安定
器に関する。
のガス密度を安定化するために使用されるガス密度安定
器に関する。
(ロ)従来の技術
一般に、蛍光X線分析装置等においては、X線検出器と
して特に軽元素分析に適したガスフロー型比例計数管が
使用されることがある。このガスフロー型比例計数管は
、常時、Arガス等の計数管ガスを流して使用する必要
がある。このため、従来は、第2図に示すように、ガス
フロー型比例計数管aの上流側にガスボンベb、減圧弁
C、ニードル弁dをそれぞれ配置する一方、ガスフロー
型比例計数管aの下流側にガス圧安定化用のタンクeを
配置する。そして、ガスボンベbのガス圧を減圧弁Cで
所定の圧力まで減圧した後、ニードル弁dで流量調節を
行ってガスフロー型比例計数管a内に導入し、該比例計
数管aを通過した計数管ガスをタンクeを介して外部に
排出するようにしている。 。
して特に軽元素分析に適したガスフロー型比例計数管が
使用されることがある。このガスフロー型比例計数管は
、常時、Arガス等の計数管ガスを流して使用する必要
がある。このため、従来は、第2図に示すように、ガス
フロー型比例計数管aの上流側にガスボンベb、減圧弁
C、ニードル弁dをそれぞれ配置する一方、ガスフロー
型比例計数管aの下流側にガス圧安定化用のタンクeを
配置する。そして、ガスボンベbのガス圧を減圧弁Cで
所定の圧力まで減圧した後、ニードル弁dで流量調節を
行ってガスフロー型比例計数管a内に導入し、該比例計
数管aを通過した計数管ガスをタンクeを介して外部に
排出するようにしている。 。
(ハ)発明が解決しようとする課題
ところで、ガスフロー型比例計数管を使用する場合には
、分析に先立って予め操作者がニードル弁の開度を手操
作して一定のガス流量となるように設定しているが、該
計数管を使用している途中では、操作者が知らない内に
自然に外気の温度や圧力が経時変化することがある。た
とえば、低気圧の通過や、朝から昼にかけて外気温度が
急に上昇する場合がある。このような場合、第2図に示
す従来構成においては、タンク中のガス圧が外気の温度
や圧力の変化に伴って変動し、その結果、ガスフロー型
比例計数管を流れる計数管ガスの密度が変わる。計数管
ガスの密度が変わると、電離状態も変化するため、第3
図に示すように、X線波高分布がエネルギ軸に沿ってた
とえば実線位置から破線位置に移行し、このため、測定
されるX線強度も変動して安定した分析結果が得られな
くなる等の不具合を生じていた。
、分析に先立って予め操作者がニードル弁の開度を手操
作して一定のガス流量となるように設定しているが、該
計数管を使用している途中では、操作者が知らない内に
自然に外気の温度や圧力が経時変化することがある。た
とえば、低気圧の通過や、朝から昼にかけて外気温度が
急に上昇する場合がある。このような場合、第2図に示
す従来構成においては、タンク中のガス圧が外気の温度
や圧力の変化に伴って変動し、その結果、ガスフロー型
比例計数管を流れる計数管ガスの密度が変わる。計数管
ガスの密度が変わると、電離状態も変化するため、第3
図に示すように、X線波高分布がエネルギ軸に沿ってた
とえば実線位置から破線位置に移行し、このため、測定
されるX線強度も変動して安定した分析結果が得られな
くなる等の不具合を生じていた。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、外気の温度や圧力が変化した場合でも、ガスフロー
型比例計数を流れる計数管ガスのガス密度の変動が抑え
られるようにして、常に安定した分析結果が得られるよ
うにすることを目的とする。
て、外気の温度や圧力が変化した場合でも、ガスフロー
型比例計数を流れる計数管ガスのガス密度の変動が抑え
られるようにして、常に安定した分析結果が得られるよ
うにすることを目的とする。
(ニ)課題を解決するための手段
本発明は、上記の目的を達成するために、次の構成を採
る。
る。
すなわち、本発明のガス密度安定器は、ガスボンベ、減
圧弁、ガスフロー型比例計数管、ガス圧安定化用のタン
クを順次パイプで連結してなるガ ・ス流路の、前記ガ
スフロー型比例計数管よりも下流側に、温度センサと圧
力センサをそれぞれ設けるとともに、ガス流路開閉用の
リーク弁と流量調節用のニードル弁とを順次配置する一
方、前記温度センサと圧力センサの両検出出力に基づい
て前記リーク弁の開閉率を制御する制御器を備えること
を特徴としている。
圧弁、ガスフロー型比例計数管、ガス圧安定化用のタン
クを順次パイプで連結してなるガ ・ス流路の、前記ガ
スフロー型比例計数管よりも下流側に、温度センサと圧
力センサをそれぞれ設けるとともに、ガス流路開閉用の
リーク弁と流量調節用のニードル弁とを順次配置する一
方、前記温度センサと圧力センサの両検出出力に基づい
て前記リーク弁の開閉率を制御する制御器を備えること
を特徴としている。
(ホ)作用
上記構成において、そして、外気の温度や圧力が経時変
化した場合には、その変化が温度センサと圧力センサと
によってそれぞれ検出される。そして、各センサの検出
出力が制御器に与えられるので、制御器は、その両検出
出力に基づいてリーク弁の開閉率をたとえばPID制御
する。しかも、この場合、外部排気される計数管ガスの
流量がPID制御可能範囲になるようにニードル弁によ
っ一3= て調節される。このため、X線波高分布が外気温度や圧
力の変化に伴って移行することがなくなり、安定した分
析結果が得られるようになる。
化した場合には、その変化が温度センサと圧力センサと
によってそれぞれ検出される。そして、各センサの検出
出力が制御器に与えられるので、制御器は、その両検出
出力に基づいてリーク弁の開閉率をたとえばPID制御
する。しかも、この場合、外部排気される計数管ガスの
流量がPID制御可能範囲になるようにニードル弁によ
っ一3= て調節される。このため、X線波高分布が外気温度や圧
力の変化に伴って移行することがなくなり、安定した分
析結果が得られるようになる。
(へ)実施例
第1図は本発明の実施例を示すガス密度安定器を含むガ
ス流量系の構成図である。同図において、■はガス密度
安定器、2はガスボンベ、4は減圧弁、6は上流側リー
ク弁である。この上流側リーク弁2は、試料交換時等に
おいて後述するガスフロー型比例計数管10の窓が破損
しないように外気を該計数管IO内に導入できるように
三方弁となっている。8は上流側ニードル弁、10はガ
スフロー型比例計数管、I2はガス圧安定化用のタンク
、14はガス流路開閉用の下流側リーク弁、16は流M
調節用の下流側ニードル弁であり、これらは順次パイプ
で連結してガス流路I8が形成されている。また、この
ガス流路18の下流側のタンク12に温度センサ20と
圧力センサ22がそれぞれ取り付けられている。24は
上記の温度センサ20と圧力センサ22の両検出出力に
基づいて下流側リーク弁14の開閉率をPID制御する
制御器である。そして、上述した上流側ニードル弁8、
タンク12、下流側リーク弁14、下流側ニードル弁1
6、温度センサ20、圧力センサ22および制御部によ
ってガス密度安定器1が構成される。
ス流量系の構成図である。同図において、■はガス密度
安定器、2はガスボンベ、4は減圧弁、6は上流側リー
ク弁である。この上流側リーク弁2は、試料交換時等に
おいて後述するガスフロー型比例計数管10の窓が破損
しないように外気を該計数管IO内に導入できるように
三方弁となっている。8は上流側ニードル弁、10はガ
スフロー型比例計数管、I2はガス圧安定化用のタンク
、14はガス流路開閉用の下流側リーク弁、16は流M
調節用の下流側ニードル弁であり、これらは順次パイプ
で連結してガス流路I8が形成されている。また、この
ガス流路18の下流側のタンク12に温度センサ20と
圧力センサ22がそれぞれ取り付けられている。24は
上記の温度センサ20と圧力センサ22の両検出出力に
基づいて下流側リーク弁14の開閉率をPID制御する
制御器である。そして、上述した上流側ニードル弁8、
タンク12、下流側リーク弁14、下流側ニードル弁1
6、温度センサ20、圧力センサ22および制御部によ
ってガス密度安定器1が構成される。
上記構成におけるガス密度安定化の制御動作について説
明する。
明する。
予め、外部排気される計数管ガスの流量がPID制御可
能範囲になるように、上流側と下流側の各ニードル弁8
.16が手動設定される。
能範囲になるように、上流側と下流側の各ニードル弁8
.16が手動設定される。
この状態で、ガス流路18に沿って計数管ガスが流され
る。外気の温度や圧力が経時変化した場合には、その変
化が温度センサ20と圧力センサ22とによってそれぞ
れ検出される。そして、両センサ20.22の検出出力
が制御器24に与えられるので、制御器24はこれらの
検出出力に基づいてガス密度ρが一定に保たれるように
下流側ニードル弁14の開閉率をPID制御する。すな
わち、いま、気体の圧力をP1温度をT1体積を■とす
ると、気体の状態方程式は次の関係となる。
る。外気の温度や圧力が経時変化した場合には、その変
化が温度センサ20と圧力センサ22とによってそれぞ
れ検出される。そして、両センサ20.22の検出出力
が制御器24に与えられるので、制御器24はこれらの
検出出力に基づいてガス密度ρが一定に保たれるように
下流側ニードル弁14の開閉率をPID制御する。すな
わち、いま、気体の圧力をP1温度をT1体積を■とす
ると、気体の状態方程式は次の関係となる。
PV=n RT
(但し、nはモル数、Rは気体定数)
ここで、ガス密度をρとすると、n/V−ρであるから
、 ρ−P/RTにP/T となり、したがって、ガス密度ρを一定とするために、
制御器24は圧力Pと温度Tが比例するように制御され
る。たとえば、圧力Pが大きくなるか、あるいは温度′
I゛が低くなれば、ニードル弁14の開閉率が大きくな
るように設定され、また、圧力Pが小さくなるか、ある
いは温度Tが高くなれば開閉率が小さくなるように制御
される。しかも、その制御は、連応性が高くかつオフセ
ットを生じないPID制御が採用される。このため、X
線波高分布が外気温度や圧力の変化に伴って移行するこ
とがなくなり、安定した分析結果が得られるようになる
。
、 ρ−P/RTにP/T となり、したがって、ガス密度ρを一定とするために、
制御器24は圧力Pと温度Tが比例するように制御され
る。たとえば、圧力Pが大きくなるか、あるいは温度′
I゛が低くなれば、ニードル弁14の開閉率が大きくな
るように設定され、また、圧力Pが小さくなるか、ある
いは温度Tが高くなれば開閉率が小さくなるように制御
される。しかも、その制御は、連応性が高くかつオフセ
ットを生じないPID制御が採用される。このため、X
線波高分布が外気温度や圧力の変化に伴って移行するこ
とがなくなり、安定した分析結果が得られるようになる
。
(ト)効果
本発明によれば、外気の温度や圧力が変化した場合でも
、ガスフロー型比例計数を流れる計数管ガスのガス密度
の変動が抑えられるため、X線波高分布が外気温度や圧
力の変化に伴って移行することがなくなり、安定した分
析結果が得られるようになる。
、ガスフロー型比例計数を流れる計数管ガスのガス密度
の変動が抑えられるため、X線波高分布が外気温度や圧
力の変化に伴って移行することがなくなり、安定した分
析結果が得られるようになる。
第1図は本発明の実施例を示すガス密度安定器を含むガ
ス流量系の構成図、第2図は従来のガス流量系の構成図
、第3図はX線波高分布の特性図である。 ■・・ガス密度安定器、2・・・ガスボンベ、4・・・
減圧弁、10・・・ガスフロー型比例計数管、12・・
タンク、14・・下流側リーク弁、I6・・・下流側ニ
ードル弁、+S・・ガス流路、20・・温度センサ、2
2・・・圧力センサ、24・・・制御器。
ス流量系の構成図、第2図は従来のガス流量系の構成図
、第3図はX線波高分布の特性図である。 ■・・ガス密度安定器、2・・・ガスボンベ、4・・・
減圧弁、10・・・ガスフロー型比例計数管、12・・
タンク、14・・下流側リーク弁、I6・・・下流側ニ
ードル弁、+S・・ガス流路、20・・温度センサ、2
2・・・圧力センサ、24・・・制御器。
Claims (1)
- (1)ガスボンベ、減圧弁、ガスフロー型比例計数管、
ガス圧安定化用のタンクを順次パイプで連結してなるガ
ス流路の、前記ガスフロー型比例計数管よりも下流側に
、温度センサと圧力センサをそれぞれ設けるとともに、
ガス流路開閉用のリーク弁と流量調節用のニードル弁と
を順次配置する一方、前記温度センサと圧力センサの両
検出出力に基づいて前記リーク弁の開閉率を制御する制
御器を備えることを特徴とするガス密度安定器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8183688A JPH01255016A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | ガス密度安定器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8183688A JPH01255016A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | ガス密度安定器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01255016A true JPH01255016A (ja) | 1989-10-11 |
Family
ID=13757558
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8183688A Pending JPH01255016A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | ガス密度安定器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01255016A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102681003A (zh) * | 2012-03-09 | 2012-09-19 | 深圳市华唯计量技术开发有限公司 | 一种光谱仪的电子控制的流气体密度稳定装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5641660A (en) * | 1979-09-14 | 1981-04-18 | Hitachi Ltd | Electron beam device |
JPS6247846B2 (ja) * | 1983-08-29 | 1987-10-09 | Idemitsu Petrochemical Co | |
JPS6324461U (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-18 | ||
JPS6312152B2 (ja) * | 1983-02-22 | 1988-03-17 | Metallurgie Hoboken |
-
1988
- 1988-04-01 JP JP8183688A patent/JPH01255016A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5641660A (en) * | 1979-09-14 | 1981-04-18 | Hitachi Ltd | Electron beam device |
JPS6312152B2 (ja) * | 1983-02-22 | 1988-03-17 | Metallurgie Hoboken | |
JPS6247846B2 (ja) * | 1983-08-29 | 1987-10-09 | Idemitsu Petrochemical Co | |
JPS6324461U (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-18 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102681003A (zh) * | 2012-03-09 | 2012-09-19 | 深圳市华唯计量技术开发有限公司 | 一种光谱仪的电子控制的流气体密度稳定装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100740914B1 (ko) | 차압식 유량계 및 차압식 유량 제어 장치 | |
US7201071B2 (en) | Wide range continuous diluter | |
US11094563B2 (en) | Fluid control system | |
KR20160132404A (ko) | 질량 유량 컨트롤러를 통해 유동을 모니터링하는 시스템 및 방법 | |
US4341108A (en) | Mass flow-dependent gas analyzer with through-flow control during low pressure operation | |
CN105283653B (zh) | 燃气发动机 | |
JPH01255016A (ja) | ガス密度安定器 | |
US3653399A (en) | Gas flow controlling system | |
JPH10202242A (ja) | 超純水の比抵抗調整方法 | |
CN110208207A (zh) | 一种碳硫含量检测方法及检测系统 | |
JP2934883B2 (ja) | 気化方式によるガス発生装置 | |
JP2008139254A (ja) | 流量計測装置および流量制御装置 | |
JPS6082668A (ja) | ガス流量制御装置 | |
JP2818215B2 (ja) | 熱分析装置のガス供給装置 | |
JP2744935B2 (ja) | 処理装置 | |
JPH06174381A (ja) | 炉の雰囲気制御装置 | |
JPH0530168Y2 (ja) | ||
JP3311762B2 (ja) | マスフローコントローラと半導体装置の製造装置 | |
SU1244096A1 (ru) | Устройство дл исследовани кинетики паропроницаемости пленочных материалов | |
JPH03115972A (ja) | スプリッタを有するガスクロマトグラフ | |
JPS63174110A (ja) | 制御弁の流量制御装置 | |
SU499461A1 (ru) | Система подачи газообразного компонента топлива | |
JP2640510B2 (ja) | 酸素センサの安定化処理方法及び処理雰囲気制御システム | |
JPS58190618A (ja) | 燃焼装置 | |
JP4231350B2 (ja) | 光学式ガス分析装置 |