JPH01231119A - 座標検出装置 - Google Patents

座標検出装置

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JPH01231119A
JPH01231119A JP63056313A JP5631388A JPH01231119A JP H01231119 A JPH01231119 A JP H01231119A JP 63056313 A JP63056313 A JP 63056313A JP 5631388 A JP5631388 A JP 5631388A JP H01231119 A JPH01231119 A JP H01231119A
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徹 浅野
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Minoru Ohashi
実 大橋
Masatsugu Kimura
賢嗣 木村
Takayo Itou
伊藤 孝代
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 基板上に形成された抵抗膜の接触位置を検出する座標検
出装置に関し、 低価格で信頼性の高い座標検出装置を提供することを目
的とし、 基板上に形成された抵抗膜と、該抵抗膜の四隅にそれぞ
れ設けられた4つの電極と、該4つの電極に接続され、
前記抵抗膜の接触位置を検出する接触位置検出手段とを
具備するように構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は座標検出装置に関し、特に、基板上に形成され
た抵抗膜の接触位置を検出する座標検出装置に関する。
〔従来の技術〕
近年、オフィスオートメーション等の発達に伴って、例
えば、コンピュータ等に文字や所定の命令を入力するこ
とが盛んに行われている。このような文字の入力等には
、一般にキーボードが使用されているが、例えば、デイ
スプレィ上に配置して該デイスプレィに表示される画像
に対応する位置を指または指示棒で接触することにより
文字の入力等を行うことのできる座標検出装置が注目さ
れている。
第5図は従来の座標検出装置の一例を示す図である。同
図に示されるように、従来の座標検出装置は、ガラスま
たはアクリル等の透明材質より成る基板101.該基板
101上に形成されたI T O(In203:Sn)
等の透明な抵抗膜102.該抵抗膜102の周囲に離散
的に設けられた複数の電極121〜124.該複数の電
極121〜124にそれぞれ接続された複数のスイッチ
ング回路131〜134.および、該スイッチング回路
131〜134を介して接続された電極121〜124
から抵抗膜102の接触位置p (XO,yo)を検出
する接触位置検出回路103を備えている。
この従来の座標検出装置において、抵抗膜102の接触
位置p (XO,yo)を検出するには、まず、スイッ
チング回路131および134をオフ状態とし、且つ、
スイッチング回路132および133をオン状態として
抵抗膜102の左辺側電極122と右辺側電極123と
の間に電流を平行となるように流して接触位置pのX座
45 X Oを検出する。次いで、スイッチング回路1
31および134をオン状態とし、且つ、スイッチング
回路132および133をオフ状態として抵抗膜102
の上辺側電極121と下辺側電極124との間に電流を
平行となるように流して接触位置pのy座my。を検出
する。ここで、左辺側電極122゜右辺側電極123.
上辺側電極121および下辺側電極124は、それぞれ
直線状の電極と見做すことができる程度の間隔および数
の離散された電極パターンで構成されている。また、抵
抗膜102の接触位置pにおけるキャパシタは、例えば
、抵抗膜102を指で接触する各個人によって異なるた
め、左辺側電極122と右辺側電極123との間および
上辺側電極121と下辺側電極124との間に流す電流
の方向を反転して接触位置pの座標(xo、 yo)を
検出するようになされている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述したように、従来の座標検出装置は、抵抗膜102
の周囲に離散された複数の電極121〜124゜および
、これら電極121〜124に接続された複数のスイッ
チング回路131−134を必要としている。
具体的に、抵抗膜102をA4サイズとした場合には、
例えば、抵抗膜102の周囲に約5φの離散した電極1
21−124を総数約50個程形成することになる。従
って、スイッチング回路131〜134は総数約50個
のスイッチング素子を必要とすることになる。
このように、従来の座標検出装置(座標検出パネル)は
、離散された複数の電極121〜124およびそれら電
極121〜124の数に対応したスイッチング素子を必
要としている。また、これらの電極121〜124およ
びスイッチング素子等に不良が生じると、左辺側電極1
22と右辺側電極123との間および上辺側電極121
 と下辺側電極124との間に電流を平行となるように
流すことができず、抵抗膜102の接触位置pの座標(
Xo、Vo)を正確に検出することが困難となる。その
ため、従来の座標検出装置は、製造コストが高いだけで
なく、信頼性の面でも十分とはいえないものであった。
本発明は、上述した従来の座標検出装置が有する課題に
鑑み、座標検出パネルの構成を簡略化して低価格で信頼
性の高い座標検出装置を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
第1図は本発明に係る座標検出装置の原理を示す図であ
る。
本発明によれば、基板1上に形成された抵抗膜2と、該
抵抗膜2の四隅にそれぞれ設けられた4つの電極21.
22.23.24と、該4つの電極21.22.23゜
24に接続され、前記抵抗膜2の接触位置を検出する接
触位置検出手段3とを具備する座標検出装置が提供され
る。
〔作 用〕
上述した構成を有する本発明の座標検出装置によれば、
抵抗膜2の四隅にそれぞれ設けられた4つの電極21.
22.23.24によって、抵抗膜2の接触位置が接触
位置検出手段3で検出される。これにより、座標検出パ
ネルの構成を簡略化することができる。
〔実施例〕
以下、図面を参照して本発明に係る座標検出装置の一実
施例を説明する。
第2図は本発明の座標検出装置の一実施例を示す図であ
る。同図に示されるように、本実施例の座標検出装置は
、座標検出パネル1aと接触位置検出回路3を備えてい
る。座標検出パネル1aは、ガラスまたはアクリル等の
透明材質より成る基板1、該基板1上に形成されたIT
O等の透明な抵抗膜2および該抵抗膜2の四隅にそれぞ
れ設けられた4つの電極21.22.23.24で構成
されている。
4つの電極21〜24は、スイッチング回路31の各ス
イッチSW、〜SW4 にそれぞれ接続され、このスイ
ッチング回路31によって、4つの電極から並列する2
組の電極群が選択されるようになされている。そして、
選択された2組の電極群は、バッファ回路32の入力端
■。および出力端O8に接続されると共に、バッファ回
路320入力端I。に接続された一方の電極群はインピ
ーダンス測定回路33に接続され、該一方の電極群から
の接触位置のインピーダンスが測定されることになる。
ここで、選択される2組の電極群は、左辺側電極群21
.22と右辺側電極群24.23並びに上辺側電極群2
1.24と下辺側電極群22.23の組み合わせである
。また、選択された2組の電極群はスイッチング回路3
1によって、バッファ回路32の入力端■。および出力
端O8に反転して接続され、インピーダンス測定回路3
3で他方の電極群からの接触位置のインピーダンスも測
定されることになる。
インピーダンス測定回路33の出力信号は、測定室、標
演算制御回路34に供給され、測定されたインピーダン
スから測定座標(X、 Y)が演算される。この測定座
標演算制御回路34は、スイッチング回路31に対して
測定する2組の電極群の選択信号を供給するようにもな
されている。そして、演算された測定座標(X、 Y)
  は、接触座標演算回路35に供給され、所定の変換
関数に従って、測定座標(X、 Y)から抵抗膜2の接
触位置Pの座標(x、 y)が算出されることになる。
この接触座標演算回路35において行われる測定座標(
X、 Y)から接触座標(X、 y)への変換演算は、
本実施例における4つの電極21〜24が抵抗膜2の四
隅に設けられているために行われるものである。すなわ
ち、上記4つの電極21〜24から選択される左辺側電
極群21.22と右辺側電極群24.23並びに上辺側
電極群21.24と下辺側電極群22.23の間に流さ
れる電流は、第5図の従来の座標検出装置のように抵抗
膜を平行に流れるものではないために、第3図を参照し
て後述する所定の関数に従った測定座標(X、 Y)か
ら接触座標(X、 y)への変換が必要とされるのであ
る。
ここで、第2図の座標検出装置における接触座標の検出
手順を説明する。まず、スイッチング回路31のSW、
を■1側、SW、をI2側、 SW3を03側そしてS
W、を04側に接続して、すなわち、バッファ回路32
の入力端I。に左辺側電極群21.22を接続し、バッ
ファ回路32の出力端O6に右辺側電極群24.23を
接続して、左辺側電極群21.22からの容量(インピ
ーダンス)CLをインピーダンス測定回路33で測定す
る。次いで、スイッチング回路31のSW、を01側、
SW、を01側、 SW3を13側そして51114を
I、側に接続して、すなわち、バッファ回路32の入力
端■。に右辺側電極群24.23を接続し、バッファ回
路32の出力端○。に左辺側電極群21.22を接続し
て、右辺側電極群24.23からの容量Ciをインピー
ダンス測定回路33で測定する。
同様に、スイッチング回路31のSW、を■1側、 S
W。
を0.側、SW、を03側そしてSW、をI4側に接続
して、すなわち、バッファ回路320入力端I0に上辺
側電極群21.24を接続し、バッファ回路32の出力
端O8に下辺側電極群22.23を接続して、上辺側電
極群21.24からの容量CUをインピーダンス測定回
路33で測定する。次いで、スイッチング回路31(7
)SW、をO+側、SW2を12側、SW3を13側そ
してSW4を04側に接続して、すなわち、バッファ回
路32の入力端■。に下辺側電極群22.23を接続し
、バッファ回路32の出力端○。に上辺側電極群21.
24を接続して、下辺側電極群22.23からの容量C
9をインピーダンス測定回路33で測定する。
以上により、測定室F(X、Y)が次式に示されるよう
に算出される。
このようにして得られた測定座標(X、 Y)は、接触
座標演算回路35において、以下の関数に従って変換さ
れ、抵抗膜2の接触位置の接触座標(X、 y)への変
換が行われることになる。
x=f、(X、Y、  lX、*、) y=fy(X、Y、1..1y> 次に、上記の測定座標(X、 Y)から接触座標(x、
 y)を得るための関数について説明する。
第3図は第2図の座標検出装置における接触座標の算出
を説明するための図である。前述したように、本実施例
の座標検出装置は、4つの電極21〜24から選択され
る左辺側電極群21.22と右辺側電極群24.−23
並びに上辺側電極群21.24と下辺側電極群22.2
3の間に流される電流が抵抗膜2を平行に流れるもので
はないために、測定された座標(X、 Y)から実際の
接触座標(x、 y)への変換演算を行う必要がある。
第3図に示されるように、長方形状の抵抗膜2の四隅に
電極21.22.23.24が形成されている場合、横
方向の電極間(電極21と電極24の間および電極22
と電極23の間)の距離を18とし、また、縦方向の電
極間(電極21と電極220問および電極24と電極2
3の間)の距離をf、とし、さらに、抵抗膜2の接触位
置P、(x、y)から各電極21.22.23.24ま
での距離をそれぞれf、、 n、、 !!、、 1.と
すると、左辺から接触位置Pまでの抵抗値RL+右辺か
ら接触位置Pまでの抵抗値Rm、上辺から接触位置Pま
での抵抗値R,および下辺から接触位置Pまでの抵抗値
Rnは、それぞれ次の式で示される。
ここで、抵抗膜2の単位長さ当たりの抵抗値をrとする
また、接触位置P (x、 y)から各電極21〜24
までの距nR1,it、is、L は、それぞれ次の式
で示される。
1 、  = (I2 + I2) l/2f2= (
I2 + <1y −y)2] ”1、= ((1,−
x)2+y2) ””L = (、(f* −x)”+
 <ly −y)”:l ”となる。
従って、測定座標(X、Y)は、次の式で示される。
f、A4 I!z  I4 I!、+13   122士124 以上の式をまとめることにより、接触座標(X、 y)
は、下記のように表すことができる。
x= f、 (X、  Y、  β、1!y)V=fy
 (X、  Y、  1.、  Ity>このようにし
て得られた関数により測定座標(X、 Y)は、接触座
標演算回路35において、接触座標(X、 y)へ変換
され、抵抗膜2における接触位置Pの座標が検出される
ことになる。
第4図は第2図の座標検出装置の変形例を示す図である
。この第4図の座標検出装置は、前述した第2図の座標
検出装置において、座標検出パネル1a(7)構成を変
形したものである。すなわち、第2図の座標検出パネル
1aは、第4図における座標検出パネル1aと同様に、
ガラスまたはアクリル等の透明材質より成る基板1上に
ITO等の透明な抵抗膜2が形成され、その抵抗膜2の
四隅には4つの電極21.22.23.24が設けられ
ている。
しかし、本変形例の基板1は第2図のものより大きく形
成されていて、基板1における抵抗膜2の外周に4つの
電極21.22.23.24と接触位置検出回路3とを
接続するためのパターン配線が、例えば、シルバーペイ
ント印刷により形成されるようになされている。すなわ
ち、4つの電極21〜24と接触位置検出回路3とを接
続するリード線が座標検出パネル1a内部にパターニン
グされるようになされている。これにより、電極21〜
24と接触位置検出回路3とを接続するリード線の引き
回しを簡略化して信頼性を一層向上させることができる
〔発明の効果〕
以上、詳述したように、本発明に係る座標検出装置は、
座標検出パネルの構成を簡略化することによって、製造
コストを安く抑えると共に、信頼性を向上させることが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る座標検出装置の原理を示す図、 第2図は本発明の座標検出装置の一実施例を示す図、 第3図は第2図の座標検出装置における接触座標の算出
を説明するための図、 第4図は第2図の座標検出装置の変形例を示す図、 第5図は従来の座標検出装置の一例を示す図である。 (符号の説明) 1・・・基板、 1a・・・座標検出パネノベ 2・・・抵抗膜、 3・・・接触位置検出手段、 21、22.23.24・・・電極、 31・・・スイッチング回路、 32・・・バッファ回路、 33・・・インピーダンス測定回路、 34・・・測定座標演算制御回路、 35・・・接触座標演算回路、 P・・・接触位置、 (X、 Y)・・・測定座標、 (X、 y)・・・接触座標。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基板(1)上に形成された抵抗膜(2)と、該抵抗
    膜の四隅にそれぞれ設けられた4つの電極(21、22
    、23、24)と、 該4つの電極に接続され、前記抵抗膜の接触位置を検出
    する接触位置検出手段(3)とを具備する座標検出装置
    。 2、前記接触位置検出手段は、前記4つの電極から並列
    する2組の電極群を選択するスイッチング回路と、該選
    択された2組の電極群に接続され該2組の電極群の間の
    電位を一定の関係に保つバッファ回路と、該2組の電極
    群の一方に接続され前記抵抗膜の接触位置に対応したイ
    ンピーダンスを測定するインピーダンス測定回路と、該
    測定されたインピーダンスから測定座標を演算すると共
    に前記スイッチング回路を制御する測定座標演算制御回
    路と、該測定座標から前記抵抗膜の接触位置の座標を演
    算する接触座標演算回路とを具備する特許請求の範囲第
    1項に記載の装置。 3、前記4つの電極は、前記基板上に形成されたプリン
    ト配線を介して前記接触位置検出手段に接続されるよう
    になっている特許請求の範囲第1項に記載の装置。 4、前記基板および抵抗膜は、光透過性物質で構成され
    ている特許請求の範囲第1項に記載の装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6400359B1 (en) 1998-08-27 2002-06-04 Pentel Kabushiki Kaisha Apparatus for detecting an approaching conductor, or an approach point of a conductor and an electrostatic capacity type touch panel apparatus

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60117321A (ja) * 1983-11-29 1985-06-24 Fujitsu Ltd 座標検出装置

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