JPH01226397A - サンドブラスト・マスク層又は下絵付模様層をスクリーン印刷により形成した転写シートの素焼物へのスライド転写法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はサンドブラスト・マスク層又は下絵付楔４１層
をスクリーン印刷により形成した転写シートの素焼物え
のスライド転写法に係り、吸水性が大きいためスライド
転写が不可能とされた素焼物の表面にサンドブラスト・
マスク層又は下絵付模様層をスクリーン印刷により形成
した転写シートによってスライド転写を施すようにする
ものである。

（従来の技術） 食器皿等の中間製品である素焼体は、重さの２０％以上
の重さの水を吸う特性を備えているのが通常であって、
前記を体積に換算すれば素焼物の吸水率は極めて大きい
。このためスクリーン印刷により製造された転写シート
の模様層をスライド手段により滑らせて素焼物の指定位
置にスライド移動することは全く不可能である。このた
め転写シートのサンドブラスト・マスク層、下絵付模様
層等をスライド手段により転写することが採算的に有利
であるに拘わらず、スライド転写が不能であるため、素
焼物表面の指定位置にスライド転写する方法は開発され
ていない。

（本発明が解決しようとする問題点） 素焼物表面にサンドブラスト・マスク層、または下絵付
模様層をスライド転写することは、前項に述べたように
不可能である。このためスクリーン印刷によりＳｌ！造
された転写シートのサンドブラスト・マスク層、又は下
絵付模様層は微細なデテールを有し、かつ量産できるか
ら、有利なことが判っているに拘わらず使用されていな
い。本発明は前記の転写シートを使用するため、素焼物
の吸水性に打勝ってスライド転写できる方法を開発する
ことを課題とするものである。

（問題点を解決するための手段） 本発明は前項に述べた課題を解決することを目的とし、
吸水性のはげしい素焼物表面に、スライド転写されるマ
スク層、模様層に素焼物の吸水性を及ばせないようにす
るため、不乾性溶３￥寸に溶解した粘性溶液からなる塗
布膜を形成する工程に上り従来のスライド転写法には全
く用いられていない不乾性で滑り性がよい膜を設け、水
吸収性台シートの水溶性糊料層上にスクリーン印刷法に
よりサンドブラスト・マスク層又は下絵付模様層を印刷
し、さらに剥離性カバーコートを設けた転写シートを水
に漬け、過剰の付着水分を除いてカバーコートと共に台
シートからスライド法により分離したマスク層又は下絵
付模様層を、素焼物の前記塗布膜上でスライドして指定
位置に移動する工程を以て素焼物の吸水性に煩わされな
いでスライド移動を施し、そのあとでゴム系スキーノに
より塗布膜を可及的に除去して、さらにカバーコートを
剥離してマスク層又は下絵付模様層を素焼物表面に安定
させる工程を結合したことを特徴とするサンドブラスト
・マスク層又は下絵付模様層をスクリーン印刷により形
成した転写シートの素焼物−のスライド転写法に係るも
のである。

（作用） 本発明は転写シールの模様層と該模様層を支持するカバ
ーコート層のスライド移動を不可能にしている素焼物表
面に、可溶性の溶剤で溶解した粘性溶液を塗布した塗布
膜を形成する工程により、次工程で施す転写シートのサ
ンドブラスト・マスク層又は下絵付模様層とカバーコー
トを、吸水性がはげしい素焼物の物性に影響されること
なくスライド移動させることができるようにする。

また、転写シートの前記のマスク層又は下絵付模様層と
カバーコートとは水付着により滑り移動を可能にしてい
るものであるが、この層はスライド法により転写シート
の水吸収性シートから分離して素焼物表面にある指定位
置までのスライド移動を、前記した塗布膜上で甘うもの
であって、従来のスライド表面にスライド移動ができる
釉を焼付けた皿などの生地に対するスライド転写と同様
な技法により施すことができる。しかして素焼物の表面
の塗布膜は、前記のように指定位置にスライド移動した
あとで、スキージにより可及的に除去してマスク層又は
下絵付模様層を素焼物表面に密着する転写を施すもので
、そのとき僅かに残って滑り性を生じない塗布膜を介在
させて、安定がよい転写を生じさせ、サンディング・マ
スク層を転写した場合にはサンディング加工による素焼
物表面の立体彫刻模様を形成し、また下絵付模様層を転
写した場合の８００℃付近の仮焼に全く支障を生じさせ
ない。

（実施例） 第１工程 不乾性の溶剤であるエチレングリコールかグリセリンの
各単体若しくは等１混合物にデキストリン、又は７ノリ
からなる水溶性糊性物３０〜６０重量％を混合して練り
合わせて：１４製した不乾性の糊性溶液を、皿生地等の
素焼物１の表面に噴霧などにより塗布し、塗布厚３０〜
５０μ前後の塗布膜２を形成する（第１図）。

第２工程 第２図に示すように水吸水性シート１１の水溶性糊料Ｍ
（乾燥）１２上にスクリーン印刷によりサンドブラスト
・マスク層又は下絵付模様層１３を印刷し、さらに剥離
性をもつカバーコート１４を設けた転写シート１５を水
に浸けて水溶性糊料層１２を膨潤し、過剰の付着水分を
除いてから、マスク層又は模様層１３と該層の支持フィ
ルムを構成するカバーコート１４とを水吸水性シート１
１から公知のスライド法により分離して素焼物１の塗布
膜２上にスライド移動する。このとき通常は素焼物１の
指定位置にマスク層又は模様層１３を正確に移すことは
ほとんどできないが、塗布１１ｉ２の粘性によりスライ
ドさせて指定位置に移動できる（第３図）。

前記においてマスク１１３をスクリーン印刷により成形
するときは旭化成製造のＡ　Ｐ　Ｒ！Ｊｌ脂をインキに
使用し、その厚さを３０μ〜５０μ程度にする。

前記のインキは紫外線硬化性である。

下絵付模様層１３をスクリーン印刷により形成する場合
には絵付用インキを使用する。

第３工程 マスク層または模様層１３を塗布膜２上で素焼物１の指
定位置に前記のようにスライド移動してから、ゴム系ス
キージによりカバーコート１４の上から押えながら擦っ
て塗布膜２を素焼物１の表面から可及的に除去し、マス
ク層又は模様層１３を素焼物１の表面に安定させる転写
を生じさせ（第４図）、それからカバーコート１４を除
去する（１５図）。

第４工程 転写がサンドブラスト・マスク層１３であるときは、該
マスクＮ１３上及びその外周部にサンドブラスト２１を
施し、マスク層１３のもつ模様を保護膜とし立体模様１
６を形成し、特にマスク層の輪郭部１７の外周はサンド
ブラスト２１により平滑に研削して１６図の立体模様製
品とする（第５．６図）。

転写が下絵付模様Ｎ１３であるときは、素焼物１を炉内
で８００℃、７０分〜３００分の仮焼を施し、塗布ｇＩ
２、カバーコート１４の残留物を焼きつくして前記の模
様層１３を素焼物１に焼付け、そのあとで透明釉を施し
て本焼の温度に加熱して下絵付製品とする。

（効果） 本発明はスライド転写が不可能な素焼物の表面に、不乾
性溶剤により溶解した糊性溶液の塗布膜を形成する前置
的な工程を設けているから、スライド転写用に印刷して
製造した転写シートのサンドブラスト・マスク層若しく
は下絵付模様層の素焼物表面の指定位置へのスライド移
動を容易にすると共に、前記の塗布膜は不乾性であるか
ら、塗布工程と、スライド移動工程との間に時間を置く
ことができて、スライド移動の段取りを容易にできる。

また前記の塗布膜は転写の正道から見れば一種の不純物
的存在であるが、指定位置へのスライド移動後、ゴム系
のスキージにより大部分を可及的に除去して、前記の移
動後に水溶性糊料層１２の糊性により指定位置から滑ら
せないものであるから、その除去の工程により、転写と
転写位置確保とを生じ、大量のスライド移動を工業的に
施すことができて、素焼物のサンドブラスト法による立
体彫刻、若しくは素焼物の肌に対する上絵付のスライド
手段による施工ができる等、従来にない効果をもつ。

【図面の簡単な説明】

添付図面は本発明方法を図示するものであって、第１図
は塗布膜を施した素焼物の一例を示した斜視図、ｔｊＳ
２図は転写シート１５の断面図、＃ＩＪ３図はスライド
移動を示した断面図、＃ｆＪ４図はスキージにより塗布
膜を可及的に除去した状態を示した断面図、第５図はカ
バーコートの除去を示し・た断面図、第６図はサンドブ
ラスト法により立体模様を形成した素焼物の一例を示し
た斜視図である。 １→素焼物　２→塗布膜

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）吸水性を持つ素焼物表面に、不乾性の溶剤により溶
   解した粘性溶液の塗布膜を形成する工程と、水吸収性シ
   ートの水溶性糊料層上にスクリーン印刷によりサンドブ
   ラスト・マスク層又は下絵付模様層を印刷し、さらに剥
   離性カバーコートを設けた転写シートを水に漬け、過剰
   の付着水分を除いてカバーコートと共に台シートからス
   ライド法により分離したマスク層又は下絵付模様層を素
   焼物の前記塗布膜上で指定位置にスライド移動する工程
   と、 そのあとでゴム系スキージにより塗布膜を素焼物表面か
   ら可及的に除去してマスク層又は下絵付模様層を素焼物
   表面に安定させることを特徴とする サンドブラスト・マスク層又は下絵付模様層をスクリー
   ン印刷により形成した転写シートの素焼物へのスライド
   転写法。