JPH01224017A - 循環濾過装置 - Google Patents

循環濾過装置

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Publication number
JPH01224017A
JPH01224017A JP63051048A JP5104888A JPH01224017A JP H01224017 A JPH01224017 A JP H01224017A JP 63051048 A JP63051048 A JP 63051048A JP 5104888 A JP5104888 A JP 5104888A JP H01224017 A JPH01224017 A JP H01224017A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filter
pore size
mek
solvent
pump
Prior art date
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Pending
Application number
JP63051048A
Other languages
English (en)
Inventor
Shunji Nakao
中尾 俊二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH01224017A publication Critical patent/JPH01224017A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薬液の循環濾過に関し、特にホトレジスト上の
メタルリフトオフに用いた溶剤いを濾過し再利用する循
環濾過装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、半導体装置の製造工程において、半導体基板(ウ
ェーハ)上に電極メタルを選択的に形成する方法として
リフトオフ法がある。第4図(a)〜(C)はこのリフ
トオフ法の処理工程を説明するための断面図である。第
4図(a)において、ウェーハ11上にホトレジスト1
2をパターニングし、つぎに同図(b)のようにホトレ
ジスト12の上にメタル13を蒸着する。このときメタ
ル13の厚みに対しホトレジスト12の厚みを厚くして
いるので、パターンエツジではメタル13が途切れてい
る。つぎに同図(C)のように、ホトレシスト12を容
易に溶解し、且つメタル13を腐食しない溶剤、例えば
有機溶剤で言えばメチルエチルケトン(以下、MEKと
略称する)にウェーハを浸漬し、20〜50KH2の周
波数で超音波照射することにより、ホトレジスト12を
溶解し、ウェーハ11の面からメタル13を離脱させ、
ホトレジスト12上の不要なメタル13を除去する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述したリフトオフ処理に用いたMEKには、数百μm
にも及ぶ大きさの不要なメタル屑が多量に混在する。こ
れを、仮りに通常のフィルタリング、つまりポアサイズ
0.2μmのフィルタによる濾過方法では、フィルタの
目詰まりが起こり、再利用できないまま使い捨てにして
いるのが実情である。このために大量の溶剤を必要とし
、経済的でないという欠点と、リフトオフ溶剤には前述
のMEKのような引火性の高い溶剤が主流なため、使用
量が多いと安全性においても問題がある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点に対し本発明の循環濾過装置は、溶剤中の異
物を除去するために、沈澱槽と、ポアサイズを段階的に
小さくした複数のフィルタと、溶剤を循環するポンプと
を有せしめている。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例のブロック系統図である。処
理槽(図示しない)から排出された不要メタルを含む例
えばメチルエチルケトンC以下MEKと略称する)6を
、先ず沈澱槽1に入れる。この沈澱槽1は、第2図の断
面図に示すように、仕切り板3により三つの部屋に分け
られ、この仕切り板3上部の片面に設けられたメツシュ
4により数百μm以上のメタル屑7がトラップされ、M
EK6がカスカケード状に流れるようにしている。これ
は、沈澱し難い軽いメタル屑などMEK6液面付近に浮
遊しているものでも流れ出ていかないようにするためで
ある。このように、沈澱槽1により粗く濾過されたME
K6を、第1図の第1ポンプP1により送り出され、例
えばポアサイズ140μmの第1のフィルタFlおよび
10μmの金属製の第2のフィルタF2を通して段階的
に濾過されたのちに一旦貯液タンク2に貯蔵する。次に
、第2ポンプP2によりMEK6S送り出し、ポアサイ
ズ0.2μmのテフロン製の第3フイルタF。
により再利用できるレベルに濾過し、処理槽(図示しな
い)へ供給する。
第3図は本発明の他の実施例のブロック系統図である。
本例では、第1図の実施例に加えて最終の第3フィルタ
F、の後に、三方バルブ5を設け、処理槽側で使用しな
い場合は三方バルブ5により矢印8方向の貯液タンク2
に戻し、リターン濾過を繰り返すことでMEK6のクリ
ーン化向上させ、使用時は三方バルブ5を矢印9の供給
経路に開き、処理槽へ送るといったより実用性のある循
環濾過装置である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、溶剤中(MEK)中のメ
タル屑で数百μm以上のものを沈澱槽でトラップした後
、140μm、10μmと段階的にメタル屑を除去し、
最終的に0.2μmフィルタで濾過することによりリフ
トオフに使った溶剤を再利用できる効果がある。
尚、本発明の実施例ではMEKによるリフトオフについ
て述べたが、この他の溶剤や処理物においても同様な効
果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のブロック系統図、第2図は
第1図の沈澱槽の断面図、第3図は本発明の他の実施例
のブロック系統図、第4図(a)〜(C)はリフトオフ
法による金属膜形成を説明するための工程断面図である
。 1・・・・・・沈澱槽、2・・・・・・貯液タンク、3
・・・・・・仕切板、4・・・・・・メツシュ、5・・
・・・・三方バルブ、6・・・・・・MEK(溶剤)、
7・・・・・・メタル屑、8,9・・・・・・溶剤流れ
方向、Pl・・・・・・第1ポンプ、F2・・・・・・
第2ボン7’、Fl・・・・・・第1フイルタ、F2・
・・・・・第2フィルタ%F3・・・・・・第3フイル
タ、11・・・・・・ウェーハ、12・・・・・・ホト
レジスト、13・・・・・・メタル。 代理人 弁理士  内 原   音 名3 m (す (榎 (C) り4 図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)不要な異物が混在する溶剤中の異物を沈澱かつト
    ラップする沈澱槽と、この沈澱槽において除去されずに
    残った微細な異物を含む溶剤を送り出すポンプと、この
    ポンプにより送り出された溶剤中の微細な異物をさらに
    濾過するための、ポアサイズが200〜100μmの第
    1のフィルタと、前記第1のフィルタの後に設けられた
    ポアサイズが100〜10μmの第2のフィルタと、前
    記第2のフィルタの後に設けられたポアサイズが0.4
    〜0.1μmの第3のフィルタとを備えていることを特
    徴とする循環濾過装置。
  2. (2)上記沈澱槽は、仕切板により複数のカスケード槽
    に仕切られており、さらに前記仕切板の片面には200
    μm以上の異物をトラップするメッシュを備えているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の循環濾過
    装置。
JP63051048A 1988-03-03 1988-03-03 循環濾過装置 Pending JPH01224017A (ja)

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JP63051048A JPH01224017A (ja) 1988-03-03 1988-03-03 循環濾過装置

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JP63051048A JPH01224017A (ja) 1988-03-03 1988-03-03 循環濾過装置

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JPH01224017A true JPH01224017A (ja) 1989-09-07

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ID=12875918

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JP63051048A Pending JPH01224017A (ja) 1988-03-03 1988-03-03 循環濾過装置

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5269912A (en) * 1991-11-13 1993-12-14 Shor Peter S Precious metal recovery system
WO2007148538A1 (ja) * 2006-06-21 2007-12-27 Idemitsu Kosan Co., Ltd. ストリッピング組成物、tft基板の製造方法及びストリッピング組成物のリサイクル方法
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CN101940855A (zh) * 2010-05-21 2011-01-12 云南大红山管道有限公司 一种高磁矿浆的脱水方法
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CN108831960A (zh) * 2018-06-20 2018-11-16 通威太阳能(安徽)有限公司 一种新型单晶硅制绒槽及其制绒方法

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