JPH01210091A - 精密機器の液処理方法 - Google Patents

精密機器の液処理方法

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JPH01210091A
JPH01210091A JP63033942A JP3394288A JPH01210091A JP H01210091 A JPH01210091 A JP H01210091A JP 63033942 A JP63033942 A JP 63033942A JP 3394288 A JP3394288 A JP 3394288A JP H01210091 A JPH01210091 A JP H01210091A
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JP
Japan
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liquid
treatment
flow
coating
processing
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JP63033942A
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Toru Usui
臼井 徹
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SONITSUKU FUEROO KK
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SONITSUKU FUEROO KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 開示技術は精密機器の光学機械等に用いるプラスチック
ス製のレンズやガラス等精密機器の仕上げ洗浄や精密機
器を硬化処理するコーティングを付与する等の液処理技
術分野に属する。
〈要旨の概要〉 而して、この出願の発明は光学装置等に用いるガラスや
プラスチックスのレンズ等に硬化処理するコーティング
を液処理槽に浸漬させて上部の温暖ガス中に引き上げし
て乾燥させ、所定の次段工程に搬送したり、純水による
仕上げ洗浄を行うようにした精密機器の液処理方法に関
する発明であり、特に、上記液処理槽内に於ける処理液
を液処理槽の一側側から他側側へかけて上下部の流速を
同速度にして層流状に側流させ、加温状態で循環濾過し
たりするようにした精密機器の液処理方法に係る発明で
ある。
〈従来技術〉 周知の如く、市民生活や産業社会が隆盛になってくる近
時においては近代科学に負うところが甚だしく大であり
、特に、情報機器によるところが甚だしく大である。
而して、当然のことながら、かがる情報機器は所謂IC
部品や電子光学機器の組合せによって茗しく精密にされ
ており、したがって、該種IC部品や光学部品等の精密
機器は超精密の仕上がり精度が厳しく要求され、ミクロ
ン単位は勿論のこと、サブミクロン単位の清浄度が要求
されるようになってきている。
したがって、精密機器の製造工程においては、最終仕上
がり工程において各種の薬液による洗浄後に純水による
仕上げ洗浄を行ったり、プラスチックスヤガラス等の光
学製品には使用やメンテナンス時の傷付きを防止するべ
く光透過性を良好にするべく硬化処理のためのコーティ
ング付与工程がおり、これらはほとんどの場合液処理に
よる浸漬、及び、該浸漬後の温暖ガス中に於(プる乾燥
を経てなされる。
而して、在来態様の液処理方法を第2図によって略説す
れば、次の通りである。
即ち、プラスチックス製のレンズ1の精密1機器の純水
による仕上げ洗浄後におけるコーティング処理において
、コーティング処理液2を貯留するコーテイング槽3に
対し、循環ポンプ4、及び、フィルタ5によりコーティ
ング処理液2をサークル状に循環させ、処理能6により
レンズ1をコーティング処理液2内にどIS’%漬は状
に浸漬して所定時間後に引き上げするようにされていた
が、液処理槽3内に於けるコーティング処理液2はサー
クル状に循環されるために一部の塵埃等はフィルタ5に
より除去されはするものの、経時的にサブミクロン単位
の塵埃や比重の重い前工程の薬液等が停滞浮遊する等し
、しばしばコーティング処理液2中に退散して引き上げ
される籠6内のレンズ1の表面に付着する場合が多かっ
た。
しかしながら、かかる精密機器においてはサブミクロン
単位の清浄度が要求されるために、最終工程純水による
仕上げ洗浄や薬液によるコーティング処理の液処理にお
いてサブミクロン単位の塵埃や、微粒子に対してはフィ
ルタ等による完全濾過を図っているが、不測にして処理
液中に浮遊して捕捉し切れず滞留しているサブミクロン
単位の1y埃等が浸入している場合もしばしばおり、し
たがって、所定の処理液に浸漬して引き上げする工程で
の処理液の濃縮や、乾燥プロセスでのサブミクロン単位
の塵埃や微粒子の付着による所謂シミが除去出来ない場
合には不合格品となり、該種製品の精密機器に電気的な
ショートや傷が付き易くなるという不測の事態が生じ、
製品精度に対する信fr1度を下落するという不具合が
あった。
特に、従来技術による純水やコーテイング液等の処理液
に対する精密機器のと7玉潰は状態の浸漬からの引き上
げに際しては、精密機器の処理面にスポット状やブロッ
ク状の液が付着して、後の乾燥工程において該処理液が
濃縮されるプロセスでシミが生ずるという欠点があった
したがって、これまでは処理の度ごとに洗浄液を洗浄の
度ごと排出して入れ換えており、そのため、タクトが短
縮出来ないという不具合がおった。
〈発明の目的〉 この出願の発明の目的は上述従来技術に基づく精密機器
に対する仕上げ洗浄や後工程のコーティング処理におけ
る精密機器の処理液中への浸漬の処理の問題点を解決す
べき技術的課題とし、液処理槽内に於ける処理液の静穏
な貯留状態への浸漬、及び、引き上げによる乾燥プロセ
スでの濃縮工程を介してのシミ発生の問題に着目し、浸
漬から引き上げにかけての液処理において液処理槽内に
於ける塵埃や前工程での微粒子の浮遊や滞留を阻止し、
これらを完全に循環工程において除去し、浸漬して引き
上げする精密機器の面に塵埃の付着が絶対に生じないよ
うにして処理液の使用量を少くし、タクトの短縮が図れ
るようにして精密機器製造産業における清浄化技術利用
分野に益する優れた精密機器の液処理方法を提供せんと
するものでおる。
〈問題点を解決するための手段・作用〉上述目的に沿い
先述特許請求の範囲を要旨とするこの出願の発明の構成
は前述問題点を解決するために、仕上げ洗浄やコーティ
ングを精密機器に対して施す処理液の循環を介してのナ
ブミクロン単位の塵埃等のフィルタ等による濾過除去は
液遮連槽外のサイクル回路で行い、液処理槽内に於いて
は上下部の流速が同一である層流状の側流にしてサブミ
クロン単位の塵埃微粒子の浮遊や滞留のない処理液によ
る速やかに排出し、液処理を行うようにし、処理液の使
用量を経済的にし、タクトの短縮が行えるようにした技
術的手段を講じたものである。
〈実施例〉 次に、この出願の発明の1実施例を第1図に基づいて説
明すれば以下の通りである。尚、第2図と同一態様部分
は同一符号を用いて説明するものとする。
図示実施例は精密機器としての光学レンズの表面に対す
る硬化コーティングの液処理の態様であり、液処理槽3
の内部にはプラスチックス製のレンズ1を収納した籠が
浸漬、引き上げ自在にされており、所定のコーティング
処理液2が所定ω貯留されて、液処理槽3の一側部と他
側部には整流機構7.7′が設けられて、バルブ8、補
助タンク9、循環ポンプ10.フィルタ11、ヒータ1
2、バルブ13を直列に介装して循環回路14によりサ
ークル状に接続されており、内部には所定サイズの微細
な孔を多数穿設された多孔板15.15.15.15が
上下方向に設置されている。
尚、液処理槽3の外部、特に、上部には所定の乾燥ガス
が超精密フィルタによりサブミクロン単位の塵埃を捕捉
されて、緩い速度で加熱循環するようにされている。
上述構成において、前工程で所定に成形製造されたプラ
スチックス製のレンズ1を純水による仕上げ洗浄を経て
籠6により移動し、乾燥した後、液処理槽3により所定
のコーティング処理液2をその表面に施すに際し、予め
液処理槽3に対し、そのコーティング処理液2を循環回
路14を介し補助タンク9、循環ポンプ10により循環
圧送し、フィルタ11によりサブミクロン単位の塵埃を
捕捉しヒータ12により設定温度の適温にし、流量調整
機構7.7′により一方側から他方側へ拡散して液処理
槽3内に圧入し、多孔板15.15.15・・・を流過
するプロセスで上下部の流速は同一速度に調整されて一
種の層流の側流として流動し、したがって、ミクロン単
位の混入している塵埃も何ら液処理槽3内に浮遊滞留す
ることなく側方流動して循環し、フィルタ11により完
全に捕捉され、レンズ1の表面はサブミクロン単位の塵
埃のない処理液2によりコーティング作用を受ける。
そして、所定時間後に籠6を処理液2により引き上げし
てミクロン単位の塵埃のない温暖ガス中より次段処理に
移送されていき、所謂シミ等が生ぜず、均一なコーティ
ング乾燥が施されて設計通りのコーティングされたレン
ズ1が1qられる。
そして、この間処理液の全量入れ換え等がなく、経済的
でタクトの短縮化が図れる。
尚、この出願の発明の実施態様は上述実施例に限るもの
でないことは勿論であり、液処理槽の循環回路に流量計
を設けて循環ポンプの循環速度や循環圧力を調整するよ
うにし、液処理槽内の層流状の側流の速度を可及的に低
速にするようにする専任々の態様が採用可能でおる。
又、適用対象はプラスチックス製のレンズ等曝こ対する
コーティング処理ばかりでなく、洗浄工程における各洗
浄段階や純水による仕上げ洗浄についても適用出来る等
も勿論のことである。
〈発明の効果〉 以上、この出願の発明によれば、電子部品や光学レンズ
やガラス等の精密機器の洗浄やコーティング等の精密液
処理において、処理液を貯留して洗浄を浸漬引き上げす
る処理液を液処理槽の一側側から他側側に層流状の側流
にして、上下部の流速が等速度になるような横移動を行
うようにしたことにより、液処理槽内に於ける処理液は
特定のサークル状の循環を行うことなく全体的に層流状
に横移動するために、不測にして混在するサブミクロン
単位の塵埃や前工程からの微粒子等が液処理槽内部に浮
遊して停滞したすせず、したがって、浸漬した精密機器
の表面にこれらのサブミクロン単位の塵埃や粒子等がそ
の引き上げに際して付着することなく、したがって、コ
ーティングや洗浄の仕上げに際し、これらの混入するサ
ブミクロン単位の塵埃や重い前工程の薬液によるシミ等
が生ぜず、設計通りの精度の高い均一な完全洗浄やコー
ティング等が行えるという優れた効果が奏される。
したがって、最終製品として得られる精密機器に対する
信頼度も高く、歩留向上にも役立ち、製品品質度を高め
ることが出来るという優れた効果が奏される。
そして、員重な処理液については処理の度ごとに総入れ
換えする必要がなく、液処理槽内のコーティング処理液
の清浄度がより一層高められコストダウンを図れ、タク
トの短縮化が図られるという優れた効果が奏される。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの出願の発明の1実施例の縦断面図、第2図
は在来態様の精密機器に対する液処理方法の縦断面図で
ある。 1・・・精密機器、  2・・・処理液、  3・・・
液処理槽、10・・・循環ポンプ、 11・・・フィル
タ、12・・・ヒータ、 14・・・循環回路第 1f
!1 10・・11ボン1,11・・・フィルタ。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)精密機器の液処理槽に浸漬させた後引き上げ次段
    処理に搬送するようにした液処理方法において、上記液
    処理槽内にて処理液を一側から他側へ上下部の流速を同
    速にして層流状に側流させて循環させ上記精密機器に対
    する所定の液処理をするようにすることを特徴とする精
    密機器の液処理方法。
  2. (2)上記処理液を加熱して循環させるようにしたこと
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の精密機器の液
    処理方法。
  3. (3)上記処理液を濾過作用を介して循環させるように
    したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の精密
    機器の液処理方法。
JP63033942A 1988-02-18 1988-02-18 精密機器の液処理方法 Granted JPH01210091A (ja)

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JP63033942A JPH01210091A (ja) 1988-02-18 1988-02-18 精密機器の液処理方法

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JPH01210091A true JPH01210091A (ja) 1989-08-23
JPH0448516B2 JPH0448516B2 (ja) 1992-08-06

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0360776A (ja) * 1989-07-27 1991-03-15 Mita Ind Co Ltd 洗浄液循環装置
JPH0426082U (ja) * 1990-06-26 1992-03-02
JPH05166787A (ja) * 1991-12-12 1993-07-02 Takao Nakazawa 半導体ウエハ用洗浄リンス槽

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JPH05166787A (ja) * 1991-12-12 1993-07-02 Takao Nakazawa 半導体ウエハ用洗浄リンス槽

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