JPH01209608A - エナメル線用アプリケータおよびエナメル線装置 - Google Patents

エナメル線用アプリケータおよびエナメル線装置

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JPH01209608A
JPH01209608A JP3469888A JP3469888A JPH01209608A JP H01209608 A JPH01209608 A JP H01209608A JP 3469888 A JP3469888 A JP 3469888A JP 3469888 A JP3469888 A JP 3469888A JP H01209608 A JPH01209608 A JP H01209608A
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JP
Japan
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varnish
felt
chamber
applicator
outer diameter
Prior art date
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Pending
Application number
JP3469888A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisanobu Yamagishi
山岸 久修
Yusuke Nakano
裕介 中野
Kishirou Miura
三浦 樹四郎
Masayoshi Goto
正義 後藤
Fumio Nakano
文夫 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd filed Critical Hitachi Cable Ltd
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Publication of JPH01209608A publication Critical patent/JPH01209608A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/44Mechanical structures for providing tensile strength and external protection for fibres, e.g. optical transmission cables
    • G02B6/4401Optical cables
    • G02B6/4415Cables for special applications
    • G02B6/4416Heterogeneous cables
    • G02B6/4417High voltage aspects, e.g. in cladding
    • G02B6/442Insulators

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Processes Specially Adapted For Manufacturing Cables (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、フェルト方式により線条体に均一かつ安定し
てワニスを塗布することを可能にするアプリケータおよ
び該アプリケータを用い高品質のエナメル線を製造する
ためのエナメル線装置に関するものである。
[従来の技術と問題点コ エナメル線を製造するには、線条体の外周にワニスを塗
布し、これを焼付炉中に通過させて焼付け、この塗布と
焼付けを所要回数繰り返して所要厚さのエナメル皮膜を
形成する。
しかして、前記線条体へのワニスの塗布には、通常サイ
ズの線条体では当該線条体をワニス浴中に通過させてワ
ニスを付着させ、これをダイスで絞り均一に塗布するの
が一般的であるが、絹物あるいは極細物サイズに対して
は上記方法は必ずしも適当ではなく、フェルト方式を採
用する場合が多い。
すなわち、一部をワニス内に浸漬して回転しているロー
ル表面に線条体を接触して通過させ、ロール表面のワニ
スを線条体に付着させたのち、線条体の進行方向に設け
られたフェルトにより線条体外層のワニスを均一化付着
させるものである。
しかし、上記フェルト方式においては、ワニス供給にお
いて供給コントロールが困難であり、ロール表面で線条
体にワニスが多く付き過ぎたり片付き状態となったりし
てフェルトに送られ易く、フェルトに対して均一なワニ
ス供給がなされず、エナメル塗布状態が安定せずに、長
手方向に線径が不均一となったり偏肉状態となったりす
る場合が多い。このため良質のエナメル線を得ようとす
るには細心の管理を必要とし、作業者の熟練に負うとこ
ろが多かった。
[発明の目的] 本発明は、上記したような従来技術の欠点を解消し、フ
ェルト方式においてフェルトへのワニスの供給を自動的
に一定にコントロールし、線径均一にして品質良好なエ
ナメル皮膜を安定して形成し得る新規なアプリケータお
よびそれを用いたエナメル線装置を提供しようとするも
のである。
[発明の概要] 本発明は、フェルト方式においてワニス塗布ロールを排
除し、線条体を挟持するフェルトに直接ワニス供給を行
ない得るワニス室を形成し、該ワニス室へのワニス供給
を精密にコントロール可能に構成する一方、エナメル線
の外径を検出し得る外径検知センサを配置し、その検知
結果をワニス供給系にフィードバックしこれを制御器を
介して制御することにより、つねに最適なワニス量をフ
ェルトに供給し、ワニス塗布の均質安定化を達成せしめ
るものである。
[実施例] 以下に、本発明について実施例に基いて説明する。
図は、本発明に係るエナメル線装置の構成を示す概略説
明図である。
本発明においては、線条体10にワニス11を塗布する
に当り、前記従来例における塗布ロールを使用せず、ア
プリケータ1が使用される。アプリケータ1の具体的構
成については図示を省略しているが、具体的には線条体
10を挟持してワニスを塗布する2枚のフェルトと該フ
ェルトを保持するホルダーとをもって構成し、ホルダー
にはフェルトに対して具合よくワニスを供給できる供給
孔を有するワニス室が形成されており、該ワニス室に制
御された量のワニスを供給する配管を連結した構成とす
るものである。上記のような構成を有するものであれば
その形状等においてとくに限定はされない。
アプリケータ1の前記ワニス室には配管チューブ3が連
結され、該配管チューブ3はギヤポンプの如く精度よく
定量のワニスを送り出すことのできる精密定量ポンプ2
に連結され、該ポンプ2はさらにワニス11を貯蔵した
ワニスタンク4と連結する一方、パルスモータの如く高
精度に回転速度を調整可能な駆動モータ5により駆動可
能に構成される。
7は、ワニス塗布した線条体10の外径を精度よく連続
して検知し得る外径検知センサであり、該外径検知セン
サ7の検知信号は制御器8に入力され、制御器8で演算
された信号が前記ギヤポンプ2を駆動する駆動モータ5
に入力されてモータ5にその回転速度を制御する信号が
送られる。この制御信号によって配管チューブ3を介し
てアプリケータ1に送り込まれるワニス量が制御調整さ
れる。6はモータ5とギヤポンプ2とを連結するカップ
リングて′ある。
以上のように構成される本発明に係る装置において、線
条体10は図中矢印のように進行しアプリケータ1にお
いてワニス塗布され、図示してない焼付炉において焼付
けられ、再度アプリケータ1に戻されてワニス塗布が行
なわれ、この作業が数パス繰返されて所要のエナメル線
に製造される。
上記のようにしてワニスを再塗布するために焼付炉より
戻った線条体10の外径が外径検知センサ7により計測
され、その外径変化からワニスの塗布状況が検出され、
検出信号が制御器8に入力される。制御器8においては
、外径検知センサ7よりの情報に基いてアプリケータ1
に供給すべきワニス量を算出し、その結果に基いて駆動
モータ5に駆動指令を与える。演算の結果フェルトへの
ワニス供給量の増加が必要であればモータ5の凹転数を
増やすよう指令してポンプ2の送り出し量を増大させ、
ワニス供給を減少させる必要があればモータ5の回転数
を低下する指令を発し、アプリケータ1において線条体
10に塗布するワニス11の量が最適なものとなるよう
つねに高精度に制御調整する。これによって、アプリケ
ータ1におけるワニス塗布はつねに均一厚さとなる最適
量に自動制御され、長手方向の全長にわたり偏肉や外径
むらのない高品質のエナメル線を製造することを可能な
らしめる。
なお、外径検知センサ7の設置位置は、線条体10のア
プリケータ1への入線あるいは出線のいずれか一方ある
いはその両方など必要に応じ適宜選択すればよい。
以上のように構成すれば、ワニスの粘度や温度に余り影
響されることなく、外径検知センサの情報に従ってポン
プの吐出量を調整し最適量をフェルトに供給できるから
、エナメル塗料の材質に起因する影響も解消できる。
[発明の効果] 以上の通り、本発明に係るアプリケータおよび装置によ
れば、フェルト方式のワニス塗布において、きわめて精
度よくワニス供給がコントロールされ、長手方向におい
て偏肉や外径むらのない均一な径のエナメル線を自動的
に製造できるものであって、それによってとくにエレク
トロニクス用の精密エナメル線のように高品質が強く要
求される分野に十分に適応可催となるなど、その工業上
の価値はけだし大きなものがある。
【図面の簡単な説明】
図は、本発明に係る装置の具体例を示す概略説明図であ
る。 1ニアブリケータ、 2:精密定量ポンプ、 3:配管チューブ、 4:ワニスタンク、 5:駆動モータ、 7:外径検知センサ、 8:制御器、 10:線条体、 11:ワニス。 代理人  弁理士  佐 藤 不二雄

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)線条体を挾みワニス塗布をする2枚のフェルトと
    該フェルトに隣接して設けられ前記フェルトに連通する
    ワニス供給孔を有するワニス室と該ワニス室にワニスを
    送り込む配管とを有してなるエナメル線用アプリケータ
  2. (2)ワニスを供給する精密定量ポンプと該ポンプを駆
    動する可変速モータと前記ポンプよりワニスを請求項1
    のアプリケータに導く配管と線条体の外径を測定可能な
    外径センサと当該外径センサの検知結果を取り込み前記
    可変速モータの回転数を調整して前記ポンプのワニス送
    出し量を制御する制御器とを有してなるエナメル線装置
JP3469888A 1988-02-17 1988-02-17 エナメル線用アプリケータおよびエナメル線装置 Pending JPH01209608A (ja)

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JP3469888A JPH01209608A (ja) 1988-02-17 1988-02-17 エナメル線用アプリケータおよびエナメル線装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5466293A (en) * 1993-01-14 1995-11-14 Konica Corporation Coating apparatus for providing a superficial protective layer on a card
US5853481A (en) * 1995-07-31 1998-12-29 Becton Dickinson And Company Apparatus for coating of objects using a porous resilient matrix
JP2011156456A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Mitsubishi Electric Corp 線材への塗布剤の塗布装置及び塗布方法

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