JPH01203395A - アシル誘導体 - Google Patents
アシル誘導体Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/36—Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D519/00—Heterocyclic compounds containing more than one system of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring system not provided for in groups C07D453/00 or C07D455/00
Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、式
式中、mはO,lまたは2であり、R1は水素またはア
シル基であり、 R1は水素、低級アルコキシ、低級ア
ルキルチオまたは低級アルカノイルアミノであり、R”
は水素、低級アルキル、低級アルケニル、C,−C,シ
クロアルキル、ハロー低級アルキル、フェニルまたはモ
ノ−、ジーもしくはトリーハローフェニルであり;Zは
R30−Cまたは窒素であり;R30は水素またはハロ
ゲンであるか、あるいはR30およびR31は、−緒に
なったとき、C,−C,アルキレン基、C1−C,アル
キレンモノ−オキシ基またはC,−C,アルキレンジオ
キシ基を表わし;R”は水素、ハロゲン、低級アルキル
または置換されていてもよい5員もしくは6員の複素環
式環であり、前記複素環式環は1,2または3個の酸素
、窒素および/またはイオウ原子を含有し;そしてR3
3は水素またはハロゲンであるか、あるいはR”および
R33は、−緒になったとき、Ct C4アルキレン
ジオキシ基を表す、のアシル誘導体およびこれらの化合
物の加水分解容易なエステル類または塩類および式■の
化合物およびそれらのエステル類または塩類の水和物に
関する。
シル基であり、 R1は水素、低級アルコキシ、低級ア
ルキルチオまたは低級アルカノイルアミノであり、R”
は水素、低級アルキル、低級アルケニル、C,−C,シ
クロアルキル、ハロー低級アルキル、フェニルまたはモ
ノ−、ジーもしくはトリーハローフェニルであり;Zは
R30−Cまたは窒素であり;R30は水素またはハロ
ゲンであるか、あるいはR30およびR31は、−緒に
なったとき、C,−C,アルキレン基、C1−C,アル
キレンモノ−オキシ基またはC,−C,アルキレンジオ
キシ基を表わし;R”は水素、ハロゲン、低級アルキル
または置換されていてもよい5員もしくは6員の複素環
式環であり、前記複素環式環は1,2または3個の酸素
、窒素および/またはイオウ原子を含有し;そしてR3
3は水素またはハロゲンであるか、あるいはR”および
R33は、−緒になったとき、Ct C4アルキレン
ジオキシ基を表す、のアシル誘導体およびこれらの化合
物の加水分解容易なエステル類または塩類および式■の
化合物およびそれらのエステル類または塩類の水和物に
関する。
上の式Iにおいて、mは好ましくは0である。
この明細書において使用するとき、用語「低級アルキル
」または「アルキル」は、1〜8個、好ましくは1〜4
個の炭素原子を有する直鎖状および分枝鎖状の飽和炭イ
し水素基、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、t−ブチルなどを意味する。
」または「アルキル」は、1〜8個、好ましくは1〜4
個の炭素原子を有する直鎖状および分枝鎖状の飽和炭イ
し水素基、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、t−ブチルなどを意味する。
ここで使用するとき、用語「低級アルコキシ」または「
アルコキシ」は、「アルキル」部分が前に定義した低級
アルキル基である、直鎖状または分枝鎖状の炭化水素基
を意味する。例はメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ
などである。
アルコキシ」は、「アルキル」部分が前に定義した低級
アルキル基である、直鎖状または分枝鎖状の炭化水素基
を意味する。例はメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ
などである。
用語「ハロ」または「ハロゲン」は、ここで使用すると
き、特記しない限り、そのすべてての形態、すなわち、
クロロ、ブロモ、ヨウドまたはフルオロを表す。
き、特記しない限り、そのすべてての形態、すなわち、
クロロ、ブロモ、ヨウドまたはフルオロを表す。
用語「アリール」は、置換または非置換の芳香族部分、
例えば、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、クメ
ニル、ナフチルなどを意味し、ここで前記アリール基は
1〜3つの置換基、例えば、ハロ(例えば、フルオロ、
クロロ、ブロモ)、ヒドロキシなどを有することができ
る。
例えば、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、クメ
ニル、ナフチルなどを意味し、ここで前記アリール基は
1〜3つの置換基、例えば、ハロ(例えば、フルオロ、
クロロ、ブロモ)、ヒドロキシなどを有することができ
る。
用語「低級アルカノイル」または「アルカノイル」は、
ここで使用するとき、式 %式% 式中R22は水素またはC,−C,アルキルである、 の部分を意図する。このような基の例はアセチル、ホル
ミル、プロピオニル、n−ブチリルなどである。
ここで使用するとき、式 %式% 式中R22は水素またはC,−C,アルキルである、 の部分を意図する。このような基の例はアセチル、ホル
ミル、プロピオニル、n−ブチリルなどである。
用語「置換フェニル」は、ハロ(例えば、クロロ、ブロ
モ、フルオロ)、低級アルキル、アミノ、ニトロまたは
トリフルオロメチルによって一置換または二置換された
フェニルを意味する。
モ、フルオロ)、低級アルキル、アミノ、ニトロまたは
トリフルオロメチルによって一置換または二置換された
フェニルを意味する。
用語「置換アルキル」は、例えば、ハロ(例工ば、クロ
ロ、フルオロ、ブロモ)、トリフルオロメチル、アミノ
、シアノなどによって置換された「低級アルキル」部分
を意味する。
ロ、フルオロ、ブロモ)、トリフルオロメチル、アミノ
、シアノなどによって置換された「低級アルキル」部分
を意味する。
用語「低級アルケニル」または「アルケニル」は、オレ
フィン系二重結合を含有し、2〜6個の炭素原子を有す
る直鎖状または分枝鎖状の炭化水素基、すなわち、式C
nH2n (式中nは1〜6である)の化合物の残基、
例えば、アリル、ビニルなどを意味する。
フィン系二重結合を含有し、2〜6個の炭素原子を有す
る直鎖状または分枝鎖状の炭化水素基、すなわち、式C
nH2n (式中nは1〜6である)の化合物の残基、
例えば、アリル、ビニルなどを意味する。
用語「アラルキル」は、芳香族および脂肪族の両者の構
造を有する炭化水素基、すなわち、低級アルキルの水素
原子が1環のアリール基によって、例えば、フェニル、
トリルなどによって置換された炭化水素基を意味する。
造を有する炭化水素基、すなわち、低級アルキルの水素
原子が1環のアリール基によって、例えば、フェニル、
トリルなどによって置換された炭化水素基を意味する。
表現「1〜4個の酸素、窒素および/またはイオウ原子
を含有する5員、6員または7員の複素環式環」は、例
えば、6員の窒素含有複素環、例えば、ピリジル、ピペ
リジル、ピペリジノ、N−オキシドピペリジル、ピリミ
ジル、ピペラジニル、ピリダジニル、N−オキシドピリ
ダジニルなど、または5員の窒素含有複素環、例えば、
ピロリジニル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル
、1.2.3−チアジアゾリル、l 、2.4−チアジ
アゾリル、1.3.4−チアジアゾリル、l 、2.3
−オキサジアゾリル、l 、2.4−オキサジアゾリル
、1.3.4−オキサジアゾリル、1.2.5−オキサ
ジアゾリル呟 1.2.3−トリアゾリル、1.2.4
−トリアゾリル、IH−テトラゾリル、2H−テトラゾ
リルなどを表すことを意図する。これらの複素環の各々
は、さらに置換されることができ、そして、置換基とし
て、例えば、低級アルキル、例えば、メチル、エチル、
n−プロピルなど、低級アルコキシ、例えば、メトキシ
、エトキシなど、ハロゲン、例えば、塩素、臭素など、
ハロゲン置換低級アルキル、例えば、トリフルオロメチ
ノ呟トリクロロエチルなど、アミノ、メルカプト、ヒド
ロキシ、カルバモイルまたはカルボキシなどを述べるこ
とができる。
を含有する5員、6員または7員の複素環式環」は、例
えば、6員の窒素含有複素環、例えば、ピリジル、ピペ
リジル、ピペリジノ、N−オキシドピペリジル、ピリミ
ジル、ピペラジニル、ピリダジニル、N−オキシドピリ
ダジニルなど、または5員の窒素含有複素環、例えば、
ピロリジニル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル
、1.2.3−チアジアゾリル、l 、2.4−チアジ
アゾリル、1.3.4−チアジアゾリル、l 、2.3
−オキサジアゾリル、l 、2.4−オキサジアゾリル
、1.3.4−オキサジアゾリル、1.2.5−オキサ
ジアゾリル呟 1.2.3−トリアゾリル、1.2.4
−トリアゾリル、IH−テトラゾリル、2H−テトラゾ
リルなどを表すことを意図する。これらの複素環の各々
は、さらに置換されることができ、そして、置換基とし
て、例えば、低級アルキル、例えば、メチル、エチル、
n−プロピルなど、低級アルコキシ、例えば、メトキシ
、エトキシなど、ハロゲン、例えば、塩素、臭素など、
ハロゲン置換低級アルキル、例えば、トリフルオロメチ
ノ呟トリクロロエチルなど、アミノ、メルカプト、ヒド
ロキシ、カルバモイルまたはカルボキシなどを述べるこ
とができる。
用語「シクロ−低級アルキル」または「シクロアルキル
」は、3〜7員の飽和炭素環式部分、例えば、シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロヘキシルなどを意味する
。
」は、3〜7員の飽和炭素環式部分、例えば、シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロヘキシルなどを意味する
。
R3Il b、 ヨびR”i;t、−緒になッテ、「c
3−C,アルキレン」、例えば、 (cHt)s−1
−(CHt)4−1− (cHt)s−または−CH(
CH3) (CH2)z ;またはまた[C3−
04アルキレンモノ−オキシ」、例えば、−(CHz)
z 0−1−(CHt)s 0−1− (CHl)
4−〇−または−CH(CHs) CH! O−;
または別にrc、−c、アルキレンジオキシ」、例えば
、−〇−CH,−0−1−〇 (CHl)z−〇−ま
たは−OCR(CHs)−0−を意味することができる
。好ましくは、5員または6員の縮合環が形成される。
3−C,アルキレン」、例えば、 (cHt)s−1
−(CHt)4−1− (cHt)s−または−CH(
CH3) (CH2)z ;またはまた[C3−
04アルキレンモノ−オキシ」、例えば、−(CHz)
z 0−1−(CHt)s 0−1− (CHl)
4−〇−または−CH(CHs) CH! O−;
または別にrc、−c、アルキレンジオキシ」、例えば
、−〇−CH,−0−1−〇 (CHl)z−〇−ま
たは−OCR(CHs)−0−を意味することができる
。好ましくは、5員または6員の縮合環が形成される。
HszおよびR33は、−緒になって、r Cl−C4
アルキレンジオキシ」、例えば、−〇−CH,−0−1
−0− (CH,)、−0−1−0−(cHz)i−o
−1−0−(CHz)a−〇−1−0 CH(CR3
) O−または−〇−CH(CH,)−CH(CH,
)−0−などを意味することができる。好ましくは、5
員または6員の縮合環が形成される。
アルキレンジオキシ」、例えば、−〇−CH,−0−1
−0− (CH,)、−0−1−0−(cHz)i−o
−1−0−(CHz)a−〇−1−0 CH(CR3
) O−または−〇−CH(CH,)−CH(CH,
)−0−などを意味することができる。好ましくは、5
員または6員の縮合環が形成される。
用語「アシル」は、ここにおいてR1と関連して使用す
るとき、有機酸(すなわち、カルボン酸)からヒドロキ
シ基を除去することによって誘導されるすべての有機残
基を意味しかつ包含する。
るとき、有機酸(すなわち、カルボン酸)からヒドロキ
シ基を除去することによって誘導されるすべての有機残
基を意味しかつ包含する。
R′は多くのアシル残基のいずれであることもできるが
、ある種のアシル基は好ましい。
、ある種のアシル基は好ましい。
アシル基の例は、過去において、6−アミノペニシラン
酸および誘導体および7−アミノセフ0スポラン酸およ
び誘導体を包含するβ−ラクタム抗生物質をアシル化す
るためにしようされてきているアシル基である;参照、
例えば、セファロスポリン類およびペニシリン類(Ce
pha30sporinsand Pen1cill
ins) 、7りン(F 1ynn) 、アカデミツク
・プレス(A cadmic P ress) (
1972)、ベルギー国特許第866.038号、19
78年10月17日発行、ベルギー国特許第867.9
94号、1978年12月11日発行、米国特許第4.
152.432号、1979年5月1日発行、米国特許
第3.971.778号、1976年7月27日発行、
および米国特許第4.173.199号、1979年1
0月23日発行。
酸および誘導体および7−アミノセフ0スポラン酸およ
び誘導体を包含するβ−ラクタム抗生物質をアシル化す
るためにしようされてきているアシル基である;参照、
例えば、セファロスポリン類およびペニシリン類(Ce
pha30sporinsand Pen1cill
ins) 、7りン(F 1ynn) 、アカデミツク
・プレス(A cadmic P ress) (
1972)、ベルギー国特許第866.038号、19
78年10月17日発行、ベルギー国特許第867.9
94号、1978年12月11日発行、米国特許第4.
152.432号、1979年5月1日発行、米国特許
第3.971.778号、1976年7月27日発行、
および米国特許第4.173.199号、1979年1
0月23日発行。
種々のアシル基を記載するこれらの引用文献の部分をい
んようによってここに加える。次のアシル基の列挙は用
語「アシル基」をさらに例示する;それはその用語を限
定するものと見なすべきではない。アシル基の例は、つ
ぎのとおりである:(a)式 %式% 式中、R6は低級アルキル、C3−C,シクロアルキル
、低級アルコキシ、低級アルケニル、C,−C,シクロ
アルケニルまたはシクロへキサジェニルであり:あるい
は1または2個以上のハロゲン、シアノ、ニトロ、アミ
ノ、メルカルプト、低級アルキルチオまたはシアノメチ
ルチオ基で置換されていてもよい低級アルキルまたは低
級アルケニルである、を有する脂肪族基。
んようによってここに加える。次のアシル基の列挙は用
語「アシル基」をさらに例示する;それはその用語を限
定するものと見なすべきではない。アシル基の例は、つ
ぎのとおりである:(a)式 %式% 式中、R6は低級アルキル、C3−C,シクロアルキル
、低級アルコキシ、低級アルケニル、C,−C,シクロ
アルケニルまたはシクロへキサジェニルであり:あるい
は1または2個以上のハロゲン、シアノ、ニトロ、アミ
ノ、メルカルプト、低級アルキルチオまたはシアノメチ
ルチオ基で置換されていてもよい低級アルキルまたは低
級アルケニルである、を有する脂肪族基。
(b)
R■
SQ、−M”
H
501−M”
式中、nは0.1,2または3であり;R1、R7およ
びR6の各々は、独立に、水素、ノ\ロゲン、ヒドロキ
シ、ニトロ、アミノ、シアノ、トリフルオロメチル、1
〜4個の炭素原子を有するアルキル、1〜4個の炭素原
子を有するアルコキシまたはアミノメチルから成る群よ
り選択され;そしてR111はアミノ、ヒドロキシ、カ
ルボキシ塩、保護されたカルボキシ、ホルミルオキシま
たはアジドから成る群より選択され、そしてMはカチオ
ンである、の1つを有するカルボキシル芳香族基。
びR6の各々は、独立に、水素、ノ\ロゲン、ヒドロキ
シ、ニトロ、アミノ、シアノ、トリフルオロメチル、1
〜4個の炭素原子を有するアルキル、1〜4個の炭素原
子を有するアルコキシまたはアミノメチルから成る群よ
り選択され;そしてR111はアミノ、ヒドロキシ、カ
ルボキシ塩、保護されたカルボキシ、ホルミルオキシま
たはアジドから成る群より選択され、そしてMはカチオ
ンである、の1つを有するカルボキシル芳香族基。
好ましいカルボキシル芳香族基は、次のものを包含する
: R惨0 (R′。は好ましくはアミノ基、とドロキシ基、マたは
カルボキシ塩またはスルホ塩である)。
: R惨0 (R′。は好ましくはアミノ基、とドロキシ基、マたは
カルボキシ塩またはスルホ塩である)。
本発明の目的に適当な他のアシル基の例は、っぎのとお
りである: スルホフェニルアセチル、 ヒドロキシスルホニルオキシフェニルアセチル、スルフ
ァモイルフェニルアセチル、 (フェニルオキシカルボニル)フェニルアセチル、 (p−トリルオキシカルボニル チル、 ホルミルオキシフェニルアセチル、 カルボキシフェニルアセチル、 ホルミルアミノフェニルアセチル、 ベンジルオキシカルボニルフェニルアセチル、2−(N
,N−’;メチルスルファモイル)−2−7エニルアセ
チル、 2−ブロモ−2−チエニルアセチルなど。
りである: スルホフェニルアセチル、 ヒドロキシスルホニルオキシフェニルアセチル、スルフ
ァモイルフェニルアセチル、 (フェニルオキシカルボニル)フェニルアセチル、 (p−トリルオキシカルボニル チル、 ホルミルオキシフェニルアセチル、 カルボキシフェニルアセチル、 ホルミルアミノフェニルアセチル、 ベンジルオキシカルボニルフェニルアセチル、2−(N
,N−’;メチルスルファモイル)−2−7エニルアセ
チル、 2−ブロモ−2−チエニルアセチルなど。
(c) R”’− (CH2 )n−CO−R”’ー
CHーCO− R” R”’ー0ーCH,ーCO− R”’ S CHz Co− R 30’− C O − C O −式中、nは0、
■または3であり:R90は上に定義したとおりであり
;そしてR′。′は置換または非置換の5員、6員また
は7員の112、3または4個(好ましくは1または2
個)の窒素、酸素および/またはイオウ原子を含有する
複素環式環である、 を有するヘテロ芳香族基。複素環式環の例は、チエニル
、フリル、ピロリル、ピリジル、ピラジニル、チアゾリ
ル、ピリミジニルおよびテトラゾリルである。置換基の
例は、ハロゲン、ヒドロキシ、ニトロ、アミノ、シアノ
、トリフルオロメチル、1〜4個の炭素原子を有するア
ルキルまたは1〜4個の炭素原子を有するアルコキシで
ある。
CHーCO− R” R”’ー0ーCH,ーCO− R”’ S CHz Co− R 30’− C O − C O −式中、nは0、
■または3であり:R90は上に定義したとおりであり
;そしてR′。′は置換または非置換の5員、6員また
は7員の112、3または4個(好ましくは1または2
個)の窒素、酸素および/またはイオウ原子を含有する
複素環式環である、 を有するヘテロ芳香族基。複素環式環の例は、チエニル
、フリル、ピロリル、ピリジル、ピラジニル、チアゾリ
ル、ピリミジニルおよびテトラゾリルである。置換基の
例は、ハロゲン、ヒドロキシ、ニトロ、アミノ、シアノ
、トリフルオロメチル、1〜4個の炭素原子を有するア
ルキルまたは1〜4個の炭素原子を有するアルコキシで
ある。
好ましいヘテロ芳香族アシル基は R l @ Iが2
−アミノ−4−チアゾリル、2−アミノ−5−ハロー4
−チアゾリル、4−アミノピリジン−2−イル、2−ア
ミノ−1 、3 、4−チアジアゾル−5−イル、2−
チエニル、2−7ラニル、4−ピリジニルまたは2.6
−ジクロロ−4−ピリジニルである上の式の基を包含す
る。
−アミノ−4−チアゾリル、2−アミノ−5−ハロー4
−チアゾリル、4−アミノピリジン−2−イル、2−ア
ミノ−1 、3 、4−チアジアゾル−5−イル、2−
チエニル、2−7ラニル、4−ピリジニルまたは2.6
−ジクロロ−4−ピリジニルである上の式の基を包含す
る。
(d)式
式中、R目1は低級アルキル、ヒドロキシ−低級アルキ
ルまたは芳香族基(炭素環式芳香族基を包含する)、例
えば、式 の芳香族基であり;ここでR@、R7およびR8は前に
定義したとおりであるか、あるいはR ”’について定
義したヘテロ芳香族基であり、そしてR120は低級ア
ルキルまたは置換低級アルキル(ここでアルキル基は1
または2以上のハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノおよ
び/またはメルカルプト基で置換されている)、例えば
、4−低級アルキル(好ましくはエチルまたはメチル)
−2.3−ジオキン−l−ピペラジンカルボニル−D−
フェニルグリシルである、 の[[(4−置換−2,3−ジオキソ−1−ピペラジニ
ル)カルボニル1アミノ1アリールアセチル基。
ルまたは芳香族基(炭素環式芳香族基を包含する)、例
えば、式 の芳香族基であり;ここでR@、R7およびR8は前に
定義したとおりであるか、あるいはR ”’について定
義したヘテロ芳香族基であり、そしてR120は低級ア
ルキルまたは置換低級アルキル(ここでアルキル基は1
または2以上のハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノおよ
び/またはメルカルプト基で置換されている)、例えば
、4−低級アルキル(好ましくはエチルまたはメチル)
−2.3−ジオキン−l−ピペラジンカルボニル−D−
フェニルグリシルである、 の[[(4−置換−2,3−ジオキソ−1−ピペラジニ
ル)カルボニル1アミノ1アリールアセチル基。
(e)式
%式%
式中 Rtillは上に定義したとおりであり、そして
R130は水素、低級アルキル、C1,−〇、シクロア
ルキル、カルボキシ−C1−07−シクロアルキルまた
は置換低級アルキル(ここで前記アルキル基は1または
2以上のハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカル
グト、低級アルキルチオ、芳香族基(R111によって
定義されるような)、カルボキシ(その塩類を包含する
)、低級アルカノイルアミノ、低級アルコキシカルボニ
ル、フェニルメトキシカルボニル、ジフェニルメトキシ
カルボニル、ヒドロキシ−低級アルコキシホスフィニル
、ジヒドロキシホスフィニ/呟 ヒドロキシ−(フェニ
ルメトキシ)−ホスフィニルまたはジ低級アルコキシホ
スフィニル置換基で置換されている)である、の(II
換ネオキシイミノアリールアセチル基。
R130は水素、低級アルキル、C1,−〇、シクロア
ルキル、カルボキシ−C1−07−シクロアルキルまた
は置換低級アルキル(ここで前記アルキル基は1または
2以上のハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカル
グト、低級アルキルチオ、芳香族基(R111によって
定義されるような)、カルボキシ(その塩類を包含する
)、低級アルカノイルアミノ、低級アルコキシカルボニ
ル、フェニルメトキシカルボニル、ジフェニルメトキシ
カルボニル、ヒドロキシ−低級アルコキシホスフィニル
、ジヒドロキシホスフィニ/呟 ヒドロキシ−(フェニ
ルメトキシ)−ホスフィニルまたはジ低級アルコキシホ
スフィニル置換基で置換されている)である、の(II
換ネオキシイミノアリールアセチル基。
R”’−0−N = C−G O−
■
RI0’
基の例は、つぎのとおりである:2−[(2−クロロア
セトアミドチアゾルー4−イル)]−[(p−二トロペ
ンジルオキシ力ルボニル)メトキシイミノコアセチル、
2−(2−クロロアセトアミドチアゾルー4−イル)−
2−メトキシイミノアセチル、2−(2−アミノチアゾ
ルー4−イル)−2−イソプロポキシ−イミノアセチル
、2−(2−アミノチアゾルー4−イル)−2−メトキ
シイミノアセチル、2−(2−アミノチアゾルー4−イ
ル)−2−ヒドロキシイミノアセチル、2−チエニル−
2−メトキシイミノアセチル、2−フリル−2−メトキ
シイミノアセチル、2−(4一ヒドロ士〜ジフェニル)
−2−メトキシイミノアセチル、2−フェニル−2−メ
トキシ−イミノアセチル、2−フェニル−2−ヒドロキ
シイミノアセチル、2−チエニル−2−ヒドロキシイミ
ノアセチル、2−チエニル−2−(ジクロロアセチルオ
キシイミノ)アセチル、2− [4−(γ−D−グルタ
ミルオキシ)フェニル]−2−ヒドロキシイミノアセチ
ル、2−[4−(3−アミノ−3−カルボキシプロポキ
シ)フェニル]−2−ヒドロキシイミノアセチル、2−
(5−クロロ−2−クロロアセトアミドチアゾルー4
−イル)−2−メトキシイミノアセチル、2−(5−ク
ロロ−2−アミノチアゾルー4−イル)−2−メトキシ
イミノアセチル、2−[2−(t−ブトキシカルボニル
)インプロポキシイミノ] −2−(2−スル7オアミ
ノーチアゾルー4−イル)アセチル、2−[2−(t−
ブトキシカルボニル)インプロポキシイミノ] −2−
(2−1−リフェニルメチルアミノーチアゾル−4−イ
ル)アセチル、2−(2−クロロアセトアミド−チアゾ
ルー4−イル)−2−イソプロポキシイミノアセチル、
2−メトキシイミノ−2−(2−スルフオアミノチアゾ
ルー4−イル)アセチル、2−(2−アミノチアゾルー
4−イル”) −2−(カルボキシメトキシイミノ)ア
セチル、2− (2−メシルアミノチアゾルー4−イル
)−2−イソプロポキシイミノアセチル、2−(2−イ
ミノ−3−メシル−4−チアゾリン−4−イル)−2−
イソプロポキシイミノアセチル、2−(2−アミノチア
ゾルー4−イル)−2−(カルポキシイソグロポキシイ
ミノ)アセチルなど。(f)式 %式% 式中 R1目は上に定義したとおりであり、そしてR”
’は (ここでR“、R7、Raおよびnは前に定義したとお
りである)、水素、低級アルキル、置換低級アルキル、
アミノ、アルキルアミノ、(シアノアルキル)アミノ、
またはアシルアミノである、 の(アシルアミノ)アリールアセチル基。
セトアミドチアゾルー4−イル)]−[(p−二トロペ
ンジルオキシ力ルボニル)メトキシイミノコアセチル、
2−(2−クロロアセトアミドチアゾルー4−イル)−
2−メトキシイミノアセチル、2−(2−アミノチアゾ
ルー4−イル)−2−イソプロポキシ−イミノアセチル
、2−(2−アミノチアゾルー4−イル)−2−メトキ
シイミノアセチル、2−(2−アミノチアゾルー4−イ
ル)−2−ヒドロキシイミノアセチル、2−チエニル−
2−メトキシイミノアセチル、2−フリル−2−メトキ
シイミノアセチル、2−(4一ヒドロ士〜ジフェニル)
−2−メトキシイミノアセチル、2−フェニル−2−メ
トキシ−イミノアセチル、2−フェニル−2−ヒドロキ
シイミノアセチル、2−チエニル−2−ヒドロキシイミ
ノアセチル、2−チエニル−2−(ジクロロアセチルオ
キシイミノ)アセチル、2− [4−(γ−D−グルタ
ミルオキシ)フェニル]−2−ヒドロキシイミノアセチ
ル、2−[4−(3−アミノ−3−カルボキシプロポキ
シ)フェニル]−2−ヒドロキシイミノアセチル、2−
(5−クロロ−2−クロロアセトアミドチアゾルー4
−イル)−2−メトキシイミノアセチル、2−(5−ク
ロロ−2−アミノチアゾルー4−イル)−2−メトキシ
イミノアセチル、2−[2−(t−ブトキシカルボニル
)インプロポキシイミノ] −2−(2−スル7オアミ
ノーチアゾルー4−イル)アセチル、2−[2−(t−
ブトキシカルボニル)インプロポキシイミノ] −2−
(2−1−リフェニルメチルアミノーチアゾル−4−イ
ル)アセチル、2−(2−クロロアセトアミド−チアゾ
ルー4−イル)−2−イソプロポキシイミノアセチル、
2−メトキシイミノ−2−(2−スルフオアミノチアゾ
ルー4−イル)アセチル、2−(2−アミノチアゾルー
4−イル”) −2−(カルボキシメトキシイミノ)ア
セチル、2− (2−メシルアミノチアゾルー4−イル
)−2−イソプロポキシイミノアセチル、2−(2−イ
ミノ−3−メシル−4−チアゾリン−4−イル)−2−
イソプロポキシイミノアセチル、2−(2−アミノチア
ゾルー4−イル)−2−(カルポキシイソグロポキシイ
ミノ)アセチルなど。(f)式 %式% 式中 R1目は上に定義したとおりであり、そしてR”
’は (ここでR“、R7、Raおよびnは前に定義したとお
りである)、水素、低級アルキル、置換低級アルキル、
アミノ、アルキルアミノ、(シアノアルキル)アミノ、
またはアシルアミノである、 の(アシルアミノ)アリールアセチル基。
上の式の好ましい(アシルアミノ)アリールアセチル基
は R140がアミノまたはアシルアミノである基を包
含する。また R111がフェニルまたは2−チエニル
である基は好ましい。
は R140がアミノまたはアシルアミノである基を包
含する。また R111がフェニルまたは2−チエニル
である基は好ましい。
(g)式
式中、R11′は上に定義したとおりであり、そしてH
ISは水素、アルキルスルホニル、アリールメチレンア
ミノ(すなわち、−N−c HRl l 1、ここでR
Illは上に定義したとおりである’) 、R”GO−
(ここでR”は水素、アルキルまたはハロゲン置換アル
キルである)、芳香族基(上においてR1目によって定
義されるような)、低級アルキルまたは置換低級アルキ
ル(ここで低級アルキル基は1または2以上のハロゲン
、シアノ、ニトロ、アミノおよび/またはメルカルプト
基で置換されている) の[[[3−置換−2−オキソ−1−イミダゾリジニル
)カルボニル]アミノ]アリールアセチル基O 上の式の好ましい[[[3−置換−2−オキソ−1−イ
ミダゾリジニル)カルボニル アリールアセチル基は Rillがフェニルまたは2−
チエニルである基である。また、RIsが水素、メチル
スルホニル、フェニルメチレンアミノまたは2−フリル
メチレンアミノである基は好ましい。
ISは水素、アルキルスルホニル、アリールメチレンア
ミノ(すなわち、−N−c HRl l 1、ここでR
Illは上に定義したとおりである’) 、R”GO−
(ここでR”は水素、アルキルまたはハロゲン置換アル
キルである)、芳香族基(上においてR1目によって定
義されるような)、低級アルキルまたは置換低級アルキ
ル(ここで低級アルキル基は1または2以上のハロゲン
、シアノ、ニトロ、アミノおよび/またはメルカルプト
基で置換されている) の[[[3−置換−2−オキソ−1−イミダゾリジニル
)カルボニル]アミノ]アリールアセチル基O 上の式の好ましい[[[3−置換−2−オキソ−1−イ
ミダゾリジニル)カルボニル アリールアセチル基は Rillがフェニルまたは2−
チエニルである基である。また、RIsが水素、メチル
スルホニル、フェニルメチレンアミノまたは2−フリル
メチレンアミノである基は好ましい。
3−位置のキノロニルまたはアザキノロニル置換基の好
ましい実施態様において、ZはR30Cであり、ここで
R”は水素、塩素またはフッ素、最も好ましくは水素ま
たはフッ素である。
ましい実施態様において、ZはR30Cであり、ここで
R”は水素、塩素またはフッ素、最も好ましくは水素ま
たはフッ素である。
R31は好ましくは低級アルキル、最も好ましくはエチ
ルまたはハロゲン−低級アルキル、最も好ましくはフル
オロエチル、またはC,−Cアーシクロアルキル、最も
好ましくはシクロプロピルである。
ルまたはハロゲン−低級アルキル、最も好ましくはフル
オロエチル、またはC,−Cアーシクロアルキル、最も
好ましくはシクロプロピルである。
R11は好ましくは低級アルキル、最も好ましくは、メ
チル、または4−窒素上において低級アルキル基、最も
好ましくはメチルで置換されていてもよいピペラジニル
である。
チル、または4−窒素上において低級アルキル基、最も
好ましくはメチルで置換されていてもよいピペラジニル
である。
R23は好ましくは水素、塩素またはフッ素、より好ま
しくは水素またはフッ素、なおより好ましくはフッ素で
ある。
しくは水素またはフッ素、なおより好ましくはフッ素で
ある。
ここで使用するとき、3−位置のキノロニルまたはアザ
キノロニル置換基は、なかでも、次の式の基を包含する
: 化合物の好ましいクラスは、式 R31 b 式中 R1は上に定義したとおりであり、R20はアミ
ノ保護基、例えば、トリチルまI;はクロロアセチルま
たは、好ましくは、水素であり%R”は水素、低級アル
キルまたは式%式% (式中、RoおよびRoは水素および低級アルキルから
成る群より選択されるか、あるいはそれらが結合する炭
素原子と一緒になって3〜7員の炭素環式環、例えば、
シクロプロピル、シクロブチルまたはシクロペンチルを
形成する)の基である、 をもつ。R2°が水素であり、そしてR21がメチルま
たは式 %式% 式中 R22およびRffi3は水素またはメチルから
成る群より選択される、 である弐1bの化合物は、なおいっそう好ましい。
キノロニル置換基は、なかでも、次の式の基を包含する
: 化合物の好ましいクラスは、式 R31 b 式中 R1は上に定義したとおりであり、R20はアミ
ノ保護基、例えば、トリチルまI;はクロロアセチルま
たは、好ましくは、水素であり%R”は水素、低級アル
キルまたは式%式% (式中、RoおよびRoは水素および低級アルキルから
成る群より選択されるか、あるいはそれらが結合する炭
素原子と一緒になって3〜7員の炭素環式環、例えば、
シクロプロピル、シクロブチルまたはシクロペンチルを
形成する)の基である、 をもつ。R2°が水素であり、そしてR21がメチルま
たは式 %式% 式中 R22およびRffi3は水素またはメチルから
成る群より選択される、 である弐1bの化合物は、なおいっそう好ましい。
好ましくは、 N−0−R”。
−C−および
N−0−R”
C−
基はsyn型、すなわち、Z型であるか、あるいはsy
n型が主要比率を占める混合物として存在する。
n型が主要比率を占める混合物として存在する。
式Iの化合物の加水分解容易なエステルとして、そのl
または2以上のカルボキシ基(すなわち、2−カルボキ
シ基および存在する場合能のカルボキシ基)が加水分解
容易なエステル基の形態で存在する式Iの化合物である
と理解すべきである。
または2以上のカルボキシ基(すなわち、2−カルボキ
シ基および存在する場合能のカルボキシ基)が加水分解
容易なエステル基の形態で存在する式Iの化合物である
と理解すべきである。
このようなエステルは普通のタイプであることができ、
その例は次のとおりである:アルカノイルオキシエステ
ル(例えば、アセトキシメチル、ピバロイルオキシメチ
ル、l−アセトキシエチルおよび1−ピバロイルオキシ
エチルエステル)、低級アルコキシカルボニルオキシア
ルキルエステル(例えば、メトキシカルボニルオキシメ
チル、l−エトキシカルボニルオキシエチル ソプロボキシ力ルポニルオキシエチルエステル)、ラク
トニルエステル(例えば、7タリジルおよびチオフタリ
ジルエステル)、低級アルコキシメチルエステル(例え
ば、メトキシメチルエステル)および低級アルカノイル
アミノメチルエステル(例えば、アセドアミントメチル
エステル)。他のエステル(例えば、ベンジルおよびシ
アノメチルエステル)を、また、使用できる。
その例は次のとおりである:アルカノイルオキシエステ
ル(例えば、アセトキシメチル、ピバロイルオキシメチ
ル、l−アセトキシエチルおよび1−ピバロイルオキシ
エチルエステル)、低級アルコキシカルボニルオキシア
ルキルエステル(例えば、メトキシカルボニルオキシメ
チル、l−エトキシカルボニルオキシエチル ソプロボキシ力ルポニルオキシエチルエステル)、ラク
トニルエステル(例えば、7タリジルおよびチオフタリ
ジルエステル)、低級アルコキシメチルエステル(例え
ば、メトキシメチルエステル)および低級アルカノイル
アミノメチルエステル(例えば、アセドアミントメチル
エステル)。他のエステル(例えば、ベンジルおよびシ
アノメチルエステル)を、また、使用できる。
式■の化合物の塩類の例は、アルカリ金属塩、例えば、
ナトリウム塩およびカリウム塩、アンモニウム塩、アル
カリ土類金属塩、例えば、カルシウム塩、有機塩基との
塩、例えば、アミンとの塩(例えば、N−エチル−ピペ
リジン、プロ力イン、ジベンジルアミン、N、N’−ジ
ベンジルエチレンジアミン、アルキルアミンまたはジア
ルキルアミンとの塩)ならびにアミノ酸との塩、例えば
、アルギニンまたはリジンとの塩である。
ナトリウム塩およびカリウム塩、アンモニウム塩、アル
カリ土類金属塩、例えば、カルシウム塩、有機塩基との
塩、例えば、アミンとの塩(例えば、N−エチル−ピペ
リジン、プロ力イン、ジベンジルアミン、N、N’−ジ
ベンジルエチレンジアミン、アルキルアミンまたはジア
ルキルアミンとの塩)ならびにアミノ酸との塩、例えば
、アルギニンまたはリジンとの塩である。
式!の化合物は、それらが塩基性官能基、例えば、アミ
ンを含有するとき、また、有機または無機の酸と付加塩
を形成する。このような塩の例は、次のとおりである:
ハロゲン化水素化物(例えば、塩酸塩、臭化水素化物お
よびヨウ化水素化物)ならびに他の無機酸塩、例えば、
硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩など、低級アルキネートおよ
びモノアリ−/レスルホネート、例えハ、エタンスルホ
ネート、トルエンスルホネート、ベンゼンスルホネート
など、およびまた、他の有機酸塩、例えば、酢酸塩、主
席酸塩、マレイン酸塩、サリチル酸塩、アスコルビン酸
塩など。
ンを含有するとき、また、有機または無機の酸と付加塩
を形成する。このような塩の例は、次のとおりである:
ハロゲン化水素化物(例えば、塩酸塩、臭化水素化物お
よびヨウ化水素化物)ならびに他の無機酸塩、例えば、
硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩など、低級アルキネートおよ
びモノアリ−/レスルホネート、例えハ、エタンスルホ
ネート、トルエンスルホネート、ベンゼンスルホネート
など、およびまた、他の有機酸塩、例えば、酢酸塩、主
席酸塩、マレイン酸塩、サリチル酸塩、アスコルビン酸
塩など。
式Iの化合物ならびにそれらの塩類および加水分解容易
なエステルは、水和することができる。
なエステルは、水和することができる。
水和は、製造過程において実施することができるか、あ
るいは最初に無水の生成物の吸湿性の結果、徐々に起こ
ることがある。
るいは最初に無水の生成物の吸湿性の結果、徐々に起こ
ることがある。
前述のアシル誘導体は、本発明に従い、(a)式Iのカ
ルボン酸の加水分解容易なエステルを製造するため、式 [0] 式中m%R1およびR2は上に定義したとおりであり、
Halはハロゲンであり、そしてR′は加水分解容易な
エステルの残基である、の化合物を、式 式中R″I%R”およびHssは上に定義したきおりで
ある、 のカルボチオン酸と反応させるか、あるいは(b)式I
のカルボン酸を製造するため、式[O)m m、R’ 1R” 、R33,R”おJ:(/R”は上
に定義したとおりであり、そしてRはエステル保護基で
ある、 のエステルを式lのカルボン酸に転化するか、あるいは (c)mが0である式■の化合物を製造するため、式 式中R1、R” 、R33,R”およびR33は上に定
義したとおりである、 の化合物を還元するか、あるいは (d)mが1または2である式■の化合物、またはその
エステルまたは塩を製造するため、弐式中R’ 、R1
、R31、R”#J:ヒR”glhに定義したとおりで
あり、そして点線はΔ2または△3の二重結合の存在を
示す、 の化合物またはそのエステルまたは塩を酸化するか、あ
るいは (e)R’がアミノ置換基を含有する式■の化合物、ま
たはそのエステルまたは塩を製造するため、式 [0] 式中m%R” 、R”%R”およびRs3は上に定義し
たとおりであり、そしてR”は保護されたアミノ基を含
有するアシル基である、の化合物またはそのエステルま
たは塩の置換基R”中のアミノ保護基を切り離すか、あ
るいはCf)式Iの化合物の加水分解容易なエステルを
製造するため、式Iのカルボン酸を対応するエステル化
に付すか、あるいは (g)式Iの化合物の塩類または水和物または前記塩類
の水和物を製造するため、式■の化合物を塩または水和
物に転化するか、あるいは前記塩の水和物に転化する、 ことからなる方法によって製造される。
ルボン酸の加水分解容易なエステルを製造するため、式 [0] 式中m%R1およびR2は上に定義したとおりであり、
Halはハロゲンであり、そしてR′は加水分解容易な
エステルの残基である、の化合物を、式 式中R″I%R”およびHssは上に定義したきおりで
ある、 のカルボチオン酸と反応させるか、あるいは(b)式I
のカルボン酸を製造するため、式[O)m m、R’ 1R” 、R33,R”おJ:(/R”は上
に定義したとおりであり、そしてRはエステル保護基で
ある、 のエステルを式lのカルボン酸に転化するか、あるいは (c)mが0である式■の化合物を製造するため、式 式中R1、R” 、R33,R”およびR33は上に定
義したとおりである、 の化合物を還元するか、あるいは (d)mが1または2である式■の化合物、またはその
エステルまたは塩を製造するため、弐式中R’ 、R1
、R31、R”#J:ヒR”glhに定義したとおりで
あり、そして点線はΔ2または△3の二重結合の存在を
示す、 の化合物またはそのエステルまたは塩を酸化するか、あ
るいは (e)R’がアミノ置換基を含有する式■の化合物、ま
たはそのエステルまたは塩を製造するため、式 [0] 式中m%R” 、R”%R”およびRs3は上に定義し
たとおりであり、そしてR”は保護されたアミノ基を含
有するアシル基である、の化合物またはそのエステルま
たは塩の置換基R”中のアミノ保護基を切り離すか、あ
るいはCf)式Iの化合物の加水分解容易なエステルを
製造するため、式Iのカルボン酸を対応するエステル化
に付すか、あるいは (g)式Iの化合物の塩類または水和物または前記塩類
の水和物を製造するため、式■の化合物を塩または水和
物に転化するか、あるいは前記塩の水和物に転化する、 ことからなる方法によって製造される。
実施態様(a)に従う式IIの化合物と式IIIの化合
物の塩との反応は、好ましくは、非ヒドロキシ溶媒、例
えば、ジメチルホルムアミド、塩化メチレンまたはN、
N’−ジメチルアセトアミド中で実施する。キノロン酸
の適当な塩は、例えば、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、テトラブチルアンモニウムまたはテトラメチルアン
モニウムである。Hatはハロゲン、好ましくは臭素ま
たはヨウ素である。この反応は、好ましくは、約0℃〜
80℃において実施し、室温は好ましい。
物の塩との反応は、好ましくは、非ヒドロキシ溶媒、例
えば、ジメチルホルムアミド、塩化メチレンまたはN、
N’−ジメチルアセトアミド中で実施する。キノロン酸
の適当な塩は、例えば、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、テトラブチルアンモニウムまたはテトラメチルアン
モニウムである。Hatはハロゲン、好ましくは臭素ま
たはヨウ素である。この反応は、好ましくは、約0℃〜
80℃において実施し、室温は好ましい。
実施態様(b)に従うエステルIVの脱保護は、使用す
るエステル保護基と適合性の物質を使用して実施する。
るエステル保護基と適合性の物質を使用して実施する。
エステル保護基Rとして、温和な条件下に遊離カルボキ
シル基に容易に転化することのできるエステル形態を使
用することができ、エステル保護基は、例えば、t−ブ
チル、p−ニトロベンジル、ベンズヒドリル、アリルな
どである。
シル基に容易に転化することのできるエステル形態を使
用することができ、エステル保護基は、例えば、t−ブ
チル、p−ニトロベンジル、ベンズヒドリル、アリルな
どである。
また、最終生成物として前述した加水分解容易なエステ
ルの残基を使用できる。例えば、次の試薬およびそれら
の対応する適合性のエステルを使用できる:溶媒、例え
ば、ジメチルホルムアミド(水性)中で約0°Cまたは
それ以下〜室温において硫化ナトリウムの存在下に加水
分解によって除去できるp−ニトロベンジル;溶媒の不
存在下にまたは補助溶媒、例えば、塩化メチレンの存在
下に約り℃〜室温においてアニソールの存在下にトリフ
ルオロ酢酸との反応によって除去できる1 −ブチル:
または2−エチルヘキサン酸のナトリウム塩またはカリ
ウム塩の存在下にパラジウム(0)触媒アリル交換反応
によって除去できるアリル、参照、ジャーナル・オブ・
オーガニック・ケミストリー(J 、 Q「g、 Ch
ew、 )、1982.47.587゜ 実施態様(c)に従うスルホキシドの還元は、種々の反
応の1つ、例えば、ジメチルホルムアミド中の三塩化リ
ンによる処理、またはアセトン/塩化メチレン中のヨウ
化ナトリウムの存在下のトリフルオロ酢酸無水物による
処理を利用して実施する。上の反応の両者は、約O℃〜
−20℃、好ましくは約0℃において実施できる。
ルの残基を使用できる。例えば、次の試薬およびそれら
の対応する適合性のエステルを使用できる:溶媒、例え
ば、ジメチルホルムアミド(水性)中で約0°Cまたは
それ以下〜室温において硫化ナトリウムの存在下に加水
分解によって除去できるp−ニトロベンジル;溶媒の不
存在下にまたは補助溶媒、例えば、塩化メチレンの存在
下に約り℃〜室温においてアニソールの存在下にトリフ
ルオロ酢酸との反応によって除去できる1 −ブチル:
または2−エチルヘキサン酸のナトリウム塩またはカリ
ウム塩の存在下にパラジウム(0)触媒アリル交換反応
によって除去できるアリル、参照、ジャーナル・オブ・
オーガニック・ケミストリー(J 、 Q「g、 Ch
ew、 )、1982.47.587゜ 実施態様(c)に従うスルホキシドの還元は、種々の反
応の1つ、例えば、ジメチルホルムアミド中の三塩化リ
ンによる処理、またはアセトン/塩化メチレン中のヨウ
化ナトリウムの存在下のトリフルオロ酢酸無水物による
処理を利用して実施する。上の反応の両者は、約O℃〜
−20℃、好ましくは約0℃において実施できる。
実施態様(d)に従う化合物v■の酸化は、Δ2異性体
をnが1または2である式Iの対応する△3異性体に異
性化する。酸化は有機または無機の酸化剤で処理するこ
とによって実施する。酸素を容易に生ずる種々の化合物
を酸化剤として使用することができ、その例は次のとお
りである:有機過酸化物、例えば、−置換有機過酸化物
(例えば、C,−C,アルキル−またはアルカノイルヒ
ドロペルオキシド、例えば、(−ブチルヒドロペルオキ
シド)、過ギ酸および過酢酸、ならびにこれらのヒドロ
ペルオキシドのフェニル置換誘導体、例えば、クメンヒ
ドロペルオキシドおよび退化安息香酸。フェニル置換基
は、必要に応じて、さらに次の基を有することができる
:低級の基(例えば、C,−C,アルキルまたはアルコ
キシ基)、ハロゲン原子またはカルボキシ基(例えば、
4−メチル過安息香酸、4−メトキシ−過安息香酸、3
−クロロ過安息香酸およびモノ過7タル酸)。
をnが1または2である式Iの対応する△3異性体に異
性化する。酸化は有機または無機の酸化剤で処理するこ
とによって実施する。酸素を容易に生ずる種々の化合物
を酸化剤として使用することができ、その例は次のとお
りである:有機過酸化物、例えば、−置換有機過酸化物
(例えば、C,−C,アルキル−またはアルカノイルヒ
ドロペルオキシド、例えば、(−ブチルヒドロペルオキ
シド)、過ギ酸および過酢酸、ならびにこれらのヒドロ
ペルオキシドのフェニル置換誘導体、例えば、クメンヒ
ドロペルオキシドおよび退化安息香酸。フェニル置換基
は、必要に応じて、さらに次の基を有することができる
:低級の基(例えば、C,−C,アルキルまたはアルコ
キシ基)、ハロゲン原子またはカルボキシ基(例えば、
4−メチル過安息香酸、4−メトキシ−過安息香酸、3
−クロロ過安息香酸およびモノ過7タル酸)。
種々の無機酸化剤を、また、酸化剤として使用すること
ができ、その例は次のとおりである二過酸化水素、オゾ
ン、過マンガン酸塩、例えば、過マンガン酸カリウムま
たは過マンガン酸ナトリウム、次亜塩素酸塩、例えば、
次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウムまたは次亜
塩素酸アンモニウム、ペルオキシモノ硫酸およびベルオ
キシジ硫酸。
ができ、その例は次のとおりである二過酸化水素、オゾ
ン、過マンガン酸塩、例えば、過マンガン酸カリウムま
たは過マンガン酸ナトリウム、次亜塩素酸塩、例えば、
次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウムまたは次亜
塩素酸アンモニウム、ペルオキシモノ硫酸およびベルオ
キシジ硫酸。
3−クロロ過安息香酸の使用は好ましい。酸化は、有利
には、不活性溶媒、例えば、非プロトン性不活性溶媒、
例えば、テトラヒドロフラン、クオキサン、塩化メチレ
ン、クロロホルム、酢酸エチルまたはアセトン中におい
て、あるいはプロトン性溶媒、例えば、水、低級アルカ
ノール(例えば、塩化メチレンまたはエタノール)また
はハロゲン化されていてもよい低級アルカンカルボン酸
(例えば、ギ酸、酢酸またはトリフルオロ酢酸)中にお
いて実施する。酸化は、一般に、−20℃〜+50℃の
範囲の温度において実施する。
には、不活性溶媒、例えば、非プロトン性不活性溶媒、
例えば、テトラヒドロフラン、クオキサン、塩化メチレ
ン、クロロホルム、酢酸エチルまたはアセトン中におい
て、あるいはプロトン性溶媒、例えば、水、低級アルカ
ノール(例えば、塩化メチレンまたはエタノール)また
はハロゲン化されていてもよい低級アルカンカルボン酸
(例えば、ギ酸、酢酸またはトリフルオロ酢酸)中にお
いて実施する。酸化は、一般に、−20℃〜+50℃の
範囲の温度において実施する。
酸化剤を出発物質に関して等モル量であるいはわずかに
過剰量で使用するとき、主として対応するスルホキシド
、すなわち、mが1である式■の化合物が得られる。酸
化剤の量を理論量の2倍以上に増加すると、対応するス
ルホン、すなわち、mが2である式■の化合物が得られ
る。また、対応するスルホキトから等モル以上の量の酸
化剤で処理することによってスルホンを得ることが可能
である。この方法の条件は、スルホキトの製造における
のと本質的に同一である。
過剰量で使用するとき、主として対応するスルホキシド
、すなわち、mが1である式■の化合物が得られる。酸
化剤の量を理論量の2倍以上に増加すると、対応するス
ルホン、すなわち、mが2である式■の化合物が得られ
る。また、対応するスルホキトから等モル以上の量の酸
化剤で処理することによってスルホンを得ることが可能
である。この方法の条件は、スルホキトの製造における
のと本質的に同一である。
実施態様(e)に従い化合物VIIの置換基R”中のア
ミノ保護基を切り離すと、遊離アミノ基を有する対応す
る式Iの化合物が得られる。可能なアミノ保護基は、ペ
プチド化学において使用するもの、例えば、アルコキシ
カルボニル基、例えば、t−ブトキシカルボニルなど、
置換アルコキシカルボニル基、例えば、トリクロロエト
キシカルボニルなど、置換アラルコキシカルボニル、例
えば、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、アラルキ
ル基、例えば、トリチルまたはベンズヒドリルまたはハ
ロゲン−アルカノイル基、例えば、クロロアセチル、ブ
ロモアセチル、ヨウドアセチルまたはトリフルオロアセ
チルである。
ミノ保護基を切り離すと、遊離アミノ基を有する対応す
る式Iの化合物が得られる。可能なアミノ保護基は、ペ
プチド化学において使用するもの、例えば、アルコキシ
カルボニル基、例えば、t−ブトキシカルボニルなど、
置換アルコキシカルボニル基、例えば、トリクロロエト
キシカルボニルなど、置換アラルコキシカルボニル、例
えば、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、アラルキ
ル基、例えば、トリチルまたはベンズヒドリルまたはハ
ロゲン−アルカノイル基、例えば、クロロアセチル、ブ
ロモアセチル、ヨウドアセチルまたはトリフルオロアセ
チルである。
好ましい保護基はt−ブトキシカルボニル(t−BOC
)およびトリチルである。
)およびトリチルである。
アミノ保護基は、酸性加水分解(例えば、1−ブトキシ
カルボニル基)によって、あるいは塩基性加水分解(例
えば、トリフルオロアセチル基)によって切り離すこと
ができる。クロロアセチル、ブロモアセチルおよびヨウ
ドアセチル基はチオ尿素の処理によって切り離しされる
。
カルボニル基)によって、あるいは塩基性加水分解(例
えば、トリフルオロアセチル基)によって切り離すこと
ができる。クロロアセチル、ブロモアセチルおよびヨウ
ドアセチル基はチオ尿素の処理によって切り離しされる
。
酸性加水分解によって切り離されるアミノ保護基は、好
ましくは、ハロゲン化されていてもよい低級アルカンカ
ルボン酸の助けによって除去する。
ましくは、ハロゲン化されていてもよい低級アルカンカ
ルボン酸の助けによって除去する。
とくに、ギ酸またはトリフルオロ酢酸を使用する。
酸性加水分解は、一般に、室温において実施するが、そ
れよりわずかに高いかあるいは低い温度(例えば、約0
6C〜+40℃の範囲の温度)において実施することが
できる。塩基性条件下に切り離し可能である保護基は、
一般に、0°C〜30℃において希薄な水性力性アルカ
リを使用して加水分解する。クロロアセチル、ブロモア
セチルおよびヨウドアセチル保護基は、酸性、中性また
はアルカリ性の媒質中において約0℃〜30℃において
チオ尿素を使用して切り離すことができる。
れよりわずかに高いかあるいは低い温度(例えば、約0
6C〜+40℃の範囲の温度)において実施することが
できる。塩基性条件下に切り離し可能である保護基は、
一般に、0°C〜30℃において希薄な水性力性アルカ
リを使用して加水分解する。クロロアセチル、ブロモア
セチルおよびヨウドアセチル保護基は、酸性、中性また
はアルカリ性の媒質中において約0℃〜30℃において
チオ尿素を使用して切り離すことができる。
本発明によって提供される方法の実施態様Cf)に従い
式Iの化合物のカルボン酸の加水分解容易なエステルを
製造するために、式Iのカルボン酸を、好ましくは、所
望のエステル基を含有する対応するハライド、好ましく
はヨウ化物と反応させる。この反応は、塩基、例えば、
アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩または有機
アミン、例えば、トリエチルアミンの助けによって促進
することができる。エステル化は、好ましくは1.不活
性有機溶媒、例えば、ジメチルスルホキシド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド、ジメチルスルホキシドまたは、
ことに、ジメチルホルムアミド中において実施する。こ
の反応は、好ましくは、約0°C〜40°Cの範囲の温
度において実施する。
式Iの化合物のカルボン酸の加水分解容易なエステルを
製造するために、式Iのカルボン酸を、好ましくは、所
望のエステル基を含有する対応するハライド、好ましく
はヨウ化物と反応させる。この反応は、塩基、例えば、
アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩または有機
アミン、例えば、トリエチルアミンの助けによって促進
することができる。エステル化は、好ましくは1.不活
性有機溶媒、例えば、ジメチルスルホキシド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド、ジメチルスルホキシドまたは、
ことに、ジメチルホルムアミド中において実施する。こ
の反応は、好ましくは、約0°C〜40°Cの範囲の温
度において実施する。
本発明によって提供される実施態様(g)に従う式■の
化合物の塩および水和物または前記塩の水和物の製造は
、それ自体既知の方法において、例えば、式■のカルボ
ン酸を当量の所望の塩基と、便利には溶媒、例えば、水
または有機溶媒(例えば、エタノール、メタノール、ア
セトンなど)中において、反応させることによって実施
できる。
化合物の塩および水和物または前記塩の水和物の製造は
、それ自体既知の方法において、例えば、式■のカルボ
ン酸を当量の所望の塩基と、便利には溶媒、例えば、水
または有機溶媒(例えば、エタノール、メタノール、ア
セトンなど)中において、反応させることによって実施
できる。
塩の形成を実施する温度は臨界的ではない。塩の形成は
、一般に、室温において実施するが、室温よりわずかに
高いかあるいは低い温度、例えば、0°C〜+50℃の
範囲において実施できる。
、一般に、室温において実施するが、室温よりわずかに
高いかあるいは低い温度、例えば、0°C〜+50℃の
範囲において実施できる。
水和物の製造は、通常、製造法の途中で自動的に起こる
か、あるいは最初に無水の生成物の吸湿性の結果として
起こる。水和物の制御された製造のだ・め、式Iの完全
にまたは部分的に無水のカルボン酸またはその塩を、湿
気を含んだ雰囲気に(例えば、約+lO℃〜+40℃に
おいて)暴露することができる。
か、あるいは最初に無水の生成物の吸湿性の結果として
起こる。水和物の制御された製造のだ・め、式Iの完全
にまたは部分的に無水のカルボン酸またはその塩を、湿
気を含んだ雰囲気に(例えば、約+lO℃〜+40℃に
おいて)暴露することができる。
本発明に従い生成物を得る方法の例は、次の反応図■で
ある: R’ % R” % R33,Ro、R,Zおよび点線
の結合はすべて上に定義したとおりであり、そしてXは
カチオンである。
ある: R’ % R” % R33,Ro、R,Zおよび点線
の結合はすべて上に定義したとおりであり、そしてXは
カチオンである。
反応図■
対応するキノロンのカルボン酸の形態を、2−フルオロ
−1−メチルピリジニウム塩の処理によって活性化した
。この活性化された酸をトリフェニルメチルメルカプタ
ンおよび4−ジメチルアミノピリジンに暴露すると、式 式中R33,R33,R33およびZは上に定義したと
おりであり、そしてphはフェニルである、 のチオエステルが得られた。
−1−メチルピリジニウム塩の処理によって活性化した
。この活性化された酸をトリフェニルメチルメルカプタ
ンおよび4−ジメチルアミノピリジンに暴露すると、式 式中R33,R33,R33およびZは上に定義したと
おりであり、そしてphはフェニルである、 のチオエステルが得られた。
式XIの化合物を水性酸、好ましくは塩酸で処理し、次
いで塩基、好ましくは水酸化カリウムで中和して、式 式中R”% R33,R33およびZは上に定義したと
おりであり、そしてxlはカチオンである、 のチオン酸塩が得られた。
いで塩基、好ましくは水酸化カリウムで中和して、式 式中R”% R33,R33およびZは上に定義したと
おりであり、そしてxlはカチオンである、 のチオン酸塩が得られた。
IIa→VIII
式IIaの化合物は、既知であるかあるいは類似の方法
によって製造され(参照、米国特許第4゜406.89
9号および米国特許第4.266.049号)、選択し
たキノロンの塩、すなわち、式Xの化合物と反応させる
。この反応は、別法(a)について前述したように実施
する。エステル選択した保護基および使用するノ)ロゲ
ンに依存して、式Vlllの反応生成物のセフェム環中
の二重結合は、異性化のためにイオウ原子に関して、△
3または△2であることができる。
によって製造され(参照、米国特許第4゜406.89
9号および米国特許第4.266.049号)、選択し
たキノロンの塩、すなわち、式Xの化合物と反応させる
。この反応は、別法(a)について前述したように実施
する。エステル選択した保護基および使用するノ)ロゲ
ンに依存して、式Vlllの反応生成物のセフェム環中
の二重結合は、異性化のためにイオウ原子に関して、△
3または△2であることができる。
VIII→IaおよびVla
その後、式VIIIの化合物を、別法(b)について前
述したように脱保護して、式1aのカルボン酸またはそ
れと式ViaのΔ2異性体との混合物を得る。
述したように脱保護して、式1aのカルボン酸またはそ
れと式ViaのΔ2異性体との混合物を得る。
Vla−=V
二重結合の異性化が起こると、その後代Vlaの化合物
を別法(d)について記載したように、例えば、過酸、
例えば、メタクロロ過安息香酸で、溶媒、例えば、塩化
メチレン中において、−20℃〜40℃、好ましくは約
θ℃の反応温度において酸化する。
を別法(d)について記載したように、例えば、過酸、
例えば、メタクロロ過安息香酸で、溶媒、例えば、塩化
メチレン中において、−20℃〜40℃、好ましくは約
θ℃の反応温度において酸化する。
V−+Ia
式Vの化合物はそれ自体式■に包含される最終生成物で
ある。しかしながら、それを別法(C)について前述し
たように最終生成物に還元することができる。
ある。しかしながら、それを別法(C)について前述し
たように最終生成物に還元することができる。
基 N −OR+30
−C−または
N −0−R”
C−
(上を参照)を含有する式■の化合物は、好ましくは5
ynWとして存在する。このようなsynをは、5yn
ffiで予備形成したこの基を含有する出発物質を使用
することによって得ることができる。あるいは、得られ
るsyn/anti混合物は、通常の方法において、例
えば、再結晶化によって、あるいは適当な溶媒または溶
媒混合物を使用するクロマトグラフィーの方法によって
、対応するsyn型およびanti型に分割することが
できる。
ynWとして存在する。このようなsynをは、5yn
ffiで予備形成したこの基を含有する出発物質を使用
することによって得ることができる。あるいは、得られ
るsyn/anti混合物は、通常の方法において、例
えば、再結晶化によって、あるいは適当な溶媒または溶
媒混合物を使用するクロマトグラフィーの方法によって
、対応するsyn型およびanti型に分割することが
できる。
式■の化合物、それらの塩および対応する水和物および
エステルは、哺乳動物の種、例えば、イヌ、ネコ、ウマ
など、およびヒトにおけるバクテリアの感染(尿道の感
染および呼吸器の感染を包含する)を防除する物質とし
て使用できる。これらの七ファロスポリンは抗バクテリ
ア活性であり、そして広い範囲のダラム陰性バクテリア
およびグラム陽性バクテリアの両者に対して活性を示す
。
エステルは、哺乳動物の種、例えば、イヌ、ネコ、ウマ
など、およびヒトにおけるバクテリアの感染(尿道の感
染および呼吸器の感染を包含する)を防除する物質とし
て使用できる。これらの七ファロスポリンは抗バクテリ
ア活性であり、そして広い範囲のダラム陰性バクテリア
およびグラム陽性バクテリアの両者に対して活性を示す
。
種々のダラム陽性およびダラム陰性の有機体に対してブ
ロス希釈法を使用して最小阻害濃度(MIC)(マイク
ロダラム/ m + )によって測定した、本発明の化
合物の生体外活性は、次によって表すことができる: [6R−[6a、7β(Z)]] −7−[[(2−ア
ミノ−4−チアゾリル)(メトキシイミノ)アセチルコ
アミノ] −3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−(
2−フルオロエチル)−1゜4−ジヒドロ−7−(4−
メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリ
ニル1カルボニル]チオ]メチル]−8−オキソ−5−
チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エ
ン−カルボン酸−ナトリウム塩三水和物の生体外活性は
、次のとおりであった: MIC’ ED、、’ Escherchia coli 2 5 7 0.062
5 <2D CO0,125 DC,≦0.0157 Pseudomonas aeruginoSa Staphy30coccus aureus Sm1th 2
43Streptococcus pneumoniae 6301 ≦0.0157a)ME
C(pg/mI) b)ED、。(mg/kg) 哺乳動物におけるバクテリアの感染を防除するため、本
発明の化合物は、投与を必要とする哺乳動物に、約5m
g/kg/日〜約500 m g /kg/日、好まし
くは約10mg/kg/日〜約55mg/kg/日の量
で投与することができる。
ロス希釈法を使用して最小阻害濃度(MIC)(マイク
ロダラム/ m + )によって測定した、本発明の化
合物の生体外活性は、次によって表すことができる: [6R−[6a、7β(Z)]] −7−[[(2−ア
ミノ−4−チアゾリル)(メトキシイミノ)アセチルコ
アミノ] −3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−(
2−フルオロエチル)−1゜4−ジヒドロ−7−(4−
メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリ
ニル1カルボニル]チオ]メチル]−8−オキソ−5−
チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エ
ン−カルボン酸−ナトリウム塩三水和物の生体外活性は
、次のとおりであった: MIC’ ED、、’ Escherchia coli 2 5 7 0.062
5 <2D CO0,125 DC,≦0.0157 Pseudomonas aeruginoSa Staphy30coccus aureus Sm1th 2
43Streptococcus pneumoniae 6301 ≦0.0157a)ME
C(pg/mI) b)ED、。(mg/kg) 哺乳動物におけるバクテリアの感染を防除するため、本
発明の化合物は、投与を必要とする哺乳動物に、約5m
g/kg/日〜約500 m g /kg/日、好まし
くは約10mg/kg/日〜約55mg/kg/日の量
で投与することができる。
過去においてペニシリンおよびセファロスポリンを感染
の部位に供給するために使用されて来ているすべての投
与のモードが、また、本発明の二重作用のセファロスポ
リンの新規な族とともに使用するこkが考えられる。こ
のような投与の方法は、静脈内、筋肉内および腸内の投
与を包含する。
の部位に供給するために使用されて来ているすべての投
与のモードが、また、本発明の二重作用のセファロスポ
リンの新規な族とともに使用するこkが考えられる。こ
のような投与の方法は、静脈内、筋肉内および腸内の投
与を包含する。
本発明によって提供されるセファロスポリン誘導体は、
薬物として使用できる:例えば、それらを適合性の製薬
学的担体物質と関連して含有する製薬学的調製物の形態
。この担体物質は、腸内または非経口的投与に適する有
機または無機の不活性担体物質、例えば、水、ゼラチン
、アラビヤゴム、ラクトース、澱粉、ステアリ酸マグネ
シウム、タルク、植物性油、ポリアルキレングリコール
、石油ゼリーなどであることができる。製薬学的調製物
は、固体の形態(例えば、錠剤、糖剤、座薬またはカプ
セル剤)で、あるいは液体の形5(flIえば、溶液、
懸濁液または乳濁液)で調製することができる。製薬学
的調製物は、滅菌することができ、および/またはアジ
ュバント、例えば、防腐剤、安定剤、湿潤剤または乳化
剤、浸透圧調節塩、麻酔剤または緩衝剤を含有すること
ができる。
薬物として使用できる:例えば、それらを適合性の製薬
学的担体物質と関連して含有する製薬学的調製物の形態
。この担体物質は、腸内または非経口的投与に適する有
機または無機の不活性担体物質、例えば、水、ゼラチン
、アラビヤゴム、ラクトース、澱粉、ステアリ酸マグネ
シウム、タルク、植物性油、ポリアルキレングリコール
、石油ゼリーなどであることができる。製薬学的調製物
は、固体の形態(例えば、錠剤、糖剤、座薬またはカプ
セル剤)で、あるいは液体の形5(flIえば、溶液、
懸濁液または乳濁液)で調製することができる。製薬学
的調製物は、滅菌することができ、および/またはアジ
ュバント、例えば、防腐剤、安定剤、湿潤剤または乳化
剤、浸透圧調節塩、麻酔剤または緩衝剤を含有すること
ができる。
製薬学的調製物は、また、他の治療学的に価値ある物質
を含有することができる。式■のカルボン酸ならびにそ
れらの塩および水和物は、本質的に、非経口的投与に適
し、そして、この目的に対して、それらは、好ましくは
、慣用の物質、例えば、水または等張塩化ナトリウム溶
液、ならびに溶媒の仲介物質、例えば、プロピレングリ
コールで希釈するための、凍結乾燥物または乾燥粉末の
形態で調製する。式lの加水分解容易なエステルは、ま
た、腸内の投与に適する。
を含有することができる。式■のカルボン酸ならびにそ
れらの塩および水和物は、本質的に、非経口的投与に適
し、そして、この目的に対して、それらは、好ましくは
、慣用の物質、例えば、水または等張塩化ナトリウム溶
液、ならびに溶媒の仲介物質、例えば、プロピレングリ
コールで希釈するための、凍結乾燥物または乾燥粉末の
形態で調製する。式lの加水分解容易なエステルは、ま
た、腸内の投与に適する。
次の実施例によって本発明を説明するが、これらは本発
明を限定しない。
明を限定しない。
実施例1
乾燥ジクロロメタン注の2−フルオロ−1−メチルビリ
ジウムp−)ルエンスルホネート(21゜25g、0.
075モル)の懸濁液を、氷塩浴中で−15°C〜−1
O℃に冷却しかつアルゴン下に撹拌した。この混合物に
、6,8−ジフルオロ−1−(2−フルオロエチル)−
1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニ
ル)−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸(22,1
6g。
ジウムp−)ルエンスルホネート(21゜25g、0.
075モル)の懸濁液を、氷塩浴中で−15°C〜−1
O℃に冷却しかつアルゴン下に撹拌した。この混合物に
、6,8−ジフルオロ−1−(2−フルオロエチル)−
1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニ
ル)−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸(22,1
6g。
0.06モル)および4−ジメチルアミノピリジン(7
,32g、0.06モル)を−1Q℃においてゆっくり
添加した。この黄色反応混合物を一10℃において30
分間撹拌し、次いでトリフェニルメチルメルカプタン(
16,6g、0.06モル)および4−ジメチルアミノ
ピリジン(7,32g、0.06モル)を−20℃にお
いて添加し、この混合物をゆっくり230Cに平衡化し
、そして撹拌を16時間続けた。それをCHzClz(
約1.0Q)で希釈した。減圧下に溶媒を濃縮すると、
45gの黄色油が得られ、これをシリカゲル(600g
)のフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、そ
れをCH,CI!中の20%のアセトンで溶離した。所
望の生成物を含有する分画を一緒にし、そして真空下に
濃縮すると、6,8−ジフルオロ−1−(2−フルオロ
エチル)−1゜4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−
ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリンカルボチオ
ン酸S−トリフェニルメチルエステル半水和物が得られ
た。
,32g、0.06モル)を−1Q℃においてゆっくり
添加した。この黄色反応混合物を一10℃において30
分間撹拌し、次いでトリフェニルメチルメルカプタン(
16,6g、0.06モル)および4−ジメチルアミノ
ピリジン(7,32g、0.06モル)を−20℃にお
いて添加し、この混合物をゆっくり230Cに平衡化し
、そして撹拌を16時間続けた。それをCHzClz(
約1.0Q)で希釈した。減圧下に溶媒を濃縮すると、
45gの黄色油が得られ、これをシリカゲル(600g
)のフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、そ
れをCH,CI!中の20%のアセトンで溶離した。所
望の生成物を含有する分画を一緒にし、そして真空下に
濃縮すると、6,8−ジフルオロ−1−(2−フルオロ
エチル)−1゜4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−
ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリンカルボチオ
ン酸S−トリフェニルメチルエステル半水和物が得られ
た。
実施例2
テトラヒドロフラン(30m l)中の6.8−ジフル
オロ−1−(2−フルオロエチル)−1゜4−ジヒドロ
−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ
−3−キノリンカルボチオン酸S−トリフェニルメチル
エステル半水和物(6,1g、9.6ミリモル)および
水性6N HCl(6ml)の混合物を、23℃にお
いて16時間アルゴン下に撹拌した。それを30℃にお
いて濃縮し、次いで水(50ml)およびCHC1s
(50m l )中に取った。この混合物を1、ON
KOH水溶液(約55m1)でpH約llに処理した
。それをCHCl s (2X 50 ml)で抽出し
I;。−緒にしたCHCl、抽出液を水(2X50ml
)で逆抽出しt;。有機抽出液を乾燥(M g s O
4) L、そして濃縮すると、2.57gの泡が得られ
、これは薄相クロマトグラフィーにより、はとんどが出
発チオエステルであることが示された。−緒にした水性
相をC1,逆相クロマトグラフィーのカラム(30ng
)に通過させ、そしてアセトニトリル−水の3%〜20
%の勾配で溶離した。所望の生成物を含有する分画を一
緒にし、そして真空下に濃縮してアセトニトリルを除去
した。水溶液を凍結乾燥すると、6゜8−ジフルオロ−
1−(2−yルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−
(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−
キノリンカルボチオン酸カリウム塩水和物が黄色固体と
して得られた。
オロ−1−(2−フルオロエチル)−1゜4−ジヒドロ
−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ
−3−キノリンカルボチオン酸S−トリフェニルメチル
エステル半水和物(6,1g、9.6ミリモル)および
水性6N HCl(6ml)の混合物を、23℃にお
いて16時間アルゴン下に撹拌した。それを30℃にお
いて濃縮し、次いで水(50ml)およびCHC1s
(50m l )中に取った。この混合物を1、ON
KOH水溶液(約55m1)でpH約llに処理した
。それをCHCl s (2X 50 ml)で抽出し
I;。−緒にしたCHCl、抽出液を水(2X50ml
)で逆抽出しt;。有機抽出液を乾燥(M g s O
4) L、そして濃縮すると、2.57gの泡が得られ
、これは薄相クロマトグラフィーにより、はとんどが出
発チオエステルであることが示された。−緒にした水性
相をC1,逆相クロマトグラフィーのカラム(30ng
)に通過させ、そしてアセトニトリル−水の3%〜20
%の勾配で溶離した。所望の生成物を含有する分画を一
緒にし、そして真空下に濃縮してアセトニトリルを除去
した。水溶液を凍結乾燥すると、6゜8−ジフルオロ−
1−(2−yルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−
(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−
キノリンカルボチオン酸カリウム塩水和物が黄色固体と
して得られた。
実施例3
20m1のジメチルホルムアミド中の6.8−ジフルオ
ロ−1−(2−フルオロエチル)−1゜4−ジヒドロ−
7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−
3−キノリンカルボチオン酸カリウム塩水和物(1,8
mg)および2.0gのプロピレンオキシドの混合物を
、23℃においてアルゴン下に撹拌した。この混合物に
、乾燥CHCIs(25ml)中の[6R−[6σ、7
β(Z)]] −7−[[[[(メトキシイミノ)−2
−(トリフェニルメチル)アミノ]−4−チアゾリル1
アセチル1アミノ] −3−(ヨウトメチル)−8−オ
キソ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オク
ト−2−エン−カルボン酸を一ブチルエステル(3,6
9g、4.5ミリモル)の溶液を添加し、そして撹拌を
アルゴン下に3Q分間続けた。この反応混合物を酢酸エ
チル(100ml)中に取り、そして水(IX30om
t)およびブライン(2X100m+)で洗浄した。水
性洗浄液を酢酸エチル(2X100ml)で逆抽出した
。有機抽出液を一緒にし、乾燥(MgS04)し、そし
てろ過した。溶媒を減圧下に濃縮すると、4.1gの粗
生成物が得られ、これをシリカゲル(125g)のフラ
ッシュクロマトグラフィーにかけた。CHCl、中の2
%〜4%のCH30Hの勾配で溶離すると、所望の生成
物を含有する分画6〜13が得られた。減圧下に溶媒を
蒸発乾固すると、追う褐色固体かえられた:[6R−[
6σ、7β(Z)] ] −]]3− [[[6,8−
ジフルオロ−1−(2−フルオロエチル)−1゜4−ジ
ヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−
オキソ−3−キノリニル]カルボニル]チオ]メチル]
−7−[[[[(メトキシイミノ)−2−(トリフル
オロメチル)アミノ]−チアゾリル]アセチル]アミノ
】−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2
,0]オクト−2−エン−カルボン酸1.1−’;メチ
ルエチルエステル。
ロ−1−(2−フルオロエチル)−1゜4−ジヒドロ−
7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−
3−キノリンカルボチオン酸カリウム塩水和物(1,8
mg)および2.0gのプロピレンオキシドの混合物を
、23℃においてアルゴン下に撹拌した。この混合物に
、乾燥CHCIs(25ml)中の[6R−[6σ、7
β(Z)]] −7−[[[[(メトキシイミノ)−2
−(トリフェニルメチル)アミノ]−4−チアゾリル1
アセチル1アミノ] −3−(ヨウトメチル)−8−オ
キソ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オク
ト−2−エン−カルボン酸を一ブチルエステル(3,6
9g、4.5ミリモル)の溶液を添加し、そして撹拌を
アルゴン下に3Q分間続けた。この反応混合物を酢酸エ
チル(100ml)中に取り、そして水(IX30om
t)およびブライン(2X100m+)で洗浄した。水
性洗浄液を酢酸エチル(2X100ml)で逆抽出した
。有機抽出液を一緒にし、乾燥(MgS04)し、そし
てろ過した。溶媒を減圧下に濃縮すると、4.1gの粗
生成物が得られ、これをシリカゲル(125g)のフラ
ッシュクロマトグラフィーにかけた。CHCl、中の2
%〜4%のCH30Hの勾配で溶離すると、所望の生成
物を含有する分画6〜13が得られた。減圧下に溶媒を
蒸発乾固すると、追う褐色固体かえられた:[6R−[
6σ、7β(Z)] ] −]]3− [[[6,8−
ジフルオロ−1−(2−フルオロエチル)−1゜4−ジ
ヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−
オキソ−3−キノリニル]カルボニル]チオ]メチル]
−7−[[[[(メトキシイミノ)−2−(トリフル
オロメチル)アミノ]−チアゾリル]アセチル]アミノ
】−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2
,0]オクト−2−エン−カルボン酸1.1−’;メチ
ルエチルエステル。
実施例4
20m1のCH,CI、中の[6R−[6σ、7βCZ
)] ] −]]3− [[[6,8−ジフルオロ−1
−(2−フルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(
4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キ
ノリニル]カルボニル]チオ]メチル]−7−[[[[
(メトキシイミノ)−2−(トリフルオロメチル)アミ
ノ]−チアゾリル]アセチル]アミノ]−8−オキソ−
5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2
−エン−カルボン酸1.1−ジメチルエチルエステル(
1,9g、2.2ミリモル)、2mlのアニソール、お
よび0.1mlの1.2−エタンジチオールの溶液を0
℃に冷却し、そして20m1の冷トリフルオロ酢酸で処
理した。この反応混合物を一20℃に17時間保持し、
次いで回転蒸発器中で約4°Cにおいて減圧下に蒸発さ
せた。残留物をCHzCis (10n 1)中に取り
、そして工!チル(30om+)を急速に添加した。沈
澱を集め、そしてエーテルでよく洗浄して、2.03g
の固体を得た。この物質をl:lアセトニトリル−Hx
O(20ml)中に溶解し、そして5%の水性N a
HCOs溶液で処理した。このプロセスの間、ジメチル
ホルムアミド(5ml)を添加してゴム状物質を溶解し
た。さらに重炭酸溶液を添加し、溶液のpHを9.0と
した。次いで、この水溶液を逆相クロマトグラフィー(
Cps吸収剤)のカラムのクロマトグラフィーにかけ、
そして水中の5%〜60%のアセトニトリルで溶離した
。分画II〜16(20%〜25%のCHs CN /
HxOで溶離した)を−緒にし、真空下に濃縮し、次
いで凍結乾燥して白色粉末として生成物を得た:[6R
−[6σ、7βCZ’)] ] −7−[[(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)(メトキシイミノ)アセチル]ア
ミノ] −3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−(2
−フルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メ
チル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニ
ル1カルボニル]、チオコメチル1−8−オキソ−5−
チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エ
ン−カルボン酸−ナトリウム塩三水和物。
)] ] −]]3− [[[6,8−ジフルオロ−1
−(2−フルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(
4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キ
ノリニル]カルボニル]チオ]メチル]−7−[[[[
(メトキシイミノ)−2−(トリフルオロメチル)アミ
ノ]−チアゾリル]アセチル]アミノ]−8−オキソ−
5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2
−エン−カルボン酸1.1−ジメチルエチルエステル(
1,9g、2.2ミリモル)、2mlのアニソール、お
よび0.1mlの1.2−エタンジチオールの溶液を0
℃に冷却し、そして20m1の冷トリフルオロ酢酸で処
理した。この反応混合物を一20℃に17時間保持し、
次いで回転蒸発器中で約4°Cにおいて減圧下に蒸発さ
せた。残留物をCHzCis (10n 1)中に取り
、そして工!チル(30om+)を急速に添加した。沈
澱を集め、そしてエーテルでよく洗浄して、2.03g
の固体を得た。この物質をl:lアセトニトリル−Hx
O(20ml)中に溶解し、そして5%の水性N a
HCOs溶液で処理した。このプロセスの間、ジメチル
ホルムアミド(5ml)を添加してゴム状物質を溶解し
た。さらに重炭酸溶液を添加し、溶液のpHを9.0と
した。次いで、この水溶液を逆相クロマトグラフィー(
Cps吸収剤)のカラムのクロマトグラフィーにかけ、
そして水中の5%〜60%のアセトニトリルで溶離した
。分画II〜16(20%〜25%のCHs CN /
HxOで溶離した)を−緒にし、真空下に濃縮し、次
いで凍結乾燥して白色粉末として生成物を得た:[6R
−[6σ、7βCZ’)] ] −7−[[(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)(メトキシイミノ)アセチル]ア
ミノ] −3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−(2
−フルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メ
チル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニ
ル1カルボニル]、チオコメチル1−8−オキソ−5−
チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エ
ン−カルボン酸−ナトリウム塩三水和物。
実施例に記載する手順に従い、次の化合物を調製する;
[6R−[6α、7β(z)]] −]]3−[[[6
,8−ジフルオロ−1−(2−フルオロエチル)−1,
4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)
−4−オキソ−3−キノリニル】カルボニル]チオ〕メ
チル)−B−矛キソー7−[(フェノキシアセチル)ア
ミノコ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オ
クト−2−エン−カルボン酸、 [5R−[6a、7β(Z)] ] −7−[[(2
−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ]アセチル
]アミノ]−3−[[[[1−シクロオブ口ピル−6−
フルオロー1.4−ジヒドロ−4−オキソ−7−(1−
ピペラジニル)−3−キノリニル1カルボニル1チ第1
メチル]−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[
4,2,0]オクト−2−エン−カルボン酸、 [6R,−[6g、7β(Z)] ] −7−[(シア
ノアセチル)アミノ] −3−[[[[6,8−ジフル
オロ−1−(2−フルオロエチル)−1゜4−ジヒドロ
−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ
−3−キノリニル]カルボニル]チオ]メチル1−8−
オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オ
クト−2−二〕/−カルボン酸、 [6R−[6g、7β (Z)11 −7− [[[
[(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジニル
)カルボニル]アミン]フェニルアセチル]アミン]
−3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−(2−フルオ
ロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1
−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニル1カル
ボニル]チオ〕メチル]−8−オキソ−5−チア−1−
アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エン−カルボ
ン酸、[6R−[6σ、7β(Z) ] 1−8− [
[(2−アミノ−4−チアゾリル)−[[(1−カルボ
キシ−1−メチル)エトキシ1イミノ1アセチル]アミ
ノ] −3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−(2−
フルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニル
1カルボニル]チオ〕メチル1−8−オキソ−5−チア
−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エン−
カルボン酸、[6R−[6α、7β(Z)11−7−
[[[(2−アミノ−4−チアゾリル)(カルボキシメ
トキシ)イミノ1アセチル1アミノ]−3−[[[[6
,8−ジフルオロ−1−(2−フルオロエチル)−1,
4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)
−4−オキソ−3−キノリニル]カルボニル]チオ]メ
チル1−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[4
,2,0]オクト−2−エン−カルボン酸、 [6R−[6a、7β(Z)11−7− [[[(2−
アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノJアセチル]
アミノ] −3−[[[[9−フルオロ−3,7−シヒ
ドロー3−メチル−10−(4−メチル−1−ピペラジ
ニル)−7−オキソ−2H−ピリドN、2.3−d e
l −1,4−ベンゾキサジン−6−イル]カルボニル
]チオ】メチル]−8−オキソー5−チア−′l−アザ
ビシクロ[4゜2.0] yFタクト−−工ン−カルボ
ン酸、[6R−C6g、7β)−、−[[[2−カルボ
キシ−3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−(2−フ
ルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル
−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニル]
カルボニル]チオ]メチル】−8−オキソ−5−チア−
1−アザビシクロ[4゜2.0]オクト−2−エン−7
−イル]アミノ]カルボニル]ベンゼン酢酸、 [6R−[6α、7β] ] −7−[[(2−アミノ
−4−チアゾリル)(メトキシイミノ)アセチル1アミ
ノ]−3−[[[[6−フルオロ−1−〔4−フルオロ
エチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−
ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニル]カルボ
ニル〕チ第1メチル】−8−オキソ−5−チア−ニーア
ザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エン−カルボン
酸。
,8−ジフルオロ−1−(2−フルオロエチル)−1,
4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)
−4−オキソ−3−キノリニル】カルボニル]チオ〕メ
チル)−B−矛キソー7−[(フェノキシアセチル)ア
ミノコ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オ
クト−2−エン−カルボン酸、 [5R−[6a、7β(Z)] ] −7−[[(2
−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ]アセチル
]アミノ]−3−[[[[1−シクロオブ口ピル−6−
フルオロー1.4−ジヒドロ−4−オキソ−7−(1−
ピペラジニル)−3−キノリニル1カルボニル1チ第1
メチル]−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[
4,2,0]オクト−2−エン−カルボン酸、 [6R,−[6g、7β(Z)] ] −7−[(シア
ノアセチル)アミノ] −3−[[[[6,8−ジフル
オロ−1−(2−フルオロエチル)−1゜4−ジヒドロ
−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ
−3−キノリニル]カルボニル]チオ]メチル1−8−
オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オ
クト−2−二〕/−カルボン酸、 [6R−[6g、7β (Z)11 −7− [[[
[(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジニル
)カルボニル]アミン]フェニルアセチル]アミン]
−3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−(2−フルオ
ロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1
−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニル1カル
ボニル]チオ〕メチル]−8−オキソ−5−チア−1−
アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エン−カルボ
ン酸、[6R−[6σ、7β(Z) ] 1−8− [
[(2−アミノ−4−チアゾリル)−[[(1−カルボ
キシ−1−メチル)エトキシ1イミノ1アセチル]アミ
ノ] −3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−(2−
フルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニル
1カルボニル]チオ〕メチル1−8−オキソ−5−チア
−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エン−
カルボン酸、[6R−[6α、7β(Z)11−7−
[[[(2−アミノ−4−チアゾリル)(カルボキシメ
トキシ)イミノ1アセチル1アミノ]−3−[[[[6
,8−ジフルオロ−1−(2−フルオロエチル)−1,
4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)
−4−オキソ−3−キノリニル]カルボニル]チオ]メ
チル1−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[4
,2,0]オクト−2−エン−カルボン酸、 [6R−[6a、7β(Z)11−7− [[[(2−
アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノJアセチル]
アミノ] −3−[[[[9−フルオロ−3,7−シヒ
ドロー3−メチル−10−(4−メチル−1−ピペラジ
ニル)−7−オキソ−2H−ピリドN、2.3−d e
l −1,4−ベンゾキサジン−6−イル]カルボニル
]チオ】メチル]−8−オキソー5−チア−′l−アザ
ビシクロ[4゜2.0] yFタクト−−工ン−カルボ
ン酸、[6R−C6g、7β)−、−[[[2−カルボ
キシ−3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−(2−フ
ルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル
−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニル]
カルボニル]チオ]メチル】−8−オキソ−5−チア−
1−アザビシクロ[4゜2.0]オクト−2−エン−7
−イル]アミノ]カルボニル]ベンゼン酢酸、 [6R−[6α、7β] ] −7−[[(2−アミノ
−4−チアゾリル)(メトキシイミノ)アセチル1アミ
ノ]−3−[[[[6−フルオロ−1−〔4−フルオロ
エチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−
ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニル]カルボ
ニル〕チ第1メチル】−8−オキソ−5−チア−ニーア
ザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エン−カルボン
酸。
実施例A
筋肉内投与のための乾燥アンプルの製造:Igの[6R
−C6a、7β(Z)] ] −7−[[(2−アミ/
−4−チアゾリル)(メトキシイミノ)アセチルコアミ
ノ] −3−[[[[6゜8−ジフルオロ−1−(2−
フルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニル
1カルボニル]チオ〕メチル]−8−オキソ−5−チア
−1−アザビシクロ[4,2,0] オクト−2−エン
−カルボン酸−ナトリウム塩三水和物の凍結乾燥物を、
通常の方法で調製し、そしてアンプル中に充填する。無
菌の水のアンプルは10%のグロビレングリコールを含
有する。投与の前に、凍結乾燥物を2.5mlの2%の
塩酸リドカイン溶液で処理する。
−C6a、7β(Z)] ] −7−[[(2−アミ/
−4−チアゾリル)(メトキシイミノ)アセチルコアミ
ノ] −3−[[[[6゜8−ジフルオロ−1−(2−
フルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリニル
1カルボニル]チオ〕メチル]−8−オキソ−5−チア
−1−アザビシクロ[4,2,0] オクト−2−エン
−カルボン酸−ナトリウム塩三水和物の凍結乾燥物を、
通常の方法で調製し、そしてアンプル中に充填する。無
菌の水のアンプルは10%のグロビレングリコールを含
有する。投与の前に、凍結乾燥物を2.5mlの2%の
塩酸リドカイン溶液で処理する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 式中、mは0、1または2であり;R^1は水素または
アシル基であり;R^2は水素、低級アルコキシ、低級
アルキルチオまたは低級アルカノイルアミノであり;R
^3^1は水素、低級アルキル、低級アルケニル、C_
3−C_7シクロアルキル、ハロ−低級アルキル、フェ
ニルまたはモノ−、ジ−もしくはトリ−ハロ−フェニル
であり;ZはR^3^0−Cまたは窒素であり;R^3
^0は水素またはハロゲンであるか、あるいはR^3^
0およびR^3^1は、一緒になったとき、C_3−C
_5アルキレン基、C_2−C_4アルキレンモノ−オ
キシ基またはC_1−C_2アルキレンジオキシ基を表
わし;R^3^2は水素、ハロゲン、低級アルキルまた
は置換されていてもよい5員もしくは6員の複素環式環
であり、前記複素環式環は1、2または3個の酸素、窒
素および/またはイオウ原子を含有し;そしてR^3^
3は水素またはハロゲンであるか、あるいはR^3^2
およびR^3^3は、一緒になったとき、C_1−C_
4アルキレンジオキシ基を表す、のアシル誘導体および
これらの化合物の加水分解容易なエステル類、または塩
類および式 I の化合物またはそれらのエステル類もし
くは塩類の水和物。 2、mが0でありそしてR^2は水素である特許請求の
範囲第1項記載の化合物。 3、ZがR^3^0−Cであり、ここでR^3^0は水
素またはハロゲンであり、R^3^1は低級アルキル、
ハロ−低級アルキルまたはC_3−C_7シクロアルキ
ルであり、R^3^2が低級アルキル、ピペラジニルま
たは低級アルキルピペラジニルであり、そしてR^3^
3は水素またはハロゲンである特許請求の範囲第1また
は2項記載の化合物。 4、R^3^0が水素またはフッ素であり、R^3^1
がエチル、フルオロエチルまたはシクロプロピルであり
、R^3^3がピペラジニルまたは4−メチルピペラジ
ニルであり、そしてR^3^3が水素またはフッ素であ
る特許請求の範囲第3項記載の化合物。 5、R^1が (a)式 R^5−CO− 式中、R^5は低級アルキル、C_3−C_7シクロア
ルキル、低級アルコキシ、低級アルケニル、C_3−C
_7シクロアルケニルまたはシクロヘキサジエニルであ
り;あるいは1または2個以上のハロゲン、シアノ、ニ
トロ、アミノ、メルカルプト、低級アルキルチオまたは
シアノメチルチオ基で置換された低級アルキルまたは低
級アルケニルである、 の脂肪族基; (b) ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、nは0、1、2または3であり;R^6、R^7
およびR^8の各々は、独立に、水素、ハロゲン、ヒド
ロキシ、ニトロ、アミノ、シアノ、トリフルオロメチル
、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、1〜4個の炭
素原子を有するアルコキシまたはアミノメチルから成る
群より選択され;そしてR^9^0はアミノ、ヒドロキ
シ、カルボキシ塩、保護されたカルボキシ、ホルミルオ
キシまたはアジドから成る群より選択され、そしてMは
カチオンである、から成る群より選択されるカルボキシ
ル芳香族基; (c)R^1^0^1−(CH_2)_n−CO−▲数
式、化学式、表等があります▼ R^1^0^1−O−CH_2−CO− R^1^0^1−S−CH_2−CO− R^1^0^1−CO−CO− 式中、nは0、1または3であり;R^9^0は上に定
義したとおりであり;そしてR^1^0^1は置換また
は非置換の5員、6員または7員の1、2、3または4
個の窒素、酸素および/またはイオウ原子を含有する複
素環式環である、から成る群より選択されるヘテロ芳香
族基;(d)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1^1^1は低級アルキル、ヒドロキシ−低
級アルキルまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の芳香族基であり;ここでR^6、R^7およR^8は
前に定義したとおりであるか、あるいはR^1^0^1
について定義したヘテロ芳香族基であり、そしてR^1
^2^0は低級アルキルまたは置換低級アルキル(ここ
でアルキル基は1または2個以上のハロゲン、シアノ、
ニトロ、アミノおよび/またはメルカルプト基で置換さ
れている)である、 の[[(4−置換−2,3−ジオキソ−1−ピペラジニ
ル)カルボニル]アミノ]アリールアセチル基; (e)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1^0^1は上に定義したとおりであり、そ
してR^1^3^0は水素、低級アルキル、C_3−C
_7シクロアルキル、カルボキシ−C_3−C_7−シ
クロアルキルまたは置換低級アルキル(ここで前記アル
キル基は1または2個以上のハロゲン、シアノ、ニトロ
、アミノ、メルカルプト、低級アルキルチオ、芳香族基 (R^1^1^1によって定義されるような)、カルボ
キシ(その塩類を包含する)、低級アルカノイルアミノ
、低級アルコキシカルボニル、フェニルメトキシカルボ
ニル、ジフェニルメトキシカルボニル、ヒドロキシアル
コキシホスフィニル、ジヒドロキシホスフィニル、ヒド
ロキシ−(フェニルメトキシ)−ホスフィニルまたはジ
低級アルコキシホスフィニル置換基である、 の(置換オキシイミノ)アリールアセチル基;(f)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1^1^1は上に定義したとおりであり、そ
してR^1^4^0は ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでR^6、R^7、R^8およびnは前に定義し
たとおりである)、水素、低級アルキル、置換低級アル
キル、アミノ、アルキルアミノ、(シアノアルキル)ア
ミノ、またはアシルアミノである、 の(アシルアミノ)アリールアセチル基;および(g)
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1^1^1は上に定義したとおりであり、そ
してR^1^5は水素、アルキルスルホニル、−N=C
H−R^1^1^1(ここでR^1^1^1は上に定義
したとおりである)、R^1^6CO−(ここでR^1
^6は水素、アルキルまたはハロゲン置換アルキルであ
る)、芳香族基(上においてR^1^1^1によって定
義されるような)、低級アルキルまたは置換低級アルキ
ル(ここで低級アルキル基は1または2個以上のハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、アミノおよび/またはメルカルプ
ト基で置換されている) の[[[3−置換−2−オキソ−1−イミダゾリジニル
)カルボニル]アミノ]アリールアセチル基; から成る群より選択されるアシル基である特許請求の範
囲第1〜4項のいずれかに記載の化合物。 6、R^1が、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^9^0はアミノ、アシルアミノ、ヒドロキシ
、カルボキシ塩、ベンジルオキシカルボニル、ホルミル
オキシおよびアジドから成る群より選択され、そしてR
^6、R^7およびR^8は水素、ハロゲン、ヒドロキ
シ、ニトロ、アミノ、シアノ、トリフルオロメチル、C
_1−C_4アルキル、C_1−C_4アルコキシおよ
びアミノメチルから成る群より選択される、の炭素環式
芳香族基からなるアシル基である特許請求の範囲第1〜
4項のいずれかに記載の化合物。 7、R^6、R^7およびR^8が水素であり、そして
R^9^0が水素またはヒドロキシである特許請求の範
囲第7項記載の化合物。 8、R^1が、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1^0^1は1、2、3または4個の窒素、
酸素および/またはイオウ原子を含有する非置換または
置換の5員、6員または7員の複素環式環であり、ここ
で前記複素環式環はハロゲン、ヒドロキシ、ニトロ、ア
ミノ、シアノ、トリフルオロメチル、C_1−C_4ア
ルキルまたはC_1−C_4アルコキシで置換されてい
てもよく、そしてR^1^3^0は水素、低級アルキル
、C_3−C_7シクロアルキル、カルボキシ−C_3
−C_7−シクロアルキルまたは置換低級アルキルであ
り、ここで前記低級アルキルは1または2個以上のハロ
ゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、低級アル
キルチオ、芳香族基(特許請求の範囲第5項においてR
^1^1^1によって定義されたような)、カルボキシ
(その塩を包含する)、低級アルカノイルアミノ、低級
アルコキシカルボニル、フェニルメトキシカルボニル、
ジフェニルメトキシカルボニル、ヒドロキシ−低級−ア
ルコキシホスフィニル、ジヒドロキシホスフィニル、ヒ
ドロキシ(フェニルメトキシ)ホスフィニルまたはジ低
級アルコキシホスフィニルで置換されることができる、 の基からなるアシル基である特許請求の範囲第1〜4項
のいずれかに記載の化合物。 9、R^1が、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中がR^2^0は水素またはアミノ保護基であり、R
^2^1は水素、低級アルキルまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2^2およびR^2^3は水素および低級
アルキルから成る群より選択されるか、あるいはそれら
が結合する炭素原子と一緒になって3〜7員の炭素環式
環を形成する)の基である、 のアシル基である特許請求の範囲第1〜4項のいずれか
に記載の化合物。 10、R^2^0が水素であり、そしてR^2^1がメ
チルまたは ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^2^2およびR^2^3は水素またはメチル
から成る群より選択される、 である特許請求の範囲第9項記載の化合物。 11、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^2^1は特許請求の範囲第9項に記載した意
味を有し、そしてZ、R^3^1、R^3^2およびR
^3^3は特許請求の範囲第1項に記載した意味を有す
る、 の特許請求の範囲第1項記載の化合物。 12、R^2^1がメチルまたは ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^2^2およびR^2^3は水素またはメチル
である、 の基であり、ZがR^3^0−Cであり、ここでR^3
^0は水素またはハロゲンであり、R^3^1が低級ア
ルキル、ハロ−低級アルキルまたはC_3−C_7シク
ロアルキルであり、R^3^2が低級アルキル、ピペラ
ジニルまたは低級アルキルピペラジニルであり、そして
R^3^3が水素またはハロゲンである特許請求の範囲
第11項記載の化合物。 13、R^3^0が水素またはフッ素であり、R^3^
1がエチル、フルオロエチルまたはピペラジニルであり
、R^3^2がメチル、4−メチル−ピペラジニルまた
はピペラジニルであり、そしてR^3^3が水素または
フッ素である特許請求の範囲第12項記載の化合物。 14、[6R−[6α,7β(Z)]]−7−[[(2
−アミノ−4−チアゾリル)(R^2^1−オキシイミ
ノ)アセチル]アミノ]−3−[[[[6−R^3^3
,8−R^3^0−1−(1−R^3^1)−1,4−
ジヒドロ−7−(4−R^3^4−1−ピペラジニル)
−4−オキソ−3−キノリニル]カルボニル]チオ]メ
チル]−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[4
,2,0]オクト−2−エン−カルボン酸およびその製
薬学的に許容されうる塩類およびこれらの酸類および塩
類の水和物であり、ここでR^3^3およびR^3^0
は水素またはハロゲンであり、R^3^1は水素、低級
アルキルまたはハロゲン−低級アルキルであり、R^3
^4は水素または低級アルキルであり、そしてR^2^
1は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^2^2およびR^2^3は水素または低級ア
ルキルから成る群より選択される、 である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 15、R^2^2およびR^2^3が両者ともメチルで
ある特許請求の範囲第14項記載の化合物。 16、R^3^3およびR^3^0が水素またはフッ素
であり、R^3^1はエチルまたは2−フルオロエチル
であり、そしてR^3^4はメチルである特許請求の範
囲第15項記載の化合物。 17、R^3^3およびR^3^0がフッ素であり、そ
してR^3^1が2−フルオロエチルである特許請求の
範囲第15項記載の化合物。 18、R^3^3がフッ素であり、R^3^0はフッ素
であり、R^3^1が2−フルオロエチルであり、そし
てR^3^4はメチルである特許請求の範囲第14項記
載の化合物。 19、R^3^3がフッ素であり、R^3^0が水素で
あり、R^3^1がエチルであり、そしてR^3^4が
メチルである特許請求の範囲第14項記載の化合物。 20、R^3^3がフッ素であり、R^3^1が2−フ
ルオロエチルであり、R^3^0が水素であり、そして
R^3^4がメチルである特許請求の範囲第14項記載
の化合物。 21、▲数式、化学式、表等があります▼ および ▲数式、化学式、表等があります▼ 基はsyn型、すなわち、Z型であるか、あるいはsy
n型が主要比率を占める混合物として存在する特許請求
の範囲第8〜20項のいずれかに記載の化合物。 22、[6R−[6α,7β(Z)]]−7−[[(2
−アミノ−4−チアゾリル)(メトキシイミノ)アセチ
ル]アミノ]−3−[[[[6,8−ジフルオロ−1−
(2−フルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−7−(4
−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノ
リニル]カルボニル]チオ]メチル]−8−オキソ−5
−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−
エン−カルボン酸ならびにこの化合物の塩類およびこの
化合物および塩類の水和物である特許請求の範囲第1項
記載の化合物。 23、製薬学的に活性な物質としての特許請求の範囲第
1〜22項のいずれかに記載の化合物。 24、伝染病の処置および予防のための製薬学的に活性
な物質としての特許請求の範囲第1〜22項のいずれか
に記載の化合物。 25、特許請求の範囲第1〜22項のいずれかに記載の
アシル誘導体を含有する製薬学的調製物。 26、特許請求の範囲第1〜22項のいずれかに記載の
アシル誘導体を含有する伝染病の処置および予防のため
の製薬学的調製物。 27、特許請求の範囲第1〜22項のいずれかに記載の
アシル誘導体を製造する方法であって、(a)式 I の
カルボン酸の加水分解容易なエステルを製造するため、
式 ▲数式、化学式、表等があります▼II 式中、m、R^1およびR^2は上に定義したとおりで
あり、Halはハロゲンであり、そしてR′は加水分解
容易なエステルの残基である、 の化合物を、式 ▲数式、化学式、表等があります▼III 式中、R^3^1、R^3^2およびR^3^3は上に
定義したとおりである、 のカルボチオン酸と反応させるか、あるいは(b)式
I のカルボン酸を製造するため、式▲数式、化学式、表
等があります▼IV 式中、m、R^1、R^2、R^3^1、R^3^2お
よびR^3^3は上に定義したとおりであり、そしてR
はエステル保護基である、 のエステルを式 I のカルボン酸に転化するか、あるい
は (c)mが0である式 I の化合物を製造するため、式 ▲数式、化学式、表等があります▼V 式中、R^1、R^2、R^3^1、R^3^2および
R^3^3は上に定義したとおりである、 の化合物を還元するか、あるいは (d)mが1または2である式 I の化合物、またはそ
のエステルまたは塩を製造するため、式▲数式、化学式
、表等があります▼VI 式中、R^1、R^2、R^3^1、R^3^2および
R^3^3は上に定義したとおりであり、そして点線は
Δ2またはΔ3の二重結合の存在を示す、 の化合物またはそのエステルまたは塩を酸化するか、あ
るいは (e)R^1がアミノ置換基を含有する式 I の化合物
、またはそのエステルまたは塩を製造するため、式 ▲数式、化学式、表等があります▼VII 式中、m、R^2、R^3^1、R^3^2およびR^
3^3は上に定義したとおりであり、そしてR^1^0
は保護されたアミノ基を含有するアシル基である、の化
合物またはそのエステルまたは塩の置換基R^1^0中
のアミノ保護基を切り離すか、あるいは(f)式 I の
化合物の加水分解容易なエステルを製造するため、式
I のカルボン酸を対応するエステル化に付すか、あるい
は (g)式 I の化合物の塩類または水和物または前記塩
類の水和物を製造するため、式 I の化合物を塩または
水和物に転化するか、あるいは前記塩の水和物に転化す
る、 ことを特徴とする方法。 28、変法(a)、(b)、(c)および(d)の1つ
を実施することを特徴とする特許請求の範囲第27項記
載の方法。 29、病気の処置または予防における特許請求の範囲第
1〜22項のいずれかに記載の化合物の使用。 30、伝染病の処置または予防における特許請求の範囲
第1〜22項のいずれかに記載の化合物の使用。 31、伝染病の処置または予防のための薬物の製造にお
ける特許請求の範囲第1〜22項のいずれかに記載の化
合物の使用。 32、特許請求の範囲第27または28項記載の方法ま
たはその明らかな化学的に同等な方法によって製造され
た特許請求の範囲第1〜21項のいずれかに記載の化合
物。
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