JPH01197622A - 感圧センサ - Google Patents
感圧センサInfo
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- JPH01197622A JPH01197622A JP2189988A JP2189988A JPH01197622A JP H01197622 A JPH01197622 A JP H01197622A JP 2189988 A JP2189988 A JP 2189988A JP 2189988 A JP2189988 A JP 2189988A JP H01197622 A JPH01197622 A JP H01197622A
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- pressure
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Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は液体、気体のみならず触圧も計測可能な感圧セ
ンサに関する。
ンサに関する。
(従来の技術)
近時感圧センサの要求が高まるとともに、種々の提案が
なされているが、本出願人は%願昭62−75584号
に示すようにプラスチックモールドで本体部分を小型化
した圧力センサを提案した。
なされているが、本出願人は%願昭62−75584号
に示すようにプラスチックモールドで本体部分を小型化
した圧力センサを提案した。
ここに用いられている感圧膜としては圧力媒体機能と保
護被覆機能とを有するエラストマ!が用いられ特にシリ
コーンゲル(シリコーン樹脂でゲル状のもの)がその代
表的なものとして知られている。
護被覆機能とを有するエラストマ!が用いられ特にシリ
コーンゲル(シリコーン樹脂でゲル状のもの)がその代
表的なものとして知られている。
(発明が解決すべき課題〉
上記に於て用いられるシリコーンゲルは他のエラストマ
に比べ圧力媒体としての性能が優れていることが認めら
れるが、常温で粘着性が強いので、例えば圧力センサを
製造する際にダストが付着したシ、使用条件下で種々の
付着物(ダスト、砂、土等)の影響が大きく、感圧性能
の著しい低下を来たすことがあった。
に比べ圧力媒体としての性能が優れていることが認めら
れるが、常温で粘着性が強いので、例えば圧力センサを
製造する際にダストが付着したシ、使用条件下で種々の
付着物(ダスト、砂、土等)の影響が大きく、感圧性能
の著しい低下を来たすことがあった。
又、更にシリコーンゲルは若干親水性であるために水中
で使用する場合に、シリコーンゲル内部への水の没入を
生じることがあり、この場合も感圧性能に影響を及ぼす
ことがある。又他の圧力媒体材料であるエラストマ■で
も同様な問題を生じることは明らかである。本発明はこ
のような課題を解決することを目的とする。
で使用する場合に、シリコーンゲル内部への水の没入を
生じることがあり、この場合も感圧性能に影響を及ぼす
ことがある。又他の圧力媒体材料であるエラストマ■で
も同様な問題を生じることは明らかである。本発明はこ
のような課題を解決することを目的とする。
(課題を解決するための手段〉
本発明は上記の実情に鑑みてなされたもので、特に圧力
センサチップの上部を蔽って設けられるエラストマの表
面にポリマー薄膜を設けたものを圧力媒体とする感圧セ
ンサである。
センサチップの上部を蔽って設けられるエラストマの表
面にポリマー薄膜を設けたものを圧力媒体とする感圧セ
ンサである。
ここでエラストマAとしてはシリ写ツゲルの如きシリq
づポリ〜−や油を充填したノルボーネンポリマーが圧力
感受性が高く好ましい。
づポリ〜−や油を充填したノルボーネンポリマーが圧力
感受性が高く好ましい。
又、表面のポリマー薄膜は、PE、 PP5PVDF。
PBT、POlpps、 ppo のうちから選ばれ
る1種もしくは2種以上のポリマー薄膜から成シ、これ
らが積層しても良いし、混合状態で一つの層を構成して
いてもよい。
る1種もしくは2種以上のポリマー薄膜から成シ、これ
らが積層しても良いし、混合状態で一つの層を構成して
いてもよい。
(実施例)
本発明による圧力センサの具体例は第1図に示すとおシ
である。第1図に於て1はプラスチックモールド体から
なる台座、2はパッケージで、通常これらは一体モール
ドで製作し得る。3はその上部に塔載されたシリコレ単
結晶薄膜ダイアフラムよシなる圧力センサテップ4はリ
ード、5は圧力センサテップの上部を蔽うエラストマキ
で、ポリマー薄膜6でその表面を蔽われている。
である。第1図に於て1はプラスチックモールド体から
なる台座、2はパッケージで、通常これらは一体モール
ドで製作し得る。3はその上部に塔載されたシリコレ単
結晶薄膜ダイアフラムよシなる圧力センサテップ4はリ
ード、5は圧力センサテップの上部を蔽うエラストマキ
で、ポリマー薄膜6でその表面を蔽われている。
ここに用いられるエラストマNとしてはシリコーンポリ
マーや油充填のノルボーネンポリマーの如き比較的軟質
で圧力感受性の高いものが適用され、よシ好ましくはシ
リコーンゲルである。
マーや油充填のノルボーネンポリマーの如き比較的軟質
で圧力感受性の高いものが適用され、よシ好ましくはシ
リコーンゲルである。
この表面のポリマーの薄膜としては前述の如き材料の真
空加熱蒸着を応用して形成することができる。
空加熱蒸着を応用して形成することができる。
膜の特性としては均一な膜厚で、比較的薄くて保護と感
圧の2つの性能を発揮するものが好ましい。更に内部の
エラストマ\の圧力変形に追随して変形し、破れた気割
れたシしないことが望まれる。
圧の2つの性能を発揮するものが好ましい。更に内部の
エラストマ\の圧力変形に追随して変形し、破れた気割
れたシしないことが望まれる。
このポリマーの真空加熱蒸着手段は例えばタングステン
ボード上;:ポリ8のせ、真空中でタングステンボード
を通電加熱することによって行なわれ、その際の真空度
は10″Tc)rr以下、加熱温度はその真空度下でそ
のポリマーの沸点以上が良い。
ボード上;:ポリ8のせ、真空中でタングステンボード
を通電加熱することによって行なわれ、その際の真空度
は10″Tc)rr以下、加熱温度はその真空度下でそ
のポリマーの沸点以上が良い。
又、真空蒸着法ではポリマーは放射線::飛び、従って
ターゲットの方向を向いた面上にのみ薄膜が形成される
ので、センサの裏側に回υ込んでリードフレームの表面
を覆って絶縁するようなおそれはない。
ターゲットの方向を向いた面上にのみ薄膜が形成される
ので、センサの裏側に回υ込んでリードフレームの表面
を覆って絶縁するようなおそれはない。
なお薄膜形成法にはスパッタリング法、溶媒キャスト法
、プラズマ重合法、LB腹膜法どがあるが、スパッタリ
ング法は基板の温度上昇が大きく、裏側への回シ込みも
あシ、溶媒キャスト法は均一な膜を形成し1:<<、生
産性が悪く、プラズマ重合法は裏面への回シ込みや、条
件設定の難しさかあり、LB法はウェット法なのでセン
サの他の部分への影響が大きく数μmの膜を得るのは事
実上不可能である。
、プラズマ重合法、LB腹膜法どがあるが、スパッタリ
ング法は基板の温度上昇が大きく、裏側への回シ込みも
あシ、溶媒キャスト法は均一な膜を形成し1:<<、生
産性が悪く、プラズマ重合法は裏面への回シ込みや、条
件設定の難しさかあり、LB法はウェット法なのでセン
サの他の部分への影響が大きく数μmの膜を得るのは事
実上不可能である。
次に、種々のポリマーを用いてエラストマ4上に真空蒸
着した場合の性能を比較テストした結果を示せば次表の
とおシである。
着した場合の性能を比較テストした結果を示せば次表の
とおシである。
これによればPE、 PP5PVDF、 PB’l’5
PO1pps 、 ppo以外のポリマーを用いた場合
は加熱(二よる膜の形成が認められず、従ってエラス)
−r表面の粘着性は解消されていない。また薄膜の膜厚
が30μmを越えるとおそらく膜の変形抵抗に起因し、
薄膜を設けないものよシセンサの出力が50〜55チと
大幅に低下する。
PO1pps 、 ppo以外のポリマーを用いた場合
は加熱(二よる膜の形成が認められず、従ってエラス)
−r表面の粘着性は解消されていない。また薄膜の膜厚
が30μmを越えるとおそらく膜の変形抵抗に起因し、
薄膜を設けないものよシセンサの出力が50〜55チと
大幅に低下する。
従って薄膜は上記ポリマーを蒸発源として用い膜厚は3
0μm未満のものが最も好ましいものである。
0μm未満のものが最も好ましいものである。
qシ
なおエラストマと薄膜ポリマとは親和性のあるものが好
ましいが、完全接着でなくても分子吸着の大きいもので
あってもよいことは勿論である。
ましいが、完全接着でなくても分子吸着の大きいもので
あってもよいことは勿論である。
(発明の効果ン
本発明によれば感圧上ンサ表面を蔽うエラストマの表面
をポリマーの薄膜で被覆しているので、エラストマが露
出しているときに生じていた汚れを防止し、かつ表面を
疎水性とすることによって、水に耐する耐久性を向上す
ることができ、感圧特性が良く信頼性の優れた小型の圧
力センサを提供することができる。
をポリマーの薄膜で被覆しているので、エラストマが露
出しているときに生じていた汚れを防止し、かつ表面を
疎水性とすることによって、水に耐する耐久性を向上す
ることができ、感圧特性が良く信頼性の優れた小型の圧
力センサを提供することができる。
第1図は本発明による感圧上ンサの一実施例の断面図で
ある。 1:台座 2:パッケージ 3:圧力センサチップ 4:リード 5:エラストマ〜 6:ボリマー薄膜代理人 弁理士
竹 内 守
ある。 1:台座 2:パッケージ 3:圧力センサチップ 4:リード 5:エラストマ〜 6:ボリマー薄膜代理人 弁理士
竹 内 守
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)キャビティ内に、圧力センサチップを搭載し、その
上部を蔽いエラストマの表面にポリマー薄膜を有する圧
力媒体を設けたことを特徴とする感圧センサ 2)上記ポリマーがポリエチレン(PE)、ポリプロピ
レン(PP)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポ
リブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンオ
キサイド(PO)、ポリフエニレンサルフアイド(PP
S)、ポリパラフェニレン(PPO)のうちから選ばれ
たポリマーである請求項1記載の感圧センサ 3)上記ポリマー薄膜の厚さが30μm以下である請求
項1記載の感圧センサ
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2189988A JPH01197622A (ja) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | 感圧センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2189988A JPH01197622A (ja) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | 感圧センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01197622A true JPH01197622A (ja) | 1989-08-09 |
Family
ID=12067953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2189988A Pending JPH01197622A (ja) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | 感圧センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01197622A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100458387C (zh) * | 2006-06-14 | 2009-02-04 | 昆山双桥传感器测控技术有限公司 | 复合压阻式土应力传感器 |
CN100465599C (zh) * | 2005-12-23 | 2009-03-04 | 昆山双桥传感器测控技术有限公司 | 压阻式土应力传感器 |
JP2011113386A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Tokai Rubber Ind Ltd | 入力インターフェイス装置 |
JP2015219044A (ja) * | 2014-05-14 | 2015-12-07 | キヤノン株式会社 | 力覚センサおよび把持装置 |
-
1988
- 1988-02-03 JP JP2189988A patent/JPH01197622A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100465599C (zh) * | 2005-12-23 | 2009-03-04 | 昆山双桥传感器测控技术有限公司 | 压阻式土应力传感器 |
CN100458387C (zh) * | 2006-06-14 | 2009-02-04 | 昆山双桥传感器测控技术有限公司 | 复合压阻式土应力传感器 |
JP2011113386A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Tokai Rubber Ind Ltd | 入力インターフェイス装置 |
JP2015219044A (ja) * | 2014-05-14 | 2015-12-07 | キヤノン株式会社 | 力覚センサおよび把持装置 |
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