JPH01193633A - パターン欠陥検査方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、マスタ、レチクル、プリント基板等に形成
されたパターンの欠陥の有無を検査するパターン欠陥検
査方法及び装置に関する。

〔従来の技術〕

従来のパターン欠陥検査方法としては、例えば特開昭６
２−１４８８３８号公報（第１従来例）、特開昭５９−
６１１３６号公報（第２従来例）に記載されているもの
がある。

第１従来例は、光電変換により得られる検査対象回路パ
ターンの２次元画像を２値化し、回路パターンの輪郭部
とそれ以外の部分との２値画像を得、２値化された輪郭
部の線幅を細線化し、細線化された輪郭部の追跡を行い
、輪郭形状の特徴データを算出して形状特徴曲線を求め
、形状特徴曲線の示す値を予め決められたしきい値と比
較し、前者の値が後者の値以上となる場合を欠陥として
認識するようにしている。

第２従来例は、半導体集積回路の製作に用いられるフォ
トマスタに光を照射する光照射部と、上記光の照射及び
フォトマスタ上での光照射位置の移動により得られる上
記フォトマスタに形成された被検査パターンに対応する
第１の走査信号を検出する信号検出部と、上記被検査パ
ターンを形成する際の設計データを基に得られる第２の
走査信号を発生する基準信号発生部と、前記被検査パタ
ーンに許容される黒糸欠陥及び白糸欠陥の各最大寸法が
設定され、前記第１及び第２の走査信号の差分を求め前
記被検査パターンの欠陥寸法を検出すると共に黒系欠陥
若しくは白糸欠陥のいずれかであるかを検出し、この検
出結果に対応する上記設定された黒系欠陥若しくは白糸
欠陥の許容欠陥寸法と上記検出欠陥寸法とを比較し検出
欠陥寸法が許容欠陥寸法より大なるとき欠陥有りと判定
する判定部とを具備している。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記第１従来例にあっては、パターンの
２次元画像を２値化し、その輪郭部と他の部との濃度差
に基づいて輪郭部を検出し、これを細線化してから形状
特徴曲線を求めるようにしているので、パターンの外形
の欠陥検査には好適であるが、パターン内部における欠
陥の有無については全く検査することができないという
課題があった。

また、上記第２従来例にあっては、被検査パターンに対
応する第１の走査信号と、設計データがら得られる基準
となる第２の走査信号との差分を求めて欠陥寸法を検出
すると共に欠陥が黒糸欠陥であるか白糸欠陥であるかを
検出して、そのときの欠陥が白糸欠陥であるときには、
欠陥寸法を白糸欠陥寸法と比較し、黒糸欠陥であるとき
には欠陥寸法を黒糸欠陥と比較して結果の有無を判定す
るので、第１の走査信号と第２の走査信号を比較するた
めに、被検査パターン及び設計データに基づき基準パタ
ーンの画像データを全て記憶し、これらを画像データを
１画素毎に全てが一致するが否かを判定する必要があり
、判定時間が長大となると共に、メモリ容量も膨大なも
のとなるという課題があった。

そこで、この発明は、上記従来例の課題に着目してなさ
れたものであり、被検査パターン及びマスタパターンの
内側及び外側の輪郭データを算出し、これらの輪郭デー
タを比較することにより、欠陥の有無を判定するように
したので、内部欠陥の有無を判定することができ、しか
もメモリ容量を減少させると共にスループットを向上さ
せることができるパターン欠陥検査方法及び装置を提供
することを目的としている。

〔課題を解決するための手段〕

上記課題を解決するために、請求項（１）の発明は、被
検査物のパターンと撮像装置とを相対的に１次元又は２
次元に走査してパターンデータを得、該パターンデータ
と予め記憶したマスタパターンデータとを比較してパタ
ーンの欠陥を検査するようにしたパターン欠陥検査方法
において、前記撮像装置からのパターンデータに基づい
てパターンの輪郭を表す輪郭データを作成し、該輪郭デ
ータと前記マスタパターンの輪郭データとを比較してパ
ターンの欠陥の有無を判定するようにしたことを特徴と
している。

また、請求項（２）の発明は、前記マスタパターンの輪
郭データとパターンデータの輪郭データとの排他的論理
和をとって欠陥部を抽出することを特徴としている。

さらに、請求項（３）の発明は、所定のパターンを形成
した被検査物のパターンと盪像装置とを相対的に１次元
又は２次元に走査してパターンデータを得、虚妄パター
ンデータとマスタパターンデータとを比較してパターン
の欠陥を走査するようにしたパターン欠陥検査装置にお
いて、前記パターンデータからパターンの輪郭データを
抽出する輪郭データ抽出手段と、前記マスタパターンデ
ータからエツジ座標を算出し、該エツジ座標を結んでマ
スタ輪郭データを形成するマスタ輪郭データ形成手段と
、前記輪郭データ抽出手段及びマスタ輪郭データ形成手
段の輪郭データを比較して欠陥部を抽出する欠陥部抽出
手段とを備えたことを特徴としている。

なおさらに、請求項（４）の発明は、前記欠陥部抽出手
段は前記輪郭データ抽出手段及びマスタ輪郭データ形成
手段の輪郭データの排他的論理和をとって欠陥部を抽出
することを特徴としている。

〔作用〕

この発明においては、被検査物のパターンデータに基づ
いてその内側及び外側の輪郭データを形成すると共に、
設計データ等のマスタパターンデータから同様に内側及
び外側の輪郭データを形成し、両輪郭データを比較して
欠陥の有無を判定するので、比較対象となるデータが輪
郭データのみでよく、メモリ容量を低減することができ
ると共に、判定に要する処理時間を短縮することができ
る。

〔実施例〕

以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図はこの発明の一実施例を示すブロック図である。

図中、１はマスタ、レチクル、プリント基板等の表面に
所定の検査パターンＰを形成した被検査物２を載置して
少なくともＸＹ力方向移動可能な載置台であって、この
載置台１がＸ軸駆動モータ１ａ及びＹ軸駆動モータ１ｂ
によってＸＹ力方向移動される。

載置台１の上面側には、被検査物２と対向する位置に盪
像装置としてのＣＣＤカメラ３が固定配置され、このＣ
ＣＤカメラ３で被検査物２の検査パターンＰを撮像して
その画像データを出力する。

そして、載置台１及びＣＣＤカメラ３が例えばコンピュ
ータで構成される制御装置４によって制御されると共に
、ＣＣＤカメラ３の画像データが制御装置４によって処
理される。

制御装置４には、Ｘ軸モータ１ａ及びＹ軸モータ１ｂを
制御するモータコントローラ７、ＣＣＤカメラ３を制御
するカメラコントローラ８、画像メモリとしての３つの
ビットマツプメモリ９ａ。

９ｂ及び９ｃ、磁気テープ装置１０、磁気ディスク装置
１１　ＣＲＴデイスプレィ１２及びプリンタ１３が接続
されている。磁気テープ装置ｌＯには、マスタ等の被検
査物２に形成する検査パターンＰの設計を行う場合に使
用するＣＡＤ装置からのフォトプロッタ又はパターンジ
ェネレータへの入力用データ（以下、ＣＡＤデータと称
す）を記録した磁気テープが装着される。ここで、ＣＡ
Ｄデータは、第２図に示すように、マスタパターンＭを
形成する場合に必要なデータであり、数値制御装置等と
同様のフォーマントを有し、例えばＸ軸方向に走査する
所定形状のアパーチャーＡｌ及びＹ軸方向に走査するア
パーチャーＡ２の選択データＤ１０．Ｄ１１、アパーチ
ャーＡ１及びＡ２の移動座標データ（Ｘｘｉ、　Ｙｖり
及びシャッタの開データＤＯ１，閉データＤ０２等で構
成され、例えばマスタパターンＭの上半部を走査するに
は、’ＧＯＯＸｘ＋Ｙｖ＋ＤＯ２Ｄ１０」としテシ＋　
ツタ−を閉状態でアパーチャーＡ、を初期位置（Ｘ＋。

ｙ、）に移動サ−ｔ＝、次イｉ”　’Ｇ　０１　Ｘｘｚ
ＹｙｚＤ　０１」としてシャッターを開状態としてから
アパーチャーＡＩを移動終了位ＩＦ（ｘｇ、ｙｔ）に移
動させることにより行う。

制御装置４は、予め内蔵するＲＯＭに記憶されたプログ
ラムに従って所定の処理を実行し、ＣＡＤデータからマ
スタパターンＭの外形を示す座標データ（エツジのｘ、
ｙ座標を数値データ）を算出してこれをマスタパターン
データとして磁気ディスク装置１１に記憶すると共に、
この磁気ディスク装置１１に記憶されているマスタパタ
ーンデ−夕からその輪郭を表す輪郭画像データを形成し
てこれをビットマツプメモリ９ａに記憶し、且つＣＣＤ
カメラ３から入力される被検査物２の読取パターンデー
タの輪郭画像データを形成してこれをビ・７トマツプメ
モリ９ｂに記憶し、両メモリ９ａ及び９ｂに記憶された
輪郭画像データを比較することにより、被検査物２に形
成されたパターンの欠陥の有無を検査し、欠陥があると
きには、その欠陥部のデータをビットマツプメモリ９Ｃ
に記憶し、この記憶データを必要に応じてＣＲＴデイス
プレィ１２及びプリンタ１３に出力する。

次に、上記実施例の動作を中央処理装置５の処理手順を
示す第３図〜第５図のフローチャートを伴って説明する
。

まず、基準となるマスタパターンＭの輪郭データを登録
する。このマスタパターンの輪郭データの登録は、第３
図に示すように、マスタ、レチクル、プリント基板等の
パターンを設計する際に使用するＣＡＤデータを記録し
た磁気テープを磁気テープ装置１０に装着し、この状態
でステップ■で磁気テープ装置１０を駆動してＣＡＤデ
ータを読込み、次いでステップ■に移行してアパーチャ
ーの種別、始点座標及び終点座標からマスタパターンＭ
の外形の始点座標（Ｘｓ、）’ｔ）及び終点座標（Ｘｚ
、ｙｇ）を算出する。すなわち、アパーチャーの種別に
応じてアパーチャーの大きさがわかり、始点座標（Ｘｓ
、）’＋）及び終点座標（Ｘｔ、）’ｚ）からマスタパ
ターンＭの延長方向がわかるので、例えばマスタパター
ンＭが簡単のため第２図に示す逆り字状のパターンであ
るものとすると、アパーチャーＡ、の始点座標（Ｘ、、
Ｙυ及び終点座標（Ｘｚ、Ｙｚ）からマスタパターンＭ
の外形の始点はアパーチャーＡ１が始点座標（ｘ＋、ｙ
＋）にある状態で、左上隅の座標（Ｘｓ、）’＋）が外
形のエツジ座標であることが認識され、同様に外形の他
端例のエツジ座標はアパーチャーＡＩが終点座標（Ｘｘ
、Ｙｚ）にある状態で、右下隅の座標（Ｘｚ、）’ｚ）
であることが認識され、さらにアパーチャーＡ＋の終点
座標位置で下側に連接する他のアパーチャーの終点座標
がないことにより、右下隅の座標（Ｘｓ、）’ｓ）もエ
ツジ座標として認識することができ、同様にしてアパー
チャーＡ２の始点座標（Ｘ　３．　Ｙ　３）及び終点座
標（Ｘ、、Ｙ４）から外形のエツジ座標（Ｘｓ、ｙ４）
、（Ｘｓ、）’ｓ）及び（ｘ６．ｙｂ）を算出し、これ
らエツジ座標の算出が終了したらステップ■に移行して
各エツジ座標を結んで第６”Ｊ（ａ）に示す輪郭パター
ンデータを形成し、これをステップ■でピントマツプメ
モリ９ａに記憶して、マスタパターンＭの輪郭データ登
録処理を終了する。

このマスタパターンＭの輪郭データ登録処理が終了した
後に、検査対象となる被検査物２の検査パターンＰを検
査するには、まず被検査物２を載置台ｌ上に位置決めし
て載置する。この状態で、第４図の検査パターン輪郭デ
ータ処理を実行する。

すなわち、ステップ■で、載置台１を移動させるモータ
コントローラ７を作動させると共に、カメラコントロー
ラ８を作動させて、被検査物２の検査パターンＰをＣＣ
Ｄカメラ３で撮像する。これにより、ＣＣＤカメラ３か
ら１画素毎に２値化された画像データが出力され、これ
を制御装置４内に読込んで、内蔵する所定のＲＡＭに記
憶する。

次いで、ステップ＠に移行して、ＲＡＭに記憶されてい
る検査パターンＰの画像データを画素単位で行及び列方
向に走査して、符号が“０”から“１”に又はその逆に
反転するビット位置を検索し、このビット位置をエツジ
座標として、順次記憶して各エツジ座標を結ぶことによ
り検査パターンＰの輪郭データを作成し、次いで、ステ
ップ■に移行して輪郭データをビットマツプメモリ９ｂ
に記憶させる。

このようにして、ビットマツプメモリ９ｂに検査パター
ンＰの輪郭データが記憶された後に、検査パターンＰの
欠陥の有無を判定するには、第５図に示す処理を実行す
る。すなわち、ステップ［相］で初期化を行い、各ビッ
トマツプメモリ９ａ及び９ｂに記憶されている第６図（
ａ）に示すマスタパターンＭの輪郭データ及び第６図（
Ｃ）に示す検査パターンＰの輪郭データの続出開始位置
を例えば第６図（ａ）及び（０）で鎖線図示の如く中心
画素Ｗ、、、Ｗ、。

が画素Ｄ０゜となるように設定すると共に、検査つイン
トウ（続出範囲）Ｗを例えば３×３画素に設定する。

次いで、ステップ０に移行して、ビットマツプメモリ９
ａに対する検査ウィンドウＷＭの中心画素ＷＭＳが論理
値“°１パであるか否かを判定する。

この判定は、検査ウィンドウＷの中心画素ＷＭＳにマス
タパターンＭの輪郭データが存在するか否かを判定する
ものであって、中心画素Ｗ、Ｓが論理値″１”であると
きには、ステップ［相］に移行してビットマツプメモリ
９ｂに対する検査ウィンドウＷＰの各画素ＭＰｌ−ＭＰ
、の何れか１つが論理値“１”であるか否かを判定する
。この判定は、マスタパターンＭと検査パターンＰとが
検査ウィンドウＷＰの範囲内で一致しているか否かを判
定するものであり、検査ウィンドウＷＰの各画素Ｍ、１
〜Ｍ１．の全てのビットが論理値“θ″であるときには
、ステップ［相］に移行して欠陥有りと判定して、その
ときのビットマツプメモリ９Ｃの検査ウィンドウＷ。

の中心画素ＷＭＳ位置に対応する画素位置に論理値“１
”を記憶してからステップ［相］に移行し、各画素Ｍ　
Ｐ　ｌ　””　Ｍ　ｐ　９の何れかのビットが論理値“
ｌ”であるときには、欠陥無しと判定して直接ステップ
［相］に移行する。

ステップ［相］では、検査ウィンドウＷＭ及びＷＰを右
に１画素分シフトさせる。このとき、検査ウィンドウＷ
、４．Ｗ、がビットマツプメモリ９ａ、９ｂの右端のビ
ット位置にあるときには、その１画素分下側の行におけ
る左端のビット位置にシフトさせる。

次いで、ステップ［相］に移行して、検査ウィンドウＷ
Ｍ、Ｗ、の中心画素Ｗ１４Ｓ、　Ｗ、、がビットマツプ
メモリ９ａ、９ｂの全ての画素Ｄ０゜〜ＤＦＦについて
走査を完了したか否かを判定し、走査が未完了であると
きには前記ステップ［相］に戻り、走査が完了したとき
には処理を終了する。

一方、ステップ［相］の判定結果が、検査ウィンドウＷ
Ｐの中心画素ＷＭＳのビットが論理値“Ｏ゛であるとき
にはステップ０に移行して、検査パターンＰに対する検
査ウィンドウＷＰの中心画素ｗｒｓが論理値“１”であ
るか否かを判定する。この判定は、検査ウィンドウＷＰ
の中心画素ＷＰ、に検査パターンＰが存在するか否かを
判定するものであり、中心画素ＷＰＳが論理値“０”で
あるときには、検査パターンＰが存在しないものと判断
して前記ステップ［相］に移行し、論理値″１”である
ときには、検査パターンＰが存在するものと判断してス
テップ［相］に移行する。

このステップ［相］では、前記ステップ［相］とは逆に
マスタパターンＭに対応する検査ウィンドウＷ、４の各
画素Ｗ。１〜Ｗ、４．の何れか１つが論理値“１パであ
るか否かを判定する。この判定は、検査パターンＰの検
査位置に対応するマスタパターンＭの位置にパターンが
存在するか否かを判定するものであり、検査ウィンドウ
Ｗ８の各画素Ｗ、４１〜Ｗ１４゜の何れかが論理値“１
゛であるときには欠陥無しと判断して前記ステップ［相
］に移行し、各画素ＷＭＩ〜ＷＭ？の全てが論理値“Ｏ
＋＋であるときには欠陥有りと判断して前記ステップ０
に移行する。

したがって、今ビットマツプメモリ９ａに記憶されてい
るマスタパターンＰの輪郭データが第６図＋ａ）に示す
ように逆り字状であるものとし、ＣＣＤカメラ３で描像
された被検査物２の検査パターンＰの画像データが第６
図世）に示す形状であるものとすると、第４図に示す検
査パターン輪郭データ処理によって、第６図（Ｃ）に示
す検査パターンＰの輪郭データを得、これをビットマツ
プメモリ９ｂに記憶する。

そして、第５図に示す欠陥検査処理において、ビットマ
ツプメモリ９ａ、９ｂの各画素を検査ウィンドウＷ、、
Ｗ、によって走査したときに、画素Ｄ０゜〜ＤＤ６Ｆ、
Ｄｌ。〜ＤＩＦ及びＤ２゜までの間は、中心画素ＷＭ、
及びＷ、ＳにマスタパターンＭ及び検査パターンＰが共
に存在しないので、各ウィンドウＷ、及びＷ、の中心画
素Ｗ、、及びＷＰ、が論理値“０゛を維持し、このため
第５図の処理において、ステップ［相］での初期化後に
ステップ［相］及びステップ０を経てステップ［相］に
移行して両つィンドウＷ工及びＷＰを１画素分だけ右に
シフトさせ、両ウィンドウＷＭ、Ｗ、のシフトが完了し
ていないので、ステップ［相］からステップ［相］に戻
る処理を繰り返し、このとき検査パターンＰに欠陥がな
いので、ビットマツプメモリ９ｃの対応するビット位置
は全て論理値“°０“となる。

その後、マスタパターンＭに対応する検査ウィンドウＷ
ＨＯ中心画素Ｗ１４．が画素Ｄ２．の位置に達すると、
中心画素Ｗ。が論理値“１１１となり、このため第５図
のステップ［相］からステップ０に移行し、検査パター
ンＰに対応する検査ウィンドウＷ２の各画素Ｗ□〜ＷＰ
、中に論理値“１”のビットがあるか否かを判定する。

このとき、画素Ｗ、、。

Ｗ　Ｐ　ｈ　＋　Ｗ　ｐ　、の各ビットが論理値゛１゛
となっているので、欠陥無しと判断されてステップ０に
移行し、両検査ウィンドウＷＨ及びＷ、を１画素分右に
シフトさせ、次いでステップ［相］で両ウィンドウＷ、
４．Ｗ、のシフトが完了していないので、ステップ［相
］に戻り、上記欠陥検査を継続する。

そして、ウィンドウＷＭ、Ｗ、の中心画素Ｗ１４Ｓ。

Ｗ門がビットマツプメモリ９ａ、９ｂの画素り。

に達すると、マスタパターンＮ１に対応する輪郭データ
には、画素り、のビットが論理値“０”であるので、ス
テップ［相］からステップ０に移行し、検査パターンＰ
に対応する輪郭データの画素ＤＭＫのビットが論理値“
１”であるか否かを判定する。

このとき、画素Ｄ！ｔのビットが論理値“１パであるの
で、ステップ［相］に移行してマスタパターンＭに対応
する検査ウィンドウＷ１４の各画素Ｗ！４．−Ｗや、の
何れかが論理値“１”であるか否かを判定し、このとき
画素ＷＭ４及びＷｌｌ？のビットが論理値“１”となっ
ていので、欠陥無しと判断してステップ［相］、＠に移
行し、両検査ウィンドウＷ。、ＷＰを右に１画素分シフ
トさせてからステップ［相］に戻る。

この状態となると、両検査ウィンドウＷ＋４．Ｗ。

の中心画素ＷＭＳ、Ｗ、Ｓが画素Ｉ）ｔｒの位置に達し
、マスタパターンＭに対応する輪郭データには画素Ｄ□
のビットが論理値“０”であるので、ステップ０からス
テップ０に移行し、検査パターンＰに対応する輪郭デー
タには画素Ｉ）ｚｒのビットが論理値″１″であるので
、ステップ［相］に移行する。このとき、マスタパター
ンＭに対応する検査ウィンドウＷ工の各画素は全て論理
値“０”となっているので、検査パターンＰの画素Ｉ）
ｔｒが欠陥であると判断して、ステップ［相］に移行し
ビットマツプメモリ９ｃの画素Ｉ）ｚｒの位置に論理値
“ｌ”を書込んでからステップ［相］、［相］を経てス
テップ［相］に戻る。

この状態となると、両検査ウィンドウＷ、、Ｗ。

の中心画素ＷＭＳ、　Ｗ、、が画素Ｄ３゜の位置に達し
、両検査ウィンドウＷ、４．Ｗ、の中心画素Ｗ１４Ｓ、
　Ｗ、Ｓのビットが共に論理値“０°”となるので、ス
テップ［相］からステップのを経てステップ［相］に移
行し、両検査ウィンドウＷ。、ＷＰを１画素分右にシフ
トさせてからステップ［相］に戻り、以下順次同様の処
理を行って両検査ウィンドウＷ、、Ｗ、の中心画素ＷＭ
Ｓ、　Ｗ、、がビットマツプメモリ９ａ、９ｂの画素Ｄ
３Ｆ、Ｄ４□　Ｄ５ＦＩ　　Ｄ６ＦＩ　　Ｄ？Ｆ及びＤ
９Ａに達すると欠陥と判断してビットマツプメモリ９ｃ
の該当する画素Ｄ　３ＦＩ　　Ｄ　ＪＦＩ　　Ｄ　ＳＦ
Ｉ　Ｄ　６ＦＩ　Ｄ　ｔｙ及びり、＾に夫々論理値“１
”を書込む。したがって、ビットマツプメモリ９ｃには
、第６図（Ｃ）に示すように、欠陥部に対応する部分の
みが論理値″１″となる欠陥データが記憶される。

そして、必要に応じてビットマツプメモリ９ｃの記憶内
容を読出してＣＲＴデイスプレィ１２又はプリンタ１３
に出力することにより、検査パターンＰの欠陥部の表示
又は印字を行うことができる。

また、ＣＣＤカメラ３で撮像した被検査物２の検査パタ
ーンＰに第７図（ａ）に示すように内部欠陥がある場合
には、第４図の検査パターン輪郭データ処理を行うこと
により、第７図（ｂ）に示すように外周側の輪郭と内部
欠陥の周囲の輪郭とを表す輪郭データが得られ、これが
ビットマツプメモリ９ｂに記憶される。

そして、第５図の欠陥検査処理を実行すると、ビットマ
ツプメモリ９ｂの画素Ｄ０゜〜Ｄ６□までの間は、マス
タパターンＭと検査パターンＰとの輪郭データが互いに
一致するので、ステップ［相］からステップ［相］を経
てステップ［相］に移行するか、ステップ０からステッ
プ０．＠を経てステップ［相］に移行して、ビットマツ
プメモリ９ｃには論理値″１°。

の欠陥データが書込まれることがないが、検査パターン
Ｐに対応する検査ウィンドウＷ、の中心画素Ｗ□が画素
ＤＩ３の位置に達すると、マスタパターンＭの画素Ｉ）
ｓｓのビットは論理値“０゛であるので、ステップ［相
］からステップのに移行し、検査パターンＰの画素ＤＩ
＋３のビットが論理値“１“であるため、ステップ［相
］に移行し、マスタパターンＭに対応する検査ウィンド
ウＷ４の各画素Ｗ、、〜ＷＭ９の何れかが論理値“１”
であるか否かを判定する。このとき、マスタパターンＭ
の検査ウィンドウＷ９の各画素Ｗ、、＃Ｗ、、は論理値
“Ｏ１１であるので、欠陥であると判断し、ステップ［
相］に移行してビットマツプメモリ９Ｃの画素Ｉ）ｓ３
に論理値“１”を書込んでから検査ウィンドウＷ。及び
Ｗ、を１画素分右にシフトしてステップ０に戻る。

以下同様に、検査パターンＰに対応する検査ウィンドウ
ｗｐの中心画素ＷＰ５が検査パターンＰの画素Ｄｓａ〜
Ｄｓｉ＋　　Ｄ９３１　Ｄ９＆ｌ　ＤＡ３１　　Ｄａｔ
ｈ＋　　Ｄｍｓ＋Ｄ　ＩＩ　ｂ　＋　　Ｄ　Ｃ３〜Ｄｃ
ｔｈについて欠陥有りと判断してステップ［相］に移行
してビットマツプメモリ９ｃの対応する画素位置に論理
値“１”を書込む。

したがって、第７図（Ｃ）に示すビットマツプメモリ９
Ｃの記憶内容から検査パターンＰの欠陥部を認識するこ
とができる。

この第１実施例によると、３×３ビツトの検査ウィンド
ウＷ。及びＷ、を使用して欠陥検査を行うようにしてい
るので、マスタパターンＭ及び検査パターンＰに±１ビ
ットの量子化誤差或いは位置ずれが生じた場合でも欠陥
無しと判断することができ、誤検出を防止することがで
きる。

なお、上記第１実施例においては、制御装置４で欠陥検
査を行う場合について説明したが、これに限定されるも
のではなく、制御装置４でビットマツプメモリ９ａ及び
９ｂに記憶されたマスタパターンＭの輪郭デ′−夕及び
検査パターンＰの輪郭データを夫々所定の大きさの検査
ウィンドウを使用して読出し、これらを第８図に示す判
定回路２０に供給して欠陥の有無を判定し、その判定結
果を制御装置４で読込んでビットマツプメモリ９Ｃに記
憶するようにしてもよい。

すなわち、判定回路２０は、セレクト入力端子Ｓに供給
される選択入力信号が論理値“０”であるときに一方の
入力端子１１に供給される入力信号を選択し、論理値“
ｌ”であるときに他方の入力端子■２に供給される入力
信号を選択する２つのセレクター２０Ａ及び２０Ｂと、
その選択出力が夫々入力側に供給される排他的論理和回
路２１とを備えている。セレクター２０Ａの一方の入力
端子■１にはマスタパターンＭに対応する検査ウィンド
ウＷ。の中心画素Ｗ１４Ｓの読出信号がＩ１０インタフ
ェース２２を介して、他方の入力端子Ｉ２には検査ウィ
ンドウＷ１１の各画素ＷＨ，〜ＷＮ、の読出信号がＩ１
０インタフェース２２及びＯＲ回路２３を介して、セレ
クト端子Ｓには検査パターンＰに対応する検査ウィンド
ウＷ、の中心画素Ｗ門がＩ１０インタフェース２２を介
して夫々入力され、且つセレクター２０Ｂの一方の入力
端子■、には検査パターンＰに対応する検査ウィンドウ
Ｗ、の中心画素ＷＰｓの読出信号がＩ１０インタフェー
ス２２を介して、他方の入力端子Ｉ２には検査ウィンド
ウＷ、の各画素Ｗ、〜ＷＰ、の読出信号がＩ１０インタ
フェース２２及びＯＲ回路２４を介して、セレクト端子
ＳにはマスタパターンＭに対応する検査ウィンドウＷＭ
の中心画素ＷＭＳがＩ１０インタフェース２２を介して
夫々入力されている。また、排他的論理和回路２１の出
力信号がＩ１０インタフェース２２を介して制御装置４
に接続されている。そして、第６図（ａ）及び（Ｃ）に
おける画素Ｄ０゜、Ｄｏｌ・・・・・のように検査ウィ
ンドウＷ８及びＷ、の中心画素Ｗ、１ｓ及びＷ２．が共
に論理値“０”であるときには、セレクター２０Ｂ及び
２０Ａで入力端子■、を選択するので、中心画素Ｗ■及
びＷＰｓの論理値“０゛のビット信号が排他的論理和回
路２１に入力されるので、その出力は論理値″０”とな
り、ビットマツプメモリ９ｃの該当画素位置に欠陥無し
を表す論理値“ＯＩＩが書込まれる。

同様に、マスタパターンＭに対応する検査ウィンドウＷ
、４及び検査パターンＰに対応する検査ウィンドウＷＰ
の中央画素Ｗ□及びＷ□の何れか一方が論理値″１”、
他方が論理値“０″であるときには、論理値１パとなっ
た中央画素Ｗ９．（又はＷｌ、）と、他方の各画素ＷＰ
、〜ＷＰ９（又はＷｌ４゜〜Ｗ　Ｍ　９　）のＯＲ出力
とが排他的論理和回路２１に入力されるので、各画素Ｗ
Ｐ１〜ＷＰ９（又はＷ８１〜Ｗ　Ｈ？　）の何れか１つ
が論理値“１°゛であれば、排他的論理和回路２１の出
力が論理値“０”となって欠陥無しと判断することがで
き、各画素ＷＰｌ〜Ｗ２．（又はＷ０〜Ｗ　Ｍ　９　）
の全てが論理値“０パであるときには、排他的論理和回
路２１の出力が論理値“１”となって欠陥有りと判断す
ることができる。

また、上記実施例においては、検査ウィンドウＷ、４及
びＷ、を３×３ビツトに選定した場合について説明した
が、これに限らず任意の大きさの検査ウィンドウを適用
し得ることは言うまでもない。

さらに、一般にパターンを形成するためのＣＡＤデータ
には、第９図（ａｌに示すように、被検査物２を載置台
１上に位置決めするための複数のアライメントマークＡ
Ｍも表されており、このアライメントマークＡＭの座標
と、第９図（ｂｌに示す被検査物２の読取データ中に含
まれるアライメントマークＡＭ’の座標とを比較するこ
とにより、両者のずれ量を算出することができ、このず
れ量を載置台１を移動させて補正するか、ビットマツプ
メモリ９ａ又は９ｂの座標を補正して解消することによ
り、検査ウィンドウＷＨ及びＷＰを最小画素単位の大き
さに選定することもでき、この場合にはマスタパターン
Ｍ及び検査パターンＰの相対応する画素のビットの排他
的論理和をとることにより、両者が一致すれば良品、不
一致であるときには欠陥有りと判断することができる。

またさらに、上記実施例においては、撮像装置としてＣ
ＯＤカメラ３を適用した場合について説明したが、これ
に限定されるものではなく、ライン走査形のイメージセ
ンサと同期をとって移動するＳ！載置台組合わせ等を適
用することもできる。

なおさらに、上記実施例においては、ＣＡＤデータとし
てフォトプロッタ又はパターンジェネレータへの入力用
データを適用した場合について説明したが、これに限定
されるものではなく、パターンの外形を取り出せる図形
データであればよく、またデータ記録媒体としては磁気
テープ以外にフロッピィディスクネットワーク等の任意
の記録媒体を適用することができる。

〔発明の効果］ 以上説明したように、この発明によれば、基準となるマ
スタパターン及び被検査物を走査して得られる検査パタ
ーンの輪郭データを形成し、両輪部データを比較するこ
とにより、検査パターンに欠陥があるか否かを判定する
ようにしているので、検査パターンの欠陥検査を短時間
で行うことができ検査装置自体のスループットを向上さ
せると共に、記憶データが少なくなって記憶容量を減少
させることができる等の効果が得られる。

また、検査パターンの輪郭データとマスタパターンの輪
郭データとの排他的論理和をとることにより、両データ
間に座標ずれを生じている場合にも正確な欠陥検査を行
うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示すブロック図、第２図
はマスタパターンを示す説明図、第３図は制御装置のマ
スタパターンの輪郭データ処理手順を示すフローチャー
ト、第４図は制御装置の検査パターンの輪郭データ処理
手順を示すフローチャート、第５図は制御装置の欠陥検
査処理手順を示すフローチャート、第６図（ａ）〜（ｄ
）及び第７図（ａ）〜（Ｃ）はそれぞれこの発明の実施
例の動作の説明に供するパターンの説明図、第８図はこ
の発明の他の実施例を示すブロック図、第９図ｔａ）及
び（ｂ）はそれぞれこの発明のさらに他の実施例の説明
に供する説明図である。 図中、１は載置台、２は被検査物、３はＣＯＤカメラ（
撮像装置）、４は制御装置、９ａ、９ｂ。 ９ｃはビットマツプメモリ、１０は磁気テープ装置、１
１は磁気ディスク、１２はＣＲＴデイスプレィ、１３は
プリンタ、Ｍはマスタパターン、Ｐは検査パターン、Ｗ
Ｈ，Ｗ、は検査ウィンドウ、Ｗ□、Ｗ、Ｓは中心画素、
２０は判定回路である。 第６図（（）） 第６図（Ｃ） 第６図（ｄ） ０−ＮＮ’１寸ＩＩ′１φトのΦ＜ｃｎｕｏｕｗＬＪＬ
ｊ ′　（ ＤＣ３［）ｃａ 第８図 第９図（０）第９回（ｂ） ＡＭ　　　　　Ａ￥゛

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）被検査物のパターンと撮像装置とを相対的に１次
   元又は２次元に走査してパターンデータを得、該パター
   ンデータと予め記憶したマスタパターンデータとを比較
   してパターンの欠陥を検査するようにしたパターン欠陥
   検査方法において、前記撮像装置からのパターンデータ
   に基づいてパターンの輪郭を表す輪郭データを作成し、
   該輪郭データと前記マスタパターンの輪郭データとを比
   較してパターンの欠陥の有無を判定するようにしたこと
   を特徴とするパターン欠陥検査方法。
2. （２）輪郭データとマスターパターンの輪郭データとの
   比較を排他的論理和をとることにより行うようにした請
   求項（１）記載のパターン欠陥検査方法。
3. （３）所定のパターンを形成した被検査物のパターンと
   撮像装置とを相対的に１次元又は２次元に走査してパタ
   ーンデータを得、該パターンデータとマスタパターンデ
   ータとを比較してパターンの欠陥を走査するようにした
   パターン欠陥検査装置において、前記パターンデータか
   らパターンの輪郭データを抽出する輪郭データ抽出手段
   と、前記マスタパターンデータからエッジ座標を算出し
   、該エッジ座標を結んでマスタ輪郭データを形成するマ
   スタ輪郭データ形成手段と、前記輪郭データ抽出手段及
   びマスタ輪郭データ形成手段の輪郭データを比較して欠
   陥部を抽出する欠陥部抽出手段とを備えたことを特徴と
   するパターン欠陥検査装置。
4. （４）欠陥部抽出手段は、輪郭データ抽出手段及びマス
   タ輪郭データ形成手段の輪郭データの排他的論理和をと
   って欠陥部を抽出するようにしてなる請求項（３）記載
   のパターン欠陥検査装置。