JPH01191676A - 細胞融合用チヤンバ - Google Patents
細胞融合用チヤンバInfo
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- JPH01191676A JPH01191676A JP63012527A JP1252788A JPH01191676A JP H01191676 A JPH01191676 A JP H01191676A JP 63012527 A JP63012527 A JP 63012527A JP 1252788 A JP1252788 A JP 1252788A JP H01191676 A JPH01191676 A JP H01191676A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
- C12M35/00—Means for application of stress for stimulating the growth of microorganisms or the generation of fermentation or metabolic products; Means for electroporation or cell fusion
- C12M35/02—Electrical or electromagnetic means, e.g. for electroporation or for cell fusion
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- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はバイオテクノロジーに係わり、特に。
細胞融合用の容器に関する。
細胞融合用チャンバとしては、精密工学会講演論文集（
昭６２年度春）のＰ８４５〜８４６に記載されているよ
うに、半導体のパターニング、エツチングをくりかえし
て形成されたものが知られている。
昭６２年度春）のＰ８４５〜８４６に記載されているよ
うに、半導体のパターニング、エツチングをくりかえし
て形成されたものが知られている。
上記従来技術では、チャンバの中で細胞対の融合を行う
ために、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）を施す方法
を用いているが、この方法では、細胞膜のダメージが大
きく破損し易いなどの問題点がある。その他、電気的に
融合させる方法があるが、チャンバの側壁に電極を精度
よく配置することが困難であった。また、電気融合を行
う場合には、二つの細胞を完全に接触した状態に保ち、
二つの細胞を貫く方向に最強の電界が加わるように電極
を配置する必要があった。
ために、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）を施す方法
を用いているが、この方法では、細胞膜のダメージが大
きく破損し易いなどの問題点がある。その他、電気的に
融合させる方法があるが、チャンバの側壁に電極を精度
よく配置することが困難であった。また、電気融合を行
う場合には、二つの細胞を完全に接触した状態に保ち、
二つの細胞を貫く方向に最強の電界が加わるように電極
を配置する必要があった。
本発明の目的は、チャンバ内に供給された二つの細胞を
完全に接触した状態で最適な電気融合処理を容易に行な
える装置を提供することにある。
完全に接触した状態で最適な電気融合処理を容易に行な
える装置を提供することにある。
上記目的は、リソグラフィ・エツチングによって貫通孔
を有する上部プレートと、細胞を保持するための細胞の
直径より小さな開口を有する下部プレートをそれぞれ別
個に形成し、両プレートの間に平面的な電極を配置して
張合せることによって達成される。
を有する上部プレートと、細胞を保持するための細胞の
直径より小さな開口を有する下部プレートをそれぞれ別
個に形成し、両プレートの間に平面的な電極を配置して
張合せることによって達成される。
上部プレートは、細胞が浮遊した流体を下部プレートの
所定の位置に誘導するための流路の役割を果たし、下部
プレート上の開口部は、異種細胞を互いに接触した状態
に保持する。上下のプレート間に形成された二つの電極
間に電圧を印加することにより細胞を融合する。
所定の位置に誘導するための流路の役割を果たし、下部
プレート上の開口部は、異種細胞を互いに接触した状態
に保持する。上下のプレート間に形成された二つの電極
間に電圧を印加することにより細胞を融合する。
本発明の実施例を以下に述べる。第１図は、発明の対象
となる細胞融合チャンバの構造を説明するための烏撤図
である。すなわち、上部プレート２には、貫通する孔７
がマトリクス状に形成されており、下部プレート３には
、上部プレートの孔７の位置に対応して、微細なスリッ
トを有する凹部６が形成されている。また、その面上に
、凹部をはさむ形で電極４ａ、４ｂ、・・・が形成され
ている。上部プレート２と下部プレート３は、孔７の中
心と凹部６の中心の位置関係が一致するように接合され
、多数のチャンバが形成された細胞融合用チャンバプレ
ートとして実用に供される。
となる細胞融合チャンバの構造を説明するための烏撤図
である。すなわち、上部プレート２には、貫通する孔７
がマトリクス状に形成されており、下部プレート３には
、上部プレートの孔７の位置に対応して、微細なスリッ
トを有する凹部６が形成されている。また、その面上に
、凹部をはさむ形で電極４ａ、４ｂ、・・・が形成され
ている。上部プレート２と下部プレート３は、孔７の中
心と凹部６の中心の位置関係が一致するように接合され
、多数のチャンバが形成された細胞融合用チャンバプレ
ートとして実用に供される。
第２図は、チャンバ形状の詳細を示す。第２（ａ）図は
、該チャンバの上面図であり、第２（ｂ）図、（ｃ）図
はそれぞれ、（ａ）図の断面ΩＱ、およびｍｍを示す。
、該チャンバの上面図であり、第２（ｂ）図、（ｃ）図
はそれぞれ、（ａ）図の断面ΩＱ、およびｍｍを示す。
該チャンバはショ糖液などの液中にて使用されるが、細
胞１は（ｂ）図に示すように穴７から流体にのせて供給
され、下部からの吸引によって、凹部６に保持される。
胞１は（ｂ）図に示すように穴７から流体にのせて供給
され、下部からの吸引によって、凹部６に保持される。
二つの細胞が並んだ状態で、電極４ａ、４ｂ間に電圧を
印加することにより、二つの細胞の融合が行われろ。
印加することにより、二つの細胞の融合が行われろ。
次に、上記チャンパリ形成方法について説明する。第３
図は、プレート３を形成する一手法について断面図を用
いて示したものである。始めに、（１００）を面方位と
するＳｉ単結晶プレート３′に酸化膜９を形成する（第
３図（ａ））、次いで、一方の面にレジスト１０を塗布
する（第３図（ｂ））。
図は、プレート３を形成する一手法について断面図を用
いて示したものである。始めに、（１００）を面方位と
するＳｉ単結晶プレート３′に酸化膜９を形成する（第
３図（ａ））、次いで、一方の面にレジスト１０を塗布
する（第３図（ｂ））。
その後、露光装置を用いた露光および現僅によってホト
レジスト１０に開ロバターン１１を形成する（第３図（
Ｃ））。次に、ホトレジスト１０をマスクとしてフッ化
水素酸等で酸化膜９をエツチングして、酸化膜９に開ロ
バターン１２を形成し。
レジスト１０に開ロバターン１１を形成する（第３図（
Ｃ））。次に、ホトレジスト１０をマスクとしてフッ化
水素酸等で酸化膜９をエツチングして、酸化膜９に開ロ
バターン１２を形成し。
レジストを除去する（第３図（ｄ））。さらに、酸化膜
９をマスクとしてＫＯＨ等のアルカリ水溶液、又はヒド
ラジン等のアミン系水溶液を用いて所定の時間異方性エ
ツチングを行うことにより、プレート３′の表面と約５
４．７°の角度を有する（１１１）系の面から成る側壁
１３が形成される（第３図（ｅ））。この状態で酸化膜
を除去し、再度全面に酸化膜を形成する（第３図（ｆ）
）。
９をマスクとしてＫＯＨ等のアルカリ水溶液、又はヒド
ラジン等のアミン系水溶液を用いて所定の時間異方性エ
ツチングを行うことにより、プレート３′の表面と約５
４．７°の角度を有する（１１１）系の面から成る側壁
１３が形成される（第３図（ｅ））。この状態で酸化膜
を除去し、再度全面に酸化膜を形成する（第３図（ｆ）
）。
次に、同様の手順によって下側の面からＳｉの部分を上
部のＶ溝に達するまで適当な時間エツチングし、凹部８
を形成する（第３図（ｇ））。次いで、全面の酸化膜を
除去することによって、スリット５が形成されたチャン
バを得ることができる。
部のＶ溝に達するまで適当な時間エツチングし、凹部８
を形成する（第３図（ｇ））。次いで、全面の酸化膜を
除去することによって、スリット５が形成されたチャン
バを得ることができる。
使用にあたっては、全面に酸化膜を再度形成する６次に
、第４図を用いて、第２図で示した電極４ａ、４ｂの形
成手法について説明する。まず、予めエツチング等でス
トライプ状に開口せしめた金属薄板１４を、既に凹部を
形成したプレートに位置合せする（第４図（ａ））。次
いで、この薄板１４をマスクとして、ＡＱ、又はＣｒ、
Ａｕなどの金属を蒸着によって付着させて電極を形成す
る。この場合、マスクとして、金属薄板を用いたが、第
３図で示したプロセスを用いて、レジストによって代用
することも可能である。
、第４図を用いて、第２図で示した電極４ａ、４ｂの形
成手法について説明する。まず、予めエツチング等でス
トライプ状に開口せしめた金属薄板１４を、既に凹部を
形成したプレートに位置合せする（第４図（ａ））。次
いで、この薄板１４をマスクとして、ＡＱ、又はＣｒ、
Ａｕなどの金属を蒸着によって付着させて電極を形成す
る。この場合、マスクとして、金属薄板を用いたが、第
３図で示したプロセスを用いて、レジストによって代用
することも可能である。
第２図でのプレート２の製法は、第３図で示した（ｃ）
〜（ｆ）のプロセスを省略し、片面から酸化膜の開ロバ
ターンを形成し、エツチングによってもう一方の面に達
するまでＳｉ加工すればよＵ）。
〜（ｆ）のプロセスを省略し、片面から酸化膜の開ロバ
ターンを形成し、エツチングによってもう一方の面に達
するまでＳｉ加工すればよＵ）。
加工されたプレート２と３は適当な位置合せおよび接着
が行われ、本発明における細胞融合用チャンバプレート
として実用に供する。
が行われ、本発明における細胞融合用チャンバプレート
として実用に供する。
上記実施例では、上下のプレート材料として昨結晶Ｓｉ
を用いたが他の材料で代用することもできる。また、上
記実施例では下部プレートに電極を形成した後に上部プ
レートと積層・接合したが、上部プレートに電極形成を
行って積層・接合しても同様の効果が得られる。
を用いたが他の材料で代用することもできる。また、上
記実施例では下部プレートに電極を形成した後に上部プ
レートと積層・接合したが、上部プレートに電極形成を
行って積層・接合しても同様の効果が得られる。
以上の説明から明らかなように、この発明に係る細胞融
合用チャンバにおいては、単結晶Ｓｉを異方性エツチン
グすることによって、チャンバ側壁部および細胞保持用
凹部を高精度で加工できる。
合用チャンバにおいては、単結晶Ｓｉを異方性エツチン
グすることによって、チャンバ側壁部および細胞保持用
凹部を高精度で加工できる。
また、チャンバの側壁部と細胞保持用凹部を別々に作る
ことによって、電極を平面的に形成することができ、高
精度の電極形状を達成できる。この結果、いずれのチャ
ンバにおいても二つの細胞を接触させた状態で、強い電
界が２細胞を貫く位置に保持することができ、融合を行
う上で好適な条件を与えることが可能となる。
ことによって、電極を平面的に形成することができ、高
精度の電極形状を達成できる。この結果、いずれのチャ
ンバにおいても二つの細胞を接触させた状態で、強い電
界が２細胞を貫く位置に保持することができ、融合を行
う上で好適な条件を与えることが可能となる。
第１図は本発明のチャンバの構成を説明するための透視
図、第２図は、本発明のチャンバ形状および、融合時の
細胞と電極の位置関係を示す平面図および縦断面、側断
面図、第３図はチャンバを構成する下部プレートの製造
工程を示す縦断面図、第４図は下部プレートに電極を形
成する工程を示す縦断面図である。 １・・・細胞、２・・・チャンバの側壁を構成する上部
プレート、３・・・チャンバの細胞保持部を構成する下
部プレート、４・・・電極。 代理人 ＃ Ｊ’ｌ！ ｆ’ ／Ｊ゛Ｊ ｌ ｌ 、
Ｍ’Ｄ； 、’、＞、、゛、−１・ 番 ） ２ 第 Ｚ 図 （久う ″１ 岬
図、第２図は、本発明のチャンバ形状および、融合時の
細胞と電極の位置関係を示す平面図および縦断面、側断
面図、第３図はチャンバを構成する下部プレートの製造
工程を示す縦断面図、第４図は下部プレートに電極を形
成する工程を示す縦断面図である。 １・・・細胞、２・・・チャンバの側壁を構成する上部
プレート、３・・・チャンバの細胞保持部を構成する下
部プレート、４・・・電極。 代理人 ＃ Ｊ’ｌ！ ｆ’ ／Ｊ゛Ｊ ｌ ｌ 、
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Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一対の細胞を流体的に吸引して保持する、細胞の径
より小さなスリットを複数個有し、該スリットの近傍に
、該スリットをはさむ配置で電極を形成した第１のプレ
ートと、該プレート上の該スリットと対応する位置に貫
通する孔を形成した第２のプレートとを接合した構造で
あることを特徴とする細胞融合用チャンバ。 ２、第１項記載の細胞融合用チャンバにおいて、該スリ
ット部に、二つの細胞を受容するためのＶ溝を形成した
ことを特徴とする細胞融合用チャンバ。 ３、第２項記載の細胞融合用チャンバにおいて、電極を
含む平面によつて、Ｖ溝部に吸引・保持された細胞が切
断されるような寸法形状にＶ溝が設けられていることを
特徴とする細胞融合用チャンバ。 ４、第１項記載の細胞融合用チャンバにおいて、第１お
よび第２のプレートの少なくとも一方がＳｉ又はその酸
化物で形成されていることを特徴とする細胞融合用チャ
ンバ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63012527A JP2624737B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 細胞融合用チヤンバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63012527A JP2624737B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 細胞融合用チヤンバ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01191676A true JPH01191676A (ja) | 1989-08-01 |
| JP2624737B2 JP2624737B2 (ja) | 1997-06-25 |
Family
ID=11807802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63012527A Expired - Lifetime JP2624737B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 細胞融合用チヤンバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2624737B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2659347A1 (fr) * | 1990-03-12 | 1991-09-13 | Agronomique Inst Nat Rech | Dispositif de culture de cellules assurant leur immobilisation. |
| WO1993002178A1 (en) * | 1991-07-22 | 1993-02-04 | Schmukler Robert E | Apparatus and methods for electroporation and electrofusion |
| JP2010011824A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Tosoh Corp | 細胞融合容器、細胞融合装置及びこれらを用いた細胞融合方法 |
| KR101015978B1 (ko) * | 2008-04-18 | 2011-02-25 | 대한민국 | 수정란 융합접시 |
| JP2021029203A (ja) * | 2019-08-28 | 2021-03-01 | 株式会社日立製作所 | 細胞製造装置 |
-
1988
- 1988-01-25 JP JP63012527A patent/JP2624737B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2659347A1 (fr) * | 1990-03-12 | 1991-09-13 | Agronomique Inst Nat Rech | Dispositif de culture de cellules assurant leur immobilisation. |
| WO1993002178A1 (en) * | 1991-07-22 | 1993-02-04 | Schmukler Robert E | Apparatus and methods for electroporation and electrofusion |
| KR101015978B1 (ko) * | 2008-04-18 | 2011-02-25 | 대한민국 | 수정란 융합접시 |
| JP2010011824A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Tosoh Corp | 細胞融合容器、細胞融合装置及びこれらを用いた細胞融合方法 |
| JP2021029203A (ja) * | 2019-08-28 | 2021-03-01 | 株式会社日立製作所 | 細胞製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2624737B2 (ja) | 1997-06-25 |
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