JPH01184266A - 酸化物超電導成形体の製造方法 - Google Patents

酸化物超電導成形体の製造方法

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JPH01184266A
JPH01184266A JP63006194A JP619488A JPH01184266A JP H01184266 A JPH01184266 A JP H01184266A JP 63006194 A JP63006194 A JP 63006194A JP 619488 A JP619488 A JP 619488A JP H01184266 A JPH01184266 A JP H01184266A
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JP
Japan
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superconductor
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oxide superconductor
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Pending
Application number
JP63006194A
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English (en)
Inventor
Nakahiro Harada
原田 中裕
Shiyouji Akashita
赤下 尚司
Eiki Cho
張 栄基
Masanori Ozaki
正則 尾崎
Tsukiji Hara
原 築志
Yukio Mitsui
三井 潔夫
Kiyoshi Ogawa
潔 小川
Sumitaka Yoshino
吉野 純隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Electric Power Development Co Ltd
Furukawa Electric Co Ltd
Hokkaido Electric Power Co Inc
Tohoku Electric Power Co Inc
Tokyo Electric Power Co Holdings Inc
Original Assignee
Electric Power Development Co Ltd
Furukawa Electric Co Ltd
Hokkaido Electric Power Co Inc
Tohoku Electric Power Co Inc
Tokyo Electric Power Co Inc
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E40/00Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
    • Y02E40/60Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment

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  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電カケープル、マグネット、電力貯蔵リンク又
は磁気シールド等に用いられる酸化物超電導成形体の製
造方法に関する。
〔従来の技術とその課題〕
近年、(Ln+−xsrX)CaO2、(L n 1−
XBa X) z Cu O4、L n B a z 
Cu 307、L n B a 、−。
5rxCu+07等(但し、LnはY、Sc又は希土類
元素)の層状ペロプスカイト型構造の酸化物超電導体が
見出されている。
これらの酸化物超電導体は、液体N2温度以上で超電導
となるため従来の液体He温度で超電導を示す金属超電
導体に較べて格段に経済的であり、各分野での利用が検
討されている。
ところで上記の酸化物超電導体は脆いため金属材料のよ
うに塑性加工ができず、これらをテープ状、線状などの
線材に加工するには、主に粉末冶金法が用いられ、例え
ば原料粉末を仮焼成して仮焼粉となし、この仮焼粉を基
体上に被覆成形したり、又はAg管等に充填して伸延加
工したり、或いはPVD法等の気相成長法によりSUS
やハステロイ合金のテープ上に酸化物超電導体の前駆物
質を直接析出させ、次いでこれらを0□含有雰囲気中で
加熱焼結する方法がとられている。
ところで上記のような酸化物超電導体の結晶構造は、第
1図にY B a 2 Cu 207−δの超電導体に
ついて例示したように立方体の中心にCu等の遷移元素
イオン、角隅にBa、Y等の半径の大きな活性金属イオ
ン、そして面心に酸素が配置されたものである。このよ
うな結晶構造からなる酸化物超電導体は、中心の遷移元
素イオンの電子雲が球対称でない為、電気的に結晶異方
性が強く、臨界電流がC軸方向に小さく、C軸に垂直な
面即ちa。
b軸を含む面に平行な方向に大きい値を示すものである
しかるに従来の酸化物超電導成形体の製造方法にあって
は、成形体を構成する超電導体の結晶粒はランダムに配
向しており、特に通電方向に高い臨界電流が得られるよ
うな結晶配向になっていない為、臨界電流密度(以下J
Cと略記)の低い酸化物超電導成形体しか得られないと
いう問題があった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明はかかる状況に鑑みなされたものでその目的とす
るところは、超電導特性に優れた酸化物超電導成形体の
製造方法を提供することにある。
即ち本発明は、非晶質基体又は準非晶質基体上に気相成
長法によりW又はTaのいずれか1種金属を第1Nとし
て析出させ、次いでその上に直接又はNi層を介してP
t、Pd、MgO,5rTi 03 、B a T i
 03の群から選ばれたいずれか1種金属又は化合物を
第2層として析出させたのち、更にその上に酸化物超電
導体を膜状に析出させる事を特徴とするものである。
本発明において非晶質基体とは、強加工して結晶構造を
非晶質状態としたハステロイ合金等の金属材料、又は他
の金属材料上にSiO□等の非晶質体を被着したもの、
又は完全に非晶質である必要はなく非晶質体が混在して
いるような準非晶質体等を総称するものである。
本発明方法において膜状の酸化物超電導体の形成にあた
っては基体を所定温度に加熱しながら酸化物超電導体の
前駆物質をスパッタし、次いでこれを徐冷することによ
りJc等に優れた超電導体を成膜し得るが、別途このよ
うにして形成した前駆物質の成膜体を酸素含有雰囲気中
で600〜950°Cに加熱したのちこれを徐冷するこ
とにより更に高い特性の超電導成形体とすることも可能
である。
又本発明にて応用する気相成長法としては、スパッタリ
ング法、イオンブレーティング法、プラズマ重合法、真
空蒸着法等のPVD法、又は熱分解法、還元法、反応法
等のCVD法が主に適用される。
〔作用〕
本発明では非晶質又は準非晶質の基体上に単体元素等の
物質を気相成長法により析出させると、その物質が面心
立方構造(以下fccと略記)物質の場合は、上記基体
面に垂直な方向に<111>が配向して析出するが、体
心立方構造(以下bccと略記)物質の場合は<hoo
>が配向して析出することを知見し、又上記の< ho
o >配向のbcc物質層の上にfcc物質を析出させ
るとfcc物質は<OOX>に配向して析出することを
知見してなされたものである。
即ち本発明は、非晶質又は準非晶質の基体上にW又はT
aのbcc物質を第1層として< hoo >に配向し
て析出させ、次いでこの上に直接又はNi層を介してP
t、Pd等の格子定数が第1図に示した超電導体のab
面の格子定数(3,8〜3.9人)に近いfcc物質を
第2層として<00jl!>に配向して析出させたのち
、このfcc物質層の上に酸化物超電導体物質をfcc
物質層と同じ<0Off>に配向して即ち第1図に示し
た結晶構造のC軸を、基体面に垂直な方向に配向して析
出させるものである。
又第2Nはその格子定数が第1層の格子定数に近い程<
ooi>に配向し易く、従って第1層と第2層の中間に
格子定数がW又はTaの格子定数に近いNiを第3層と
して介在させると第2層並びにその上に析出される酸化
物超電導体が<001!、>に配向し易くなる。
〔実施例〕
以下に本発明を実施例により詳細に説明する。
実施例−1 圧延により非晶質状態にまで強加工した厚さ0.2mm
のハステロイ合金(N 1−15%Cr−16%MO系
)テープを500°Cに加熱しながら該テープ上にRF
スパッタリング装置を用いて、先ず第1層としてTaを
、第3層としてNiを各々Ar50mTorr雰囲気中
でそれぞれ500及び800人の厚さに順次スパッタし
、次いで上記Ni層上に第2層としてPtをA r 3
0mTorr雰囲気中で500人スパッタし、しかるの
ちYBazCu+07の焼結体をターゲットに用い上記
テープを650°Cに加熱しなから0□が20容量%含
有された70mTorrA r雰囲気中でYBazCu
30.−6(δ−0,2〜0.4)の超電導体を厚さ1
戸スパッタした。スパッタ終了後酸素ガスを導入して全
体のガス圧を760Torrとしたのち上記テープの温
度を1°(:/minの速度で300°Cまで冷却して
テープ状の超電導体を得た。
実施例2 第1層をTa0代わりにWとした他は実施例1と同じ方
法によりテープ状の超電導体を製造した。
実施例3 第3層のNiを省略した他は実施例2と同じ方法でテー
プ状の超電導体を製造した。
比較例1 Ta、Ni、、Ptの第1.3.2層を省略した他は、
実施例1と同じ方法により、テープ状の超電導体を製造
した。
斯くの如くして得た各々のテープ状の酸化物超電導体に
ついて臨界温度(Tc)及びJcを測定した。結果は主
な製造条件を併記して第1表に示した。
尚、各々のテープ状超電導体の析出層の結晶配向をX線
回折法により調べたところ、実施例1〜3の成形体の各
層のうちTa、W及びNi層は基体面の垂直方向に< 
hoo >が配向し、又Pt層は、<002>が配向し
、更に酸化物超電導体層はく00!〉が配向していた。
他方比較例1の酸化物超電導体層は種々の結晶方位がラ
ンダムに配向していることが確認された。
第1表より明らかなように本発明方法品(実施例1〜3
)は比較方法品(比較例1)に較べてTC,Jcとも高
い値を示している。
本発明方法品のうち、第1層と第2層の中間に第3層と
してNiを介在させたもの(実施例1゜2)は、Niの
格子定数(3,52人)がTa又はWの格子定数(それ
ぞれ3.31人、3.17人)に近いためpt(格子定
数3.92人)を直接スパッタしたもの(実施例3)よ
り超電導体層の<ooj2>配向性が高くなり、その結
果Jcが特に高い値になっている。
以上本実施例ではY−Ba−Cu−0系超電導体につい
て説明したが他のLn−Ba−Cu−0系やLn−Ba
−Cu−F−0系(式中Lnは希土類元素)等の酸化物
超電導体にも適用できることは言うまでもない。
〔効果〕
以上述べたように本発明方法によれば超電導体層は臨界
電流値の大きい結晶方位が酸化物超電導成形体の通電方
向に配向して成膜されるので、Jc等の超電導特性に優
れた酸化物超電導成形体が得られ、工業上顕著な効果を
奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は酸化物超電導体の結晶構造の一例を示すYBa
zCu30.−δの結晶構造である。 特許出願人 代理人 弁理士 鉛末 雄−○Ba○Y・
cuQ。 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)非晶質基体又は準非晶質基体上に、気相成長法に
    よりW又はTaのいずれか1種金属を第1層として析出
    させ、次いでその上に直接又はNi層を介してPt、P
    d、MgO、SrTiO_3、BaTiO_3の群から
    選ばれたいずれか1種金属又は化合物を第2層として析
    出させたのち、更にその上に酸化物超電導体を膜状に析
    出させる事を特徴とする酸化物超電導成形体の製造方法
JP63006194A 1988-01-14 1988-01-14 酸化物超電導成形体の製造方法 Pending JPH01184266A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01189814A (ja) * 1988-01-22 1989-07-31 Hokuriku Electric Power Co Inc:The 酸化物超電導線材

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01189814A (ja) * 1988-01-22 1989-07-31 Hokuriku Electric Power Co Inc:The 酸化物超電導線材

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