JPH01181476A - CdTe太陽電池の集電体の製造方法 - Google Patents

CdTe太陽電池の集電体の製造方法

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JPH01181476A
JPH01181476A JP63002895A JP289588A JPH01181476A JP H01181476 A JPH01181476 A JP H01181476A JP 63002895 A JP63002895 A JP 63002895A JP 289588 A JP289588 A JP 289588A JP H01181476 A JPH01181476 A JP H01181476A
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JP
Japan
Prior art keywords
cdte
film
conductive material
solar cell
ohmic contact
Prior art date
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Pending
Application number
JP63002895A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoki Suyama
陶山 直樹
Noriyuki Ueno
上野 則幸
Hajime Takada
肇 高田
Takeshi Hibino
武司 日比野
Hiroyuki Kitamura
北村 外幸
Mikio Murozono
幹夫 室園
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/543Solar cells from Group II-VI materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

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  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、太陽電池及びフォトセンサー等の光起電力素
子の集電体の製造方法に関するものである。
従来の技術 近年、太陽電池は、石油の代替エネルギーとして、積極
的な研究開発が進められている。その大きな課題は、商
用電源コストと同等なコストで製造することにあり、低
コスト化のためには、高効率化と竜産低コスト化が必要
とされている。
各種材料系で太陽電池が開発されているが、印刷と焼成
をくりかえして形成する全印刷式のCdS/CaTe太
陽電池は、使用材料費が安く、薄膜形態であり、かつ太
陽光吸収材料として最適の禁制帯幅をもつCdTe(E
g=1.4eV)を用いるコトカ。
ら、低価格で高効率の太陽電池を突成できる可能性が大
きい。以下図面を参照しながら、上述した従来の全印刷
式CdS/CdTe太陽電池の一例について説明する。
第2図は従来の全印刷式Cds 10dTe太陽電池の
断面を示すものである。第2図において、ガラス基板1
上にC(Is粉末に融剤cacg2 及び、粘結剤を加
えペースト状にしたものを印刷焼結してCdS焼結膜2
を形成する。次に同膜上にCd、Toを水中で粉砕し乾
燥した微粉に微量のcacg2  と適量の粘結剤を加
えてペースト状にしたものを印刷焼結してCdTe焼結
膜3.4を形成する。さらに、(、iTaTa上にカー
ボンペーストと印刷後、400 ’Cで焼成してカーボ
ン膜6を形成する。このカーボン電極上にムg電極7を
、Cll5 膜上にムgIn電極6をそれぞれスクリー
ン印刷とその後の熱処理で形成する。
上記の製法で形成した太陽電池にガラス側から晃8を入
射させると、起電力が発生し、五g電極側か十極、五g
In電極側が一極となる。
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような構成では、CdTe膜は第2
図に示す様に、緻密なCdTe膜3と多孔質な0dTe
膜4とよりなり、CdTa膜中のボアの増大により膜抵
抗が大幅に増加し、太陽電池の内部抵抗が増加し特性が
低下する。これはCdTeペースト中の7ラツクスの添
加量が微量であることと、cd粉末とTo粉末の反応に
よって形成するため反応後の空洞が増加するものと考え
られる。フラックス添加量を増加すれば膜中ボアを減少
させることができるが、cace2 はCdS のフラ
ックスでもあるため065/CdTe界面にCdS、−
xTθ固溶体が形成され、特性が大幅に増加される。第
3図に全印刷式CdS/CdTe太陽電池の断面の電子
顕*鏡写真を示す。この写真から緻密なCdTe層(C
dTe活性層)3と多孔質なCdTe層4の存在が確認
できる。CdTe膜上にカーボンペースト6を印刷する
ことによって、多孔質なCdTe膜のボアを導電微粉カ
ーボンブラックで充填しうるが、CdTe層 Q界面で
のオーばツク性を得るためには、400 ’C以上での
熱処理が必要であり、このような温度ではカーボンペー
スト中の樹脂は熱分解してしまう。第3図はカーボン焼
成後の断面であるが、ボア部分には充填されていないこ
とがわかる。
すなわち、従来の方法では、CdTeとのオーミック接
触は得られても、多孔質C4Te層4のたて方向の抵抗
が大きいという問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、全印刷式のCdS/C(I
 T 6太陽電池のCdTa膜抵抗を減少させるCdT
e太陽電池の集電体の製造方法を提供するものである。
課題を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明のCdTe太陽電池
の集電体の製造方法は、焼結により形成したca’re
膜中の空洞をCdTaとオーミック接触をもつ材料と高
導電材料とで一部もしくは全部を充填するものである。
作用 本発明は上記した構成によって、CdTe膜との接触抵
抗の増加もなく、CdTe膜中のボア部分を高導電材料
で充填するため、高抵抗な多孔質(+ITe層を電流が
流れる時、低抵抗部分である充填された高導電材料中を
電流が流れ太陽電池の内部抵抗が減少して特性は向上す
る。また、多孔質なCdTe膜は、機械的強度が弱く、
信頼性に悪影響を与えるが、高導電材料の充填によりそ
の強度も増し、信頼性も向上することになる。
実施例 以下本発明の一実施例のCdTe太陽電池の集電体につ
いて、図面を参照しながら説明する。第1図は本発明の
実施例におけるCdS/CdTe太陽電池の断面図を示
すものである。第1図において、1はガラス基板、2は
CaS 焼結膜、3は緻密なC(IT6膜、4は多孔質
なCdTe膜、6はムg−In電極、9は銅電極を示す
。ここでのCdS 焼結膜、CdTe膜は従来のペース
トの印刷焼結によって形成した。この中で、2はCdS
 以外にもn型半導体であり、CdTeと良好なP −
nヘテロ接合を形成するものであれば、その材料を使用
できる。
CaS膜2、C(1τθ膜3,4を形成後、銅ペースト
9 ヲCdTθ膜4上に200メツシユのステンレスス
クリーンを用いてスクリーン印刷し、100〜200°
Cの温度で乾燥させる。乾燥温度は、銅ペースト中の樹
脂又はガラスバインダーの耐熱性により60〜500’
Cまで自由に変えることができる。銅ペースト中に含ま
れる樹脂は、フェノール又は、エポキシ、又はアクリル
等の熱硬化性樹脂の中に、ポリビニルブチラール樹脂(
PVB樹脂)等の透明な熱可塑性樹脂を含有させる。こ
れは、熱可塑性樹脂は、乾燥、硬化時の熱を受けても弾
性があるため、銅ペースト硬化処理中に熱による樹脂の
膨張、収縮により、多孔質C(lT15膜の結晶粒界に
クラックを発生させるのを防止することと、より多(C
dTeの多孔質部分に導電材料を充填するためである。
銅ペーストは、導電性微粉としての銅もしくは銅化合物
とCdTeとオーミック接触をもつカーボンブラックと
より構成されている。そして、導電i微粉は粒子表面の
酸化等の変化を防ぐため同ペースト中の銅または銅化合
物粒子表面の一部が銀または銀化合物により被覆されて
いるものを用いることが望ましい。特に、銀メツキ量は
銅または銅化合物重量の1〜10%の範囲が最もよい。
1%以下であると、電極抵抗の長期安定性が得られにく
く、また10%をこえるとCdTeとのオーミック性が
低下する。これはCu粉が導電材料であり、かつca’
reのオーミック接触材料であることを示している。
銅ペースト中にCdTeとオーミック接触をするカーボ
ンブラックを混入させるとCdTe/Cu間の接触抵抗
が小さくなり、光照射による劣化も防止する効果がある
。その混合量は銅ペース全重量に対し0.1〜6%の範
囲が望ましい。
上記構成のCdS/CdTe/Cu太陽電池は、従来の
CdS/(、ITa/Cと比較して内部抵抗(接続抵抗
)が約30%低下し特性が約10%向上した。これは多
孔質0aTe膜中へ導電材料である銅ペーストが充填さ
れていることによるCdTe膜抵抗が減少したためと考
えられる。
発明の効果 以上のように“本発明は、焼結により形成した(jdT
6膜中の空薊ζ部もしくは全部をCdTeと、オースツ
ク接触をもつ材料と高導電材料とで充填することにより
、高効率で信頼性の高い太陽電池を製造することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の製造方法による太陽電池の断面図、第
2図は従来の太陽電池の断面図、第3図は第2図に太陽
電池断面の結晶構造を示す電子顕微鏡写真である。 1・・・・・・ガラス基板、2・・・・・・CdS焼結
膜、 3・・・・・・緻密なCdT15膜、4・・・・
・・多孔質なCdTe膜、6・・・・・・カーボン膜、
6・・・・・・カーボン膜、6・・・・・・ムgIn電
極膜、7・・・・・・ムg電極膜、8・・・・・・入射
光、9・・・・・・電極膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名/−
−−力うス基征 2−Cd5蔑緒膜 3−1ick a ’! CdTe19   。 4 −− 9p  JL *  ?  CdTe M。 6−−− Ag−In電極膜 8−入射光 9−−− Cu電梧膜 第1図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)CdSもしくはn型半導体基板上に、Cd、Te
    およびCdTeを含むペーストを塗布焼結してn型半導
    体基板に密着した緻密なCdTe層と同層上に形成され
    た空洞の多いCdTe多孔質層からなるCdTe膜を形
    成し、CdTe多孔質部分の空洞を、CdTeとオーミ
    ック接触の得られる材料と高導電材料を熱可塑性樹脂を
    含んだ樹脂および有機溶媒中に分散させたペーストを塗
    布することによって、一部もしくは全部充填することを
    特徴とするCdTe太陽電池の集電体の製造方法。
  2. (2)CdTeとのオーミック接触をもつ材料が、C、
    Cu、CuO、ZnTe、HgTeあるいはその化合物
    のいずれかよりなる特許請求の範囲第1項記載のCdT
    e太陽電池の集電体の製造方法。
JP63002895A 1988-01-08 1988-01-08 CdTe太陽電池の集電体の製造方法 Pending JPH01181476A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013222762A (ja) * 2012-04-13 2013-10-28 Sharp Corp 化合物半導体層およびその製造方法、ならびに化合物薄膜太陽電池およびその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013222762A (ja) * 2012-04-13 2013-10-28 Sharp Corp 化合物半導体層およびその製造方法、ならびに化合物薄膜太陽電池およびその製造方法

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