JPH01180236A - 流動床用混合分散装置 - Google Patents

流動床用混合分散装置

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JPH01180236A
JPH01180236A JP460488A JP460488A JPH01180236A JP H01180236 A JPH01180236 A JP H01180236A JP 460488 A JP460488 A JP 460488A JP 460488 A JP460488 A JP 460488A JP H01180236 A JPH01180236 A JP H01180236A
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JP
Japan
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fluidized bed
mixing
ceramic
sic
bottom plate
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JP460488A
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Inventor
Atsushi Eguchi
江口 篤
Koichi Numata
沼田 公一
Fukuji Matsumoto
松本 福二
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KASHIMA ENBIMONOMAA KK
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
KASHIMA ENBIMONOMAA KK
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/1818Feeding of the fluidising gas
    • B01J8/1827Feeding of the fluidising gas the fluidising gas being a reactant

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は流動床式反応器の流動床の多孔板に設ける原料
ガスおよび触媒粉体の混合・分散装置に関するものであ
り、その一部または全体がセラミックス成形体からなり
、耐熱性、耐摩耗性および耐腐食性を著しく改良し長期
連続運転を可能とするものである。
[従来の技術] 流動床式反応器においては、流動床の多孔板に複数個の
混合・分散装置を設け、これら装置を通して原料ガスを
上方へ高速で通過、させることにより、原料ガス同士の
混合・分散さらにはガス体と粉末触媒との混合・分散を
行なっている。
流動床式反応器内部では2種類以上の高速ガス流体と触
媒粉体の混合時における反応熱により局部的に高温にな
り、また、摩耗、腐食による損傷が激しいため、その混
合・分散装置部においては耐熱合金(インコロイ)のよ
うな高級材質を使用している。しかし、このような高級
材料を用いても触媒粉体が高速で混合・分散装置に衝突
するため、装置の摩耗が激しく、また、高温下における
酸化、塩素化反応等では装置の腐食をもたらし、この二
者があいまって混合、分散装置の耐久性を縮める結果と
なっていた。さらに、同装置の損傷が重度に進行した場
合、流動床式反応器自体の安定操業に影響を与え爆発の
危険性を生じることから、損傷が進行する以前に装置あ
るいは装置部材の短期間でのかつ定期的な交換が必要で
あフた。
このように、高価な耐熱合金部材をもってしても混合・
分散装置の損傷を抑えることができず、実際には定期点
検と早期交換によって安定操業を維持してきており、こ
の事が生産性の改善の妨げとなり、また、保守点検や交
換費用を高額なものとしていた。1例をあげれば、炭化
水素類、塩素源ガス、酸素(または空気)および触媒粉
体からなる反応系、いわゆるオキシクロリネーション反
応系についても混合・分散装置の材料として寿命の長い
ものがなく、連続運転に支障があった。
このように、流動床式反応器の流動床の多孔板に設けら
れる混合・分散装置について、優れた材料の開発とそれ
の応用が望まれていた。
[発明の構成] 本発明はこのような欠点を解決し、流動床式反応器の流
動床の多孔板に設ける混合・分散装置を耐熱性、耐摩耗
性および耐腐食性として長期連続運転を可能とするもの
であり、これは、一部または全体がセラミックス成形体
からなる流動床用混合・分散装置に関するものである。
すなわち、本発明者らは流動床式反応器の流動床の多孔
板に設ける混合・分散装置の長寿命化について鋭意研究
の結果、この装置の一部または全体をセラミックス成形
体とすれば目的を達し得ることを見出し、さらに検討を
重ねて本発明を完成させた。
本発明で用いるセラミックスは耐熱性、耐摩耗性および
耐腐食性を備えているものであればよいが、好ましくは
SiC,5iC−5tまたはSi3N4である。
各種セラミックス材料のうち一例としてSiCについて
説明すれば次のとおりである。すなわち、このものは高
温下での塩素ガス中においてハイドロカーボンの塩素化
により腐食し、また、塩素ガスを含まないが高温下での
タールピッチによっても酸化腐食を起す事が知られてお
り、高温反応器等の部材への実用化は難しいものと考え
られていた。しかし意外にもSiGセラミックス材が、
塩素源ガス系、空気、固体粉末触媒の混在中においては
腐食速度が激減し、また、耐摩耗性にも優れていること
が見出され、従来の耐熱合金製の部材で見られていた腐
食・摩耗の相乗作用による損傷を防ぐ事ができた。
次に本発明を具体例に基づいて説明する。
図面は本発明の装置を流動床式反応器に装着した状態の
一例を示すものである。まず金属製の流動床多孔板40
貫通孔に直径70mm、高さ40mmのスリーブ状セラ
ミックス焼結体3を無機系接着剤5を介して結合する。
さらに貫通孔の中心には上記スリーブの内径より小さい
外径を有するチューブ状の同セラミックス焼結体1を固
定する。これらのセラミックス製チューブ1およびスリ
ーブ3が混合・分散装置を構成し、この装置のチューブ
とスリーブの間隙を1種類のガスが、チューブ内を他の
種類のガスがそれぞわ下方より送入されて均一に混合・
分散され、さらに流動床多孔板4上に存在する粉末触媒
7と接触反応がおこなわれるものである。
上記の装置においてセラミックスとしてSiCあるいは
Si3N4を用い、原料としてエチレン、塩化水素およ
び酸素(空気)を用いてエチレンのオキシクロリネーシ
ョンを16,000時間にわたり(a、oo。
時間の連続運転を2回)行なった。なお、流動床触媒に
はアルミナ担持の塩化銅触媒を用いた。運転後の結果を
下表に示す。
比較例としてインコロイ800で製作された混合・分散
装置についての結果を併記する。
なお、下表に示すほか、セラミックス材の表面の状態は
ift、000時間の運転後も運転前に比べてわずかに
滑らかになった程度で、変色、孔食等の異常は何ら見う
けられなかった。
中流動床多孔板に設けられた混合・分散装置の数本発明
の混合・分散装置はその構造、形状については上記のほ
か単なる絞りによる混合を狙った形状、混合ガスの流れ
の向きを急激に変えたり、混合すべきガスを高速で向流
にぶつけ合うよにする形状などがあり、かなり複雑な形
状をもったものも可能で、そのいずれに対してもセラミ
ックスの加工上の制約にかかる場合を除き本発明は適用
可能である。
本発明の混合・分散装置はセラミックス製部材を結合す
ることによって製作することもできる。
その際セラミックス以外の材料例えば耐熱性金属材料か
らなる部材と組合せ、これを覆うようにセラミックスを
結合してもよい。これらの部材の結合には無機系接着剤
を用いることができる。
本発明の混合・分散装置を用いることができる化学反応
としては、オキシクロリネーションによる塩化物の合成
のほか、プロピレンのアンモオキシデーションによるア
クリロニトリルの合成、0−キシレンあるいはベンゼン
からの無水フタル酸の合成、さらには炭化水素類の接触
分解などが例示され、このように本発明の装置は一般に
流動床触媒を用いる反応に好適である。
本発明の流動床用混合・分散装置は、上記したとおりそ
の一部または全体がセラミックス成形体からなることを
特徴とするものであるが、これにより流動床方式の各種
反応に対する本装置の寿命は著しく向上し、長期連続運
転が可能となった。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の混合・分散装置の一例を設けた流動床多
孔板の部分断面説明図である。 1・・・チューブ状セラミックス焼結体、2・・・孔、 3・・・スリーブ状セラミックス焼結体、4・・・流動
床多孔板、 5・・・無機系接着剤、  6・・・反応器壁、7・・
・粉末触媒。 図面 手続補正書 1、事件の表示 昭和63年特許願第4604号 2、発明の名称 流動床用混合分散装置 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 名称  鹿島塩ビモノマー株式会社 名称 (206)信越化学工業株式会社4、代理人 5、補正命令の日付 7、補正の内容 l)明細書第1頁4行〜11行の「特許請求の範囲」を
別紙のとおりに補正する。 2)明細書第1頁14行及び第2頁2行の「多孔板」を
「床板」と補正する。 3) 明細書第2頁7行の「2種類以上の」を削除する
。 4) 明細書第3頁12行、同頁下4行及び第4頁3行
の「多孔板」を「床板」と補正する。 5)明細書第4頁13行〜14行の「高温下での・・・
塩素化により」を「塩素ガスを原料とする高温における
ハイドロカーボンの塩素化反応環境中で」と補正する。 6) 明細書簡4頁下3行の「セラミックス材が、塩素
源ガス系、」を「セラミックス材が、塩素を除く塩素源
ガス系、」と補正する。 7)明細書第5頁の4行と5行の間に「実施例1」を加
入する。 8)明細書第5頁5行の「図面は」を「第1図は」と補
正する。 9) 明細書第5頁7行及び同頁下5行の「多孔板」を
「床板」と補正する。 10)明細書箱5頁下3行と下2行の間に下記を加入す
る。「第2図は第1図においてセラミックス製チューブ
lの内側に金属製チューブ8を挿入し、先端を封じた例
である。」 ill明細書第5頁下2行の「上記」を「第1図」と補
正する。 12)明細書第6頁末行の「多孔板」を「床板」と補正
する。 13)明細書第6頁末行と第7頁1行の間に下記を加入
する。 「実施例2 第3図は本発明の装置の他の例を装着した状態を示すも
のである。セラミックス製チューブ1とセラミックス製
スリーブ3は共に材質として5iC−Siを用いた。セ
ラミックス製スリーブ3は直径70mm、高さ40mm
のものを用いた。 この装置の下方より1種類のガスが、また上方より金属
製チューブ8を通して他の種類のガスが送入される。 この装置を用い、実施例1と同様な運転条件において8
000時間の連続運転を行った。運転後の結果は下表の
とおりであった。なお、比較のために5iC−3iの代
りにインコロイ825を用いた場合についても運転を行
ったが、その結果を下表に併記する。 」 14)明細書第7頁4行の「合うよに」を「合うように
」と補正する。 15)明細書第8頁9行〜10行の「図面は・・・多孔
板」を「第1図、第2図及び第3図はそれぞれ本発明の
混合・分散装置の一例を設けた流動床床板」と補正する
。 161明細書第8頁下3行の「流動床多孔板」を「流動
床床板」と補正する。 17)明細書第8頁末行の「7・・・粉末触媒。」を「
7・・・粉末触媒、8・・・金属製チューブ、9・・・
スリーブ押え金具。」と補正する。 18)添付図面を別紙第1図とさしかえる。 19)別紙第2図及び第3図を追加する。 以上 (別紙) 特許請求の範囲 1、一部または全体がセラミックス成形体からなる流動
床用混合・分散装置。 2、 セラミックスがSiC、SiC−Siまたは5i
sN4から選択されたものである特許請求の範囲第1項
に記載の混合・分散装置。 3、セラミックス ン か なる混合・分散装置が、m
に− され、  ヘガスを共 るた の ゛。   る  に、無機系接着剤を介して
結合されている流動床式反応器。 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一部または全体がセラミックス成形体からなる流動
    床用混合・分散装置。 2、セラミックスがSiC、SiC−SiまたはSi_
    3N_4から選択されたものである特許請求の範囲第1
    項に記載の混合・分散装置。 3、混合・分散装置が流動床多孔板に無機系接着剤を介
    して結合されている流動床式反応器。
JP460488A 1988-01-12 1988-01-12 流動床用混合分散装置 Pending JPH01180236A (ja)

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