JPH01179048A - 写真製版工程における生産管理方法 - Google Patents
写真製版工程における生産管理方法Info
- Publication number
- JPH01179048A JPH01179048A JP63000832A JP83288A JPH01179048A JP H01179048 A JPH01179048 A JP H01179048A JP 63000832 A JP63000832 A JP 63000832A JP 83288 A JP83288 A JP 83288A JP H01179048 A JPH01179048 A JP H01179048A
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- Japan
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- exposure
- photomask
- resist coating
- production control
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- Pending
Links
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 33
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体ウェハを製造する場合に使用する写真
製版工程における生産管理方法に関する。
製版工程における生産管理方法に関する。
−ｉに、半導体ウェハの写真製版工程は、レジスト塗布
、露光および現像の３つの工程によってなることが知ら
れており、従来より第２図に示すシステムによって生産
管理されている。これを同図に基づいて説明すると、同
図において、符号１〜３で示すレジスト塗布装置、露光
装置および現像装置であり、各々がシリアル通信線４〜
６を介してライン管理コントローラ７に接続されている
。
、露光および現像の３つの工程によってなることが知ら
れており、従来より第２図に示すシステムによって生産
管理されている。これを同図に基づいて説明すると、同
図において、符号１〜３で示すレジスト塗布装置、露光
装置および現像装置であり、各々がシリアル通信線４〜
６を介してライン管理コントローラ７に接続されている
。
このうちレジスト塗布装置１および露光装置２は各々が
互いにインライン制御線８によって、また露光装置２お
よび現像装置３はインライン制御線９によって接続され
ている。１０は前記ライン管理コントローラ７にシリア
ル通信線１１によって接続された生産管理コントローラ
である。
互いにインライン制御線８によって、また露光装置２お
よび現像装置３はインライン制御線９によって接続され
ている。１０は前記ライン管理コントローラ７にシリア
ル通信線１１によって接続された生産管理コントローラ
である。
次に、このように構成された生産管理システムを第３図
を用いて説明する。
を用いて説明する。
先ず、第１工程において、レジスト塗布装置１の入口に
カセット（図示せず）と共に被処理ウェハ（図示せず）
が投入されると、生産管理コントローラ１０が全体の生
産管理情報をライン管理コントローラ７にＳＩとして送
り、このコントローラ７がレジスト塗布に必要な管理情
報をレジスト塗布装置１に８２として送る。ここで、レ
ジスト塗布装置１は与えられた管理情報によって処理条
件を設定して被処理ウェハに処理を施した後、ライン管
理コントローラ７に処理終了情報を８３として送る。次
に、第２工程において、塗布済みの被処理ウェハ（図示
せず）がレジスト塗布装置１から露光装置２に移送され
ると、ライン管理コントローラ７が露光に必要な管理情
報を露光装置２に８９として送る。ここで、露光装置２
は与えられた管理情報によって処理条件（例えばフォト
マスクの交換セット等）を設定して被処理ウェハ（図示
せず）に処理を施した後、ライン管理コントローラ７に
処理終了情報Ｓ、として送る。そして、第３工程におい
て、露光済みの被処理ウェハ（図示せず）が露光装置２
から現像装置３に移送されると、ライン管理コントロー
ラ７が現像に必要な管理情報を現像装置３にＳ、とじて
送る。ここで、現像装置３は与えられた管理情報によっ
て処理条件を設定して被処理ウェハ（図示せず）に処理
を施した後、ライン管理コントローラ７に処理終了情報
Ｓ、として送ってから、生産管理コントローラ１０に写
真製版工程の処理終了情報をＳ、として送る。このとき
、処理済みのウェハ（図示せず）を現像装置３の出口の
カセット（図示せず）内に投入される。
カセット（図示せず）と共に被処理ウェハ（図示せず）
が投入されると、生産管理コントローラ１０が全体の生
産管理情報をライン管理コントローラ７にＳＩとして送
り、このコントローラ７がレジスト塗布に必要な管理情
報をレジスト塗布装置１に８２として送る。ここで、レ
ジスト塗布装置１は与えられた管理情報によって処理条
件を設定して被処理ウェハに処理を施した後、ライン管
理コントローラ７に処理終了情報を８３として送る。次
に、第２工程において、塗布済みの被処理ウェハ（図示
せず）がレジスト塗布装置１から露光装置２に移送され
ると、ライン管理コントローラ７が露光に必要な管理情
報を露光装置２に８９として送る。ここで、露光装置２
は与えられた管理情報によって処理条件（例えばフォト
マスクの交換セット等）を設定して被処理ウェハ（図示
せず）に処理を施した後、ライン管理コントローラ７に
処理終了情報Ｓ、として送る。そして、第３工程におい
て、露光済みの被処理ウェハ（図示せず）が露光装置２
から現像装置３に移送されると、ライン管理コントロー
ラ７が現像に必要な管理情報を現像装置３にＳ、とじて
送る。ここで、現像装置３は与えられた管理情報によっ
て処理条件を設定して被処理ウェハ（図示せず）に処理
を施した後、ライン管理コントローラ７に処理終了情報
Ｓ、として送ってから、生産管理コントローラ１０に写
真製版工程の処理終了情報をＳ、として送る。このとき
、処理済みのウェハ（図示せず）を現像装置３の出口の
カセット（図示せず）内に投入される。
このようにして、写真製版工程におけるウェハところで
、従来の写真製版工程における生産管理方法においては
、フォトマスクを交換する必要があると、この交換作業
をレジスト塗布工程後の露光工程でウェハ処理と別個に
行うことになり、それだけ写真製版工程の生産管理に多
大の時間を費やして写真製版工程での生産性が低下する
という問題があった。
、従来の写真製版工程における生産管理方法においては
、フォトマスクを交換する必要があると、この交換作業
をレジスト塗布工程後の露光工程でウェハ処理と別個に
行うことになり、それだけ写真製版工程の生産管理に多
大の時間を費やして写真製版工程での生産性が低下する
という問題があった。
本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、露光工
程での生産管理に費やす時間を短縮することができ、も
って写真製版工程における被処理物の生産性を向上させ
ることができる写真製版工程本発明に係る写真製版工程
における生産管理方法は、レジスト塗布装置に生産管理
情報を伝達するに際して、露光装置に生産管理情報のう
ちフォトマスク交換情報を伝達するものである。
程での生産管理に費やす時間を短縮することができ、も
って写真製版工程における被処理物の生産性を向上させ
ることができる写真製版工程本発明に係る写真製版工程
における生産管理方法は、レジスト塗布装置に生産管理
情報を伝達するに際して、露光装置に生産管理情報のう
ちフォトマスク交換情報を伝達するものである。
本発明においては、レジスト塗布装置に生産管理情報を
伝達するに際して、露光装置にフォトマスク交換情報を
伝達することにより、露光工程でフォトマスクを交換す
るに費やす時間を削減することができる。
伝達するに際して、露光装置にフォトマスク交換情報を
伝達することにより、露光工程でフォトマスクを交換す
るに費やす時間を削減することができる。
第１図は本発明に係る写真製版工程における生産管理方
法の生産管理情報の流れを示すタイミング図である。以
下、本発明の生産管理方法について説明する。この説明
中、第２図と同一の部材については同一の符号を用いる
。
法の生産管理情報の流れを示すタイミング図である。以
下、本発明の生産管理方法について説明する。この説明
中、第２図と同一の部材については同一の符号を用いる
。
先ず、第１工程において、レジスト塗布装置１の入口に
カセット（図示せず）と共に被処理ウェハ（図示せず）
が投入されると、生産管理コントローラ１０が全体の生
産管理情報をライン管理コントローラ７にＳＩとして送
り、このコントローラ７がレジスト塗布に必要な管理情
報をレジスト塗布装置１に３２として送ると共に、露光
工程全体の生産管理情報のうちフォトマスク交換情報を
露光装置２に８２′として送る。ここで、レジスト塗布
装置１は与えられた管理情報によって処理条件を設定し
て被処理ウェハに処理を施した後、ライン管理コントロ
ーラ７に処理終了情報を３３として送る。次に、第２工
程において、塗布済みの被処理ウェハ（図示せず）がレ
ジスト塗布装置１から露光装置２に移送されると、ライ
ン管理コントローラ７が露光に必要な管理情報を露光装
置２に３４として送る。ここで、露光装置２は与えられ
た管理情報と第１工程で与えられたフォトマスク交換情
報によって被処理ウェハ（図示せず）に処理を施した後
、ライン管理コントローラ７に処理終了情報Ｓ、として
送る。そして、第３工程において、露光済みの被処理ウ
ェハ（図示せず）が露光装置２から現像装置３に移送さ
れると、ライン管理コントローラ７が現像に必要な管理
情報を現像装置３に３６として送る。ここで、現像装置
３は与えられた管理情報によって処理条件を設定して被
処理ウェハ（図示せず）に処理を施した後、ライン管理
コントローラ７に処理終了情報をＳ、として送ってから
、生産管理コントローラ１０に写真製版工程の処理終了
情報をＳ８として送る。このとき、処理済みのウェハ（
図示せず）を現像装置３の出口のカセット（図示せず）
内に投入される。
カセット（図示せず）と共に被処理ウェハ（図示せず）
が投入されると、生産管理コントローラ１０が全体の生
産管理情報をライン管理コントローラ７にＳＩとして送
り、このコントローラ７がレジスト塗布に必要な管理情
報をレジスト塗布装置１に３２として送ると共に、露光
工程全体の生産管理情報のうちフォトマスク交換情報を
露光装置２に８２′として送る。ここで、レジスト塗布
装置１は与えられた管理情報によって処理条件を設定し
て被処理ウェハに処理を施した後、ライン管理コントロ
ーラ７に処理終了情報を３３として送る。次に、第２工
程において、塗布済みの被処理ウェハ（図示せず）がレ
ジスト塗布装置１から露光装置２に移送されると、ライ
ン管理コントローラ７が露光に必要な管理情報を露光装
置２に３４として送る。ここで、露光装置２は与えられ
た管理情報と第１工程で与えられたフォトマスク交換情
報によって被処理ウェハ（図示せず）に処理を施した後
、ライン管理コントローラ７に処理終了情報Ｓ、として
送る。そして、第３工程において、露光済みの被処理ウ
ェハ（図示せず）が露光装置２から現像装置３に移送さ
れると、ライン管理コントローラ７が現像に必要な管理
情報を現像装置３に３６として送る。ここで、現像装置
３は与えられた管理情報によって処理条件を設定して被
処理ウェハ（図示せず）に処理を施した後、ライン管理
コントローラ７に処理終了情報をＳ、として送ってから
、生産管理コントローラ１０に写真製版工程の処理終了
情報をＳ８として送る。このとき、処理済みのウェハ（
図示せず）を現像装置３の出口のカセット（図示せず）
内に投入される。
このようにして、写真製版工程におけるウェハ生産を管
理する。
理する。
したがって、レジスト塗布工程において露光装置２にフ
ォトマスク交換情報を送ってフォトマスク（図示せず）
の交換準備をした分だけ、露光工程でフォトマスク（図
示せず）を交換するに費やす時間を削減することができ
る。
ォトマスク交換情報を送ってフォトマスク（図示せず）
の交換準備をした分だけ、露光工程でフォトマスク（図
示せず）を交換するに費やす時間を削減することができ
る。
なお、本実施例においては、−個のフォトマスクを使用
する場合を示したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、複数のフォトマスクを使用する場合でも、処理
条件の異なる毎に複数の管理情報をレジスト塗布装置１
．露光装置および現像装置３に送ることにより実施例と
同様にして露光工程でフォトマスクの交換時間を短縮す
ることができる。
する場合を示したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、複数のフォトマスクを使用する場合でも、処理
条件の異なる毎に複数の管理情報をレジスト塗布装置１
．露光装置および現像装置３に送ることにより実施例と
同様にして露光工程でフォトマスクの交換時間を短縮す
ることができる。
以上説明したように本発明によれば、レジスト塗布装置
に生産管理情報を伝達するに際して、露光装置に全生産
管理情報のうちフォトマスク交換情報を伝達するので、
露光工程でフォトマスクを交換するに費やす時間を削減
することができる。
に生産管理情報を伝達するに際して、露光装置に全生産
管理情報のうちフォトマスク交換情報を伝達するので、
露光工程でフォトマスクを交換するに費やす時間を削減
することができる。
したがって、露光工程で生産管理に費やす時間を短縮す
ることができるから、写真製版工程における被処理物の
生産性を向上させることができる。
ることができるから、写真製版工程における被処理物の
生産性を向上させることができる。
第１図は本発明に係る写真製版工程における生産管理方
法の生産管理情報の流れを示すタイミング図、第２図は
従来の写真製版工程における生産管理方法で実施する生
産管理システムを示す図、第３図は従来の写真製版工程
における生産管理方法の生産管理情報の流れを示すタイ
ミング図である。 Ｓ２・・・レジスト塗布に必要な管理情報、８２゛・・
・フォトマスク交換情報、Ｓ４・・・露光に必要な管理
情報。 代 理 人 大岩増雄 第１図 第２図 第３図
法の生産管理情報の流れを示すタイミング図、第２図は
従来の写真製版工程における生産管理方法で実施する生
産管理システムを示す図、第３図は従来の写真製版工程
における生産管理方法の生産管理情報の流れを示すタイ
ミング図である。 Ｓ２・・・レジスト塗布に必要な管理情報、８２゛・・
・フォトマスク交換情報、Ｓ４・・・露光に必要な管理
情報。 代 理 人 大岩増雄 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 各々が互いに接続され被処理物に対して処理を施すレ
ジスト塗布装置と露光装置をコントローラから各生産管
理情報によって制御する写真製版工程における生産管理
方法において、前記レジスト塗布装置に生産管理情報を
伝達するに際して、前記露光装置に全生産管理情報のう
ちフォトマスク交換情報を伝達する写真製版工程におけ
る生産管理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63000832A JPH01179048A (ja) | 1988-01-06 | 1988-01-06 | 写真製版工程における生産管理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63000832A JPH01179048A (ja) | 1988-01-06 | 1988-01-06 | 写真製版工程における生産管理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01179048A true JPH01179048A (ja) | 1989-07-17 |
Family
ID=11484594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63000832A Pending JPH01179048A (ja) | 1988-01-06 | 1988-01-06 | 写真製版工程における生産管理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01179048A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102530167A (zh) * | 2012-02-22 | 2012-07-04 | 隆鑫通用动力股份有限公司 | 摩托车联动制动系统及其摩托车 |
-
1988
- 1988-01-06 JP JP63000832A patent/JPH01179048A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102530167A (zh) * | 2012-02-22 | 2012-07-04 | 隆鑫通用动力股份有限公司 | 摩托车联动制动系统及其摩托车 |
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