JPH01176924U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は本考案のレジスト塗布装置の
一実施例を示す図であり、第１図は平面図、第２
図は正面図、第３図は第２図のＸ部分の拡大正面
図、第４図ａは側板の正面図及び同図ｂは平面図
である、第５図は他の側板を示す正面図であり、
第６図は従来のレジスト塗布装置を示す図で、同
図ａは平面図、同図ｂは断面図である。 １０…レジスト塗布装置、１１…真空チヤツク
、１１ｂ…真空チヤツクの側面、１２…突出部、
１３…側板、１３ｄ…側板の上面、１８…基板、
１８ａ…基板の裏面。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) レジストを塗布する表面が正方形状又は長
   方形状の基板を、真空チヤツクに真空吸着手段に
   より吸着保持し、前記基板を回転して前記表面に
   レジストを塗布するレジスト塗布装置において、
   前記真空チヤツク表面に付設した、前記基板の側
   面より内側となる寸法を有するリング状の突出部
   と、前記基板の側面側に位置する、前記真空チヤ
   ツクの側面に付設した側板とを備え、かつ前記側
   板の長手方向の寸法が、前記基板の回転により、
   前記基板の裏面へのレジスト付着を防止する大き
   さであると共に、前記基板の上面が、前記基板を
   前記突出部に載置したとき、前記基板の裏面より
   上方に位置し、さらに前記基板を前記突出部に載
   置したとき、前記基板が前記側板により実質的に
   包囲されることを特徴とするレジスト塗布装置。 (2) 基板の回転方向の前方である、側板の長手
   方向の一端よりも、前記回転方向の後方である、
   前記側板の長手方向のもう一方の一端が真空チヤ
   ツクの側面より遠く離れていることを特徴とする
   請求項１記載のレジスト塗布装置。 (3) 側板の上面方向の寸法である、側板の高さ
   が、板の回転方向の前方の高さよりも前記回転方
   向の後方の高さの方が高いことを特徴とする請求
   項２記載のレジスト塗布装置。