JPH01176318A - 垂直記録媒体およびその作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は垂直記録媒体およびその作成法、特に２層磁
気被膜からなる垂直記録媒体およびその作成法に関する
。

この発明の垂直記録媒体は、エンコーダ、バーコーダ、
あるいはコンピュータ用記録媒体、画像あるいは音声信
号記録媒体などに用いられる。

（従来の技術） 一般に、磁性金属（主としてＣＯ）を用いた垂直磁化膜
はスパッター法または無電解めっき法で作られているが
、高密度記録を容易にするため軟質磁性層（Ｆｅ、　Ｎ
ｉ、　Ｎ１−Ｐなど）を裏打ちする形で利用されようと
している。これによって記録密度と出力が大幅に向上す
るといわれている。

（発明が解決しようとする問題点） しかし、この垂直磁化膜の均一な形成には、相当な技術
を必要とするものであり、現在でも技術改良の余地か多
く残されている。たとえば、磁気特性および生産性の向
上がある。

このような状況の下で、本発明者らはアルミニウム箔を
陽極酸化して多孔質の酸化膜を形成し、このポーラス酸
化膜の微細孔内にＦｅ、　Ｃｏ、　Ｎｉなとの磁性金属
を二次電解着色技術を応用して電析させると、　１００
〜５００人径の長い針状の結晶を容易に作ることができ
ることを見出した。これが優れた垂直磁化特性を示すこ
とが示され、その利用が望まれるに至った。

しかし、このアルマイト磁気被膜の場合も高密度記録を
行ない充分な出力を得るためには、水平磁化膜の裏打ち
をできるだけ密着した部分に形成させることが必要とさ
れていた。そのため、アルミニウム箔に一旦アルマイト
磁気膜を形成し、その膜上に直接無電解めっき法などで
Ｎ１−Ｐの薄層を作成し、更にアルミニウム基盤をブロ
ムメタノールなどで溶解して２層磁気膜を作ることが試
みられた。この時はアルマイト磁気膜の機械的強度と鞘
度が劣化する傾向にあったため実用化されていない。さ
らに、Ｆｅなとの蒸着膜上にアルミニウム蒸着膜を形成
させ、てきるだけＦｅ膜に近い部分までアルミニウムを
陽極酸化させてアルマイト磁気膜とし、２層化が試みら
れている。しかし、この場合冬服の表面あらさが最小で
膜厚も均一であり、陽極酸化が極度に均一にまた精密に
進行しない限り部分的にＦｅ膜が電解されて剥離など生
ずる困難さがあった。このため、Ｆｅとアルミニウム間
に化学的に安定で導電性のあるＴｉなど介在させて鉄の
溶解を防止する試みも行なわれようとしている。

上述のように、効果的な２層磁気膜の作成のポイントは
垂直、水平側磁性股間を極力近ずけることである。両磁
性股間の距離が大きいと、磁気記録が困難となり、再生
時の出力も小となる。

アルマイト垂直磁気膜と水平磁気膜の組合わせを行なう
場合の最も注目すべき点は、陽極酸化終了時点で残存ア
ルミニウム層をどれだけ薄くし、かつ後工程のＦｅ、　
Ｃｏ、　Ｎｉなどの電析処理時の導電性を保つことが可
能かということである。もし、これが可能であればその
後の水平磁化膜の形成はさほど困難ではなくまた垂直、
水平両磁化膜間の数μｍ以下の薄いアルミニウム層は磁
気回路形成時に大きな抵抗とはならない。

そこで、この発明は磁気特性に優れた垂直記録媒体を提
供するとともに、垂直磁性膜と水平磁性膜とが密接した
２層磁気膜を容易に形成することができる垂直記録媒体
の作成法を提供しようとするものである。

（問題点を解決するための手段） この発明の垂直記録媒体は、垂直磁化膜に水平磁化膜が
裏打ちされた垂直記録媒体において、前記垂直磁化膜が
膜面に対して垂直な微細孔を有する多孔質アルマイト陽
極酸化膜よりなり、磁化容易軸が膜面に対し垂直となる
ようにして前記微細孔内に磁性金属が電析されている。

また、この発明の垂直記録媒体の作成法は、アルマイト
垂直磁化膜と、この磁化膜にアルミニウム薄層を介して
軟質磁性金属の裏打ち膜を形成した２層磁気被膜を作成
するにあたり、前記アルミニウム薄層部を残すようにし
てアルミニウム箔を陽極酸化法により多孔質酸化膜とし
、この酸化膜を微細孔中に磁性金属を電析させて垂直磁
化膜とし、さらに片面に軟質磁性金属層を形成させて水
平磁化膜とする。

数μｍ以下の薄いアルミニウム層を残して陽極酸化する
方法としては、第１図のように例えば箔の場合　（イ）
には、その一部　（ダミー部）Ｓを目標残存厚みｔのＩ
／２宛両面を溶解させてから　（ロ）、全体を陽極酸化
す−るとその進行につれ先ずダミー部Ｓのみが完全に酸
化されて透明なＡＡ２０３膜となり肉眼で判断できる。

光センサーを用いて判断するようにしてもよい。この時
点で陽極酸化を終了させればダミー部Ｓ以外の部分はｔ
のアルミニウム薄層が残ることとなり　（ハ）、その後
の磁性金属の電析が充分可能となる。

上記方法で所□定の厚さのアルミニウム薄層を残す場合
はダミー部Ｓが透明となるが、電気的な導通も殆どなく
なることを利用する抵抗法による制御が確実で便利であ
る。

この抵抗法による概略は、第２図に示す通りである。ア
ルミニウムがダミー部Ｓも含めて残存している時は、時
分割法で流される抵抗測定用電流ｉは、先ずｖ／Ｒｃ＝
ｉ、で流れる。浴中のダミー部Ｓの酸化が進むにつれ抵
抗Ｒが大となって１２となり完全に酸化されると、微小
の浴電流ｉ３のみとなり、設定リレーが作動して電解を
中止させることができる。ダミー部Ｓ以外のアルミニウ
ムはｔの厚みを残し、他は酸化アルミニウムとなる。

もし、アルミニウムを極めて薄い箔または蒸着膜として
２層の磁気膜を作成する時は、ＰＥＴフィルムなどとラ
ミネートする方法も可能である。この場合予めアルミニ
ウムとＰＥ７間にＦｅ、　Ｎｉ、Ｎ１−Ｐなど蒸着、め
っきした水平磁化膜を予め設けておけば上記の原理によ
って同様にアルマイト垂直磁化膜を作ることができる。

第３図にその順序を示す。

（作用） 多孔質酸化膜の微細孔中に磁性金属を電析させると、磁
性金属が微細孔内に垂直に並び、多孔質酸化膜は垂直磁
化膜となる。

また、アルミニウム薄層部を残すようにしてアルミニウ
ム箔を陽極酸化法により多孔質酸化膜するので、残存ア
ルミニウム層の厚みの制御は容易であり、アルミニウム
薄層の厚みを数μｍ以下とすることができる。この結果
、垂直磁化膜と水平磁化膜との間の間の距離を数μｍ以
下とすることができる。数μｍ以下の厚みのアルミニウ
ム薄層であれば、磁気回路形成時に大きな抵抗とはなら
ない。

（実施例） ２層磁気被膜の作成工程の一例を第４図に示す。この実
施例は前記第１図に示す方法によっている。

素材は純度９９．８５％、厚み３０μｍのアルミニウム
箔である。

工程１　４％のカセイソーダ浴（４５〜５０℃）で［図
１−イ］　　数十秒間エツチングして水洗し、さらに　
１０　％硝酸浴　（室温）で数分間浸漬して中和後に十
分水洗する。

工程２　　１５％ｔｈＳ０４．２０〜２２℃、Ｉ　Ａ／
ｄｍ２にて５［図２−口］　　分間電解で１．５　ｕｍ
の酸化膜が両面に形成されるがアルミニウム酸化分は各
１ μｍである。この部分のみ（りん酸−クロム酸）浴で溶
解除去する。

工程３　　１５％Ｈ２ＳＱ４，２０〜２２℃、１．５Ａ
／ｄｍ２にて約［図３−ハ］４７分電解でダミー部Ｓは
透明となり、電気抵抗も急増する。全体は約２ｕｍのア
ルミ薄層を中心に残して酸化され る。なお、両面に形成される酸化膜の 厚みはそれぞれ２０１．Ｉｍであり、膜中のボア　（微
細孔）径は９５〜１００人である。

工程４　　次工程のＦｅ電析を容易にするため膜の微細
構造の調整処理を行う。（時に省 略することができる） 工程５　　第１硫酸鉄などに各添加剤混合の浴、［図１
−二］　室温で交流電解Ｆｅが膜中に針状に結晶化析出
する。

工程６　　上記処理箔２枚張合わせ、端部枠取りする。

工程７　　　Ｎ１−Ｐ無電解めっき処理を行う。これに
よって水平磁化膜が片面に形成され る。

工程８　　枠外し後は純熱水処理１０分。耐食性を向上
させる。

工程９　　垂直磁性膜面のラッピング（時に潤滑化処理
も付加）。面精度を向上させ る。

上記のようにして作成された２層磁気被膜の磁気特性値
は第１表に示す通りであった。

第１表 上記「工程−３」を第２図に示す方法で行なう実施例は
次の通りである。

陽極酸化のために１５９６Ｈ２Ｓ０４．室温の電解浴を
用い直流電解を行う。この時の電流印加は第５図（イ）
のようになる。同時に、ダミー部Ｓの抵抗を測定する。

第５図　（ロ）は抵抗変化による電流の変化を示してい
る。交流電流がｉ３となったら、電解を中止する、たと
えば制御リレーが１０ｍＡ以下となれば作動して、電解
電流の供給を遮断する。なお、ダミー部Ｓは本体と別に
設けても同様である。

これらの２層磁気被膜についてＶＳＭ装置で磁気特性を
測定した結果、第６図のような独特のＢ−Ｈ曲線を描き
、各種磁気ヘッドによる高密度記録に適したものとなっ
た。図中、曲・線ａは垂直方向に磁化曲線を、また曲線
すは水平方向に磁化曲線をそれぞれ示している。

（発明の効果） この発明によれば、アルミニウム薄層部を残すようにし
てアルミニウム箔を予め陽極酸化法により多孔質酸化膜
とするので、垂直磁化膜と水平磁化膜との間の距離を小
さくすることができる。この結果、磁気特性の優れた磁
気記録媒体を作成することができる。また、従来技術を
組み合わせることにより、この発明は実施可能であるの
で、その工業化は容易である。さらに、磁気記録媒体作
成時に熱経験を受けることがないので、水平磁化膜の保
磁力が大となって性能を阻害するなどの現象は全く生じ
ない。なお、箔の両面を同時に陽極酸化処理する時は厚
い膜も短い時間で得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明による垂直記録媒体の作成法の説明図
、第２図は第１図の方法においてダミー部の酸化を確認
する方法を説明１−る図面、第３図はこの発明の他の作
成法を示す図面、第４図はこの発明の方法による垂直記
録媒体の作成法の一実施例を示す工程図、第５図は第２
図に示す酸化確認方法の具体例を示す図面、および第６
図はこの発明の方法によって得られた垂直記録媒体の磁
化特性を示すダラフである。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）垂直磁化膜に水平磁化膜が裏打ちされた垂直記録
   媒体において、前記垂直磁化膜が膜面に対して垂直な微
   細孔を有する多孔質アルマイト陽極酸化膜よりなり、磁
   化容易軸が膜面に対し垂直となるようにして前記微細孔
   内に磁性金属が電析されていることを特徴とする垂直記
   録媒体。
2. （２）前記垂直磁化膜を形成する磁性金属がＦｅ、Ｃｏ
   およびＮｉの１種または２種以上よりなり、前記水平磁
   化膜を形成する磁性金属がＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉおよびそれ
   らの合金の１種または２種以上よりなることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の垂直記録媒体。
3. （３）前記垂直磁化膜にアルミニウム薄層を介して水平
   磁化膜が裏打ちされていることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の垂直記録媒体。
4. （４）アルマイト垂直磁化膜と、この磁化膜にアルミニ
   ウム薄層を介して軟質磁性金属の裏打ち膜を形成した２
   層磁気被膜を作成するにあたり、前記アルミニウム薄層
   部を残すようにしてアルミニウム箔を陽極酸化法により
   多孔質酸化膜とし、この酸化膜を微細孔中に磁性金属を
   電析させて垂直磁化膜とし、さらに片面に軟質磁性金属
   層を形成させて水平磁化膜とすることを特徴とする垂直
   記録媒体の作成法。
5. （５）アルミニウム箔の前記アルミニウム薄層部に連な
   るダミー部を陽極酸化法により予め設定厚みの分のアル
   ミニウムを溶解除去し、ダミー部が完全に酸化されて透
   明化した時点で陽極酸化を中止し、所定厚みのアルミニ
   ウム薄層部を残すことを特徴とする特許請求の範囲第４
   項記載の垂直記録媒体の作成法。
6. （６）アルミニウム箔の前記アルミニウム薄層部に連な
   るダミー部を陽極酸化法により予め設定厚みの分のアル
   ミニウムを溶解除去し、ダミー部が酸化されて電気抵抗
   が急増する時点で陽極酸化を中止し、所定厚みのアルミ
   ニウム薄層部を残すことを特徴とする特許請求の範囲第
   ４項記載の垂直記録媒体の作成法。
7. （７）前記垂直磁化膜を形成する磁性金属がＦｅ、Ｃｏ
   およびＮｉの１種または２種以上の金属であり、水平磁
   化膜を形成する磁性金属がＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉおよびそれ
   らの合金の１種または２種以上であることを特徴とする
   特許請求の範囲第４項記載の垂直記録媒体の作成法。