JPH01172388A - チエノ〔3,2−b〕ピロロ〔2,3−d〕ピロール類およびその製法 - Google Patents
チエノ〔3,2−b〕ピロロ〔2,3−d〕ピロール類およびその製法Info
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- JPH01172388A JPH01172388A JP62331243A JP33124387A JPH01172388A JP H01172388 A JPH01172388 A JP H01172388A JP 62331243 A JP62331243 A JP 62331243A JP 33124387 A JP33124387 A JP 33124387A JP H01172388 A JPH01172388 A JP H01172388A
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- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 title claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- -1 etc. Substances 0.000 claims abstract description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 230000000911 decarboxylating effect Effects 0.000 claims description 2
- GKTQKQTXHNUFSP-UHFFFAOYSA-N thieno[3,4-c]pyrrole-4,6-dione Chemical compound S1C=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 GKTQKQTXHNUFSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 7
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 abstract description 6
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 abstract description 5
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 4
- 239000013543 active substance Substances 0.000 abstract description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 7
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 7
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical class C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000003115 supporting electrolyte Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910013470 LiC1 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001290 LiPF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101000650578 Salmonella phage P22 Regulatory protein C3 Proteins 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001040920 Triticum aestivum Alpha-amylase inhibitor 0.28 Proteins 0.000 description 1
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REEJOFMTJPOBAY-UHFFFAOYSA-N benzene;1h-pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1.C1=CC=CC=C1 REEJOFMTJPOBAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- HVJJYOAPXBPQQV-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-azidoacetate Chemical compound CCOC(=O)CN=[N+]=[N-] HVJJYOAPXBPQQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M lithium perchlorate Chemical compound [Li+].[O-]Cl(=O)(=O)=O MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001486 lithium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 101150063217 mmoB gene Proteins 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000014380 ornithine aminotransferase deficiency Diseases 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M sodium perchlorate Chemical compound [Na+].[O-]Cl(=O)(=O)=O BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001488 sodium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001495 sodium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
洪発明は電気電子材料用原料あるいは医薬、農薬の中間
体として有用な一般式(1) (式中、R3、R2はそれぞれ水素原子、低級アルキル
基もしくはアラルキル基を表す。) で示されるチェノ(3,2−b)ピロロ(2,3−d)
ピロール類およびその製法に関する。
体として有用な一般式(1) (式中、R3、R2はそれぞれ水素原子、低級アルキル
基もしくはアラルキル基を表す。) で示されるチェノ(3,2−b)ピロロ(2,3−d)
ピロール類およびその製法に関する。
〈従来の技術、発明が解決しようとする問題点〉上記−
綴代(1)で示されるチェノ(3,2−b)ピロロ(2
,3−d)ピロール類は文献末記載の化合物である。
綴代(1)で示されるチェノ(3,2−b)ピロロ(2
,3−d)ピロール類は文献末記載の化合物である。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明者らは、−綴代CI)で示されるチェノ(3,2
−b)ピロロ(2,3−d)ピロール類の製法について
種々検討を重ねた結果、下記−綴代(n)で示される6
−アルコキシカルボニル−チェノ(3,2−b)ピロロ
(2,3−d)ピロール類を出発原料とする製造ルート
を見出すとともに該化合物は電気電子材料用原料、医農
薬等の生理活性物質あるいはその製造中間体として有用
である事を見出し、本発明を完成した。
−b)ピロロ(2,3−d)ピロール類の製法について
種々検討を重ねた結果、下記−綴代(n)で示される6
−アルコキシカルボニル−チェノ(3,2−b)ピロロ
(2,3−d)ピロール類を出発原料とする製造ルート
を見出すとともに該化合物は電気電子材料用原料、医農
薬等の生理活性物質あるいはその製造中間体として有用
である事を見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は
R2(I)
(式中、It、SR,はそれぞれ水素原子、低級アルキ
ル基もしくはアラルキル基を表す、) で示されるチェノ(3,2−b)ピロロ(2,3−d)
ピロール類、および (式中、R+、 Rzはそれぞれ水素原子、低級アルキ
ル基もしくはアラルキル基を表し、R1はアルキル基を
表す) で示される6−アルコキシカルボニル−チェノ(3,2
−b)ピロロ(2,3−d)ピロール類を加水分解して
一般式(I[[) (式中、R1、R1は前記と同じ意味を表す、)で示さ
れるチェノH,2−b)ピロロ(2,3−d)とロール
−6−カルボン酸類を製造する第一工程および化合物(
I[[)を脱炭酸させる第二工程よりなることを特徴と
する一般式([)で示されるチェノ(3,2−b)ピロ
ロ(2,3−d)ピロール類の製造方法を提供するもの
である。
ル基もしくはアラルキル基を表す、) で示されるチェノ(3,2−b)ピロロ(2,3−d)
ピロール類、および (式中、R+、 Rzはそれぞれ水素原子、低級アルキ
ル基もしくはアラルキル基を表し、R1はアルキル基を
表す) で示される6−アルコキシカルボニル−チェノ(3,2
−b)ピロロ(2,3−d)ピロール類を加水分解して
一般式(I[[) (式中、R1、R1は前記と同じ意味を表す、)で示さ
れるチェノH,2−b)ピロロ(2,3−d)とロール
−6−カルボン酸類を製造する第一工程および化合物(
I[[)を脱炭酸させる第二工程よりなることを特徴と
する一般式([)で示されるチェノ(3,2−b)ピロ
ロ(2,3−d)ピロール類の製造方法を提供するもの
である。
本発明の対象とする化合物は、上記−綴代CI)で示さ
れるチェノ(3,2−b)ピロロ(2,3−d)ピロー
ル類であるが、窒素に置換したR1、R2としては例え
ば水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘプチル、オクチルなどの炭素数1〜8の低級ア
ルキル基、ベンジル、トリルメチル、アニシルメチル、
クロロフェニルメチル、フェニルエチル、フェニルプロ
ピルなどの全炭素数7〜12のアラルキル基が挙げられ
る。
れるチェノ(3,2−b)ピロロ(2,3−d)ピロー
ル類であるが、窒素に置換したR1、R2としては例え
ば水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘプチル、オクチルなどの炭素数1〜8の低級ア
ルキル基、ベンジル、トリルメチル、アニシルメチル、
クロロフェニルメチル、フェニルエチル、フェニルプロ
ピルなどの全炭素数7〜12のアラルキル基が挙げられ
る。
また出発原料である一般式(I[)の置換基R1として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘプチル、オクチルなどの炭素数1〜8の低級アル
キル基が挙げられ、これらは本発明者らにより、先に提
案された方法、特願昭62−172320号により製造
できる。
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘプチル、オクチルなどの炭素数1〜8の低級アル
キル基が挙げられ、これらは本発明者らにより、先に提
案された方法、特願昭62−172320号により製造
できる。
次に本発明の方法について説明する。
化合物〔■〕を加水分解して化合物(I[[)を得る第
一工程を実施するに当たっては、アルカリとして水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸
化物を通常使用する。その使用量は化合物(II)に対
して通常1倍モル以上である。
一工程を実施するに当たっては、アルカリとして水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸
化物を通常使用する。その使用量は化合物(II)に対
して通常1倍モル以上である。
反応温度は30″C〜120″C1反応時間は1〜30
時間が一般的である。
時間が一般的である。
反応溶媒としては例えばメタノール、エタノールなどの
アルコール類が用いられる。得られたCIII)のアル
カリ金属塩の酸析に用いる酸としては、硫酸、塩酸など
の鉱酸が通常使用される。生成物であるチェノ[3,2
−b)ピロロ(2,3−d)ピロール−6−カルボン酸
類(II[)は、適当な方法、例えば再結晶等により精
製することもできる。
アルコール類が用いられる。得られたCIII)のアル
カリ金属塩の酸析に用いる酸としては、硫酸、塩酸など
の鉱酸が通常使用される。生成物であるチェノ[3,2
−b)ピロロ(2,3−d)ピロール−6−カルボン酸
類(II[)は、適当な方法、例えば再結晶等により精
製することもできる。
また第二工程である脱炭酸反応は文献、例えば有機合成
化学協会語長(12) 117H1987)などに記載
された方法を用いることができる。中でも反応溶媒にキ
ノリンを用い、触媒として銅粉を用いる方法が好適であ
る。銅粉の使用量は化合物(■)に対して通常1 :0
.005〜1:0.05モルであり、反応温度は100
°C〜250°C1反応時間は10分〜10時間が一般
的である。生成物であるチェノ(3,2−b〕ピロロ(
2,3−d)ピロール類(1)は適当な方法、例えばカ
ラムクロマトグラフィー等により精製することもできる
。
化学協会語長(12) 117H1987)などに記載
された方法を用いることができる。中でも反応溶媒にキ
ノリンを用い、触媒として銅粉を用いる方法が好適であ
る。銅粉の使用量は化合物(■)に対して通常1 :0
.005〜1:0.05モルであり、反応温度は100
°C〜250°C1反応時間は10分〜10時間が一般
的である。生成物であるチェノ(3,2−b〕ピロロ(
2,3−d)ピロール類(1)は適当な方法、例えばカ
ラムクロマトグラフィー等により精製することもできる
。
かくして−綴代(1)で示される本発明化合物が得られ
るが、本発明の化合物は電気、電子材料の有用な原料と
なり得る。また医農薬の生理活性物質あるいはその中間
体ともなり得る。
るが、本発明の化合物は電気、電子材料の有用な原料と
なり得る。また医農薬の生理活性物質あるいはその中間
体ともなり得る。
例えば、本発明化合物を電解重合して得られる重合体は
導電性高分子となり得る。
導電性高分子となり得る。
電解重合に用いられる電解液は本発明化合物(以下モノ
マーと略す)と支持電解質を適当な溶媒に溶解すること
により作成できる。
マーと略す)と支持電解質を適当な溶媒に溶解すること
により作成できる。
支持電解質としてはモノマーの重合電位テ安定なもので
あればよく、それらの例としては、過ハロゲン酸イオン
、ホウハロゲン化イオン、リンハゲン化イオン、有機ス
ルホン酸イオンを含む金属塩、または4級アンモニウム
塩をあげることができる。それらの具体例としてばLt
C’lO4+LtBFa+NaClO4,KCl041
NaBF4. (n−Bu) aN−C10a+ N
aPF。
あればよく、それらの例としては、過ハロゲン酸イオン
、ホウハロゲン化イオン、リンハゲン化イオン、有機ス
ルホン酸イオンを含む金属塩、または4級アンモニウム
塩をあげることができる。それらの具体例としてばLt
C’lO4+LtBFa+NaClO4,KCl041
NaBF4. (n−Bu) aN−C10a+ N
aPF。
LiPF6.C)In −@−5OJa、 (Et)
4N −BF4. (Et) 41J −pp。
4N −BF4. (Et) 41J −pp。
等をあげることができる。
溶媒としては得に限定はされないがアセトニトリル、T
−ブチロラクトン、テトラヒドロフラン、ベンゾニトリ
ル、ニトロベンゼン等が有効に使用される。
−ブチロラクトン、テトラヒドロフラン、ベンゾニトリ
ル、ニトロベンゼン等が有効に使用される。
電解溶液中の七ツマ−の濃度は飽和濃度以下であればよ
いが余りに低過ぎると電解酸化重合中に溶媒や電解質の
分解等の副反応が起こり易く、また電解生成活性種間の
結合反応が起こりにくくなるため、通常o、ootモル
/!以上の濃度が好ましい。
いが余りに低過ぎると電解酸化重合中に溶媒や電解質の
分解等の副反応が起こり易く、また電解生成活性種間の
結合反応が起こりにくくなるため、通常o、ootモル
/!以上の濃度が好ましい。
支持電解質の濃度についても特に限定されないが、余り
に低い濃度では電解液の抵抗が増大するため0.01モ
ル/2以上、飽和濃度以下で用いられる。
に低い濃度では電解液の抵抗が増大するため0.01モ
ル/2以上、飽和濃度以下で用いられる。
電解酸化重合時の温度は電解液が溶液状態である範囲、
すなわち凝固点以上沸点以下で行うことができるが通常
はo ’c〜100°C2好ましくは10°C〜70“
Cの範囲である。
すなわち凝固点以上沸点以下で行うことができるが通常
はo ’c〜100°C2好ましくは10°C〜70“
Cの範囲である。
使用する電極材料は、前記の電解酸化重合条件下におい
て安定で電気伝導度が10−″S/C11以上であれば
特に限定されない0通常、白金、金、グラファイト、酸
化スズ、酸化イソジウムー酸化スズ(ITO)等が使用
される。これらは単体またはガラスや樹脂フィルム上へ
担持した形状、もしくは複合体として用いることができ
る。
て安定で電気伝導度が10−″S/C11以上であれば
特に限定されない0通常、白金、金、グラファイト、酸
化スズ、酸化イソジウムー酸化スズ(ITO)等が使用
される。これらは単体またはガラスや樹脂フィルム上へ
担持した形状、もしくは複合体として用いることができ
る。
また、電解酸化重合は窒素、アルゴン等の不活性ガス雰
囲気下で行うことが好ましい。
囲気下で行うことが好ましい。
電気化学的な酸化重合の方法は一般に用いられる方法が
採用できる0例えば、定電流法、定電位法、定電圧法、
電位掃引法、電位ステップ法および交流法を挙げること
ができる。
採用できる0例えば、定電流法、定電位法、定電圧法、
電位掃引法、電位ステップ法および交流法を挙げること
ができる。
以上の方法によりチェノ(3,2−b )ピロロ(2,
3−d)ピロール類の重合体を得ることができる。なお
、この重合体には通常支持電解質として用いた電解質イ
オンがとりこまれている。
3−d)ピロール類の重合体を得ることができる。なお
、この重合体には通常支持電解質として用いた電解質イ
オンがとりこまれている。
得られるチェノ(,3,2−b )ピロロ(2,3−d
)ピロール類の重合体は黒色の極めて平滑な膜状で得ら
れる。また定電位電解法あるいは定電流電解法を用いる
とき、重合に要する電気量に比例して圧が制御できるこ
とも大きな利点である。
)ピロール類の重合体は黒色の極めて平滑な膜状で得ら
れる。また定電位電解法あるいは定電流電解法を用いる
とき、重合に要する電気量に比例して圧が制御できるこ
とも大きな利点である。
このようにして生成した膜は半導性を示すが、さらに化
学的にドーピング、電気化学的ドーピング、イオン注入
を行うことによりさらに電導性を高めることができる。
学的にドーピング、電気化学的ドーピング、イオン注入
を行うことによりさらに電導性を高めることができる。
更にこの重合体膜は電解液中で電気化学的にドーピング
、脱ドーピングが行なえることから、二次電池の電極材
料、修飾電極を用いたセンサー、電子デバイス等への応
用があげられ、電気、電子材料としての工業的価値は大
きい。
、脱ドーピングが行なえることから、二次電池の電極材
料、修飾電極を用いたセンサー、電子デバイス等への応
用があげられ、電気、電子材料としての工業的価値は大
きい。
〈発明の効果〉
本発明の化合物チェノ(3,2−b )ピロロ(2,3
−d)ピロール類(1)は14π電子を含む文献未記載
の化合物であり、電気、電子材料用の存用な原料となり
得る。加えて、本発明の化合物は医農薬の生理活性物質
、あるいはその中間体ともなり得る。
−d)ピロール類(1)は14π電子を含む文献未記載
の化合物であり、電気、電子材料用の存用な原料となり
得る。加えて、本発明の化合物は医農薬の生理活性物質
、あるいはその中間体ともなり得る。
また本発明方法によれば一般式(1)で示される化合物
が効率良くしかも容易に得られるのでチェノ(3,2−
b)ピロロ(2,3−d)ピロール類の工業的製法とし
ても有利である。
が効率良くしかも容易に得られるのでチェノ(3,2−
b)ピロロ(2,3−d)ピロール類の工業的製法とし
ても有利である。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれら実施例にのみ限定されるものではい。
はこれら実施例にのみ限定されるものではい。
実施例1゜
4.7−シヒドロー4,7−シメチルー4H−チェノ(
3,2=b)ピロロ(2,3−d:lピロール−6−カ
ルボン酸の製造。
3,2=b)ピロロ(2,3−d:lピロール−6−カ
ルボン酸の製造。
エタノール30m1に6−カルポエトキシー4,7−シ
ヒドロー4.7−シメチルー4H−チェノ〔3,2−b
)ピロロ(2,3−d)ピロール300+sg(1,1
450ミリモル)および10%水酸化ナトリウム、1.
1450 g (2,8626ミリモル)を加え、加熱
還流下、20時間反応させた。
ヒドロー4.7−シメチルー4H−チェノ〔3,2−b
)ピロロ(2,3−d)ピロール300+sg(1,1
450ミリモル)および10%水酸化ナトリウム、1.
1450 g (2,8626ミリモル)を加え、加熱
還流下、20時間反応させた。
反応後、エタノールを減圧濃縮し、残渣に水6〇−とジ
エチルエーテル60−を加えた。振盪後、ジエチルエー
テル層を分液除去した。水層部にlN−HClをPH・
7まで加え酸析した。析出した白色固体をろ取し、水洗
後、真空乾燥して255Bの目的物である淡青色固体を
得た。
エチルエーテル60−を加えた。振盪後、ジエチルエー
テル層を分液除去した。水層部にlN−HClをPH・
7まで加え酸析した。析出した白色固体をろ取し、水洗
後、真空乾燥して255Bの目的物である淡青色固体を
得た。
収率95.1%、淡青色固体、融点147〜149°C
計算イ直 (%) 56.41 4.27
11.96実測値(%) 56.35 4.26 1
1.93マス分析 m/e 234 (M’) IR(KBr) 2932、1644.1520.1414.1366、
1256 cm −’’)l−NMR(90門Hz+
δ”!!7!−Dh、 TMS)3.74 (38,
S)、 4.00 (31(、S)6.82 (LH,
S)、 7.21 (1B、 d、 J=5.27Hz
)7.39 (LH,d、 J−5,27Hz)実施例
2 4.7−シヒドロー4.7−ジメチル−4Hチエノ(3
,2−b)ピロロ(2,3−d〕ピロールの製造キノリ
ン2 Idに4.7−シヒドロー4.7−シメチルー4
H−チェノ(3,2=b)ピロロ〔2,3−d〕ビロー
ル−6−カルボン酸100■(0,4274ミリモル)
および銅粉1■を加え、窒素雰囲気下、150℃で60
分間加熱した。
計算イ直 (%) 56.41 4.27
11.96実測値(%) 56.35 4.26 1
1.93マス分析 m/e 234 (M’) IR(KBr) 2932、1644.1520.1414.1366、
1256 cm −’’)l−NMR(90門Hz+
δ”!!7!−Dh、 TMS)3.74 (38,
S)、 4.00 (31(、S)6.82 (LH,
S)、 7.21 (1B、 d、 J=5.27Hz
)7.39 (LH,d、 J−5,27Hz)実施例
2 4.7−シヒドロー4.7−ジメチル−4Hチエノ(3
,2−b)ピロロ(2,3−d〕ピロールの製造キノリ
ン2 Idに4.7−シヒドロー4.7−シメチルー4
H−チェノ(3,2=b)ピロロ〔2,3−d〕ビロー
ル−6−カルボン酸100■(0,4274ミリモル)
および銅粉1■を加え、窒素雰囲気下、150℃で60
分間加熱した。
反応後、水5o−を加え、ジエチルエーテル30mjt
で2回抽出した。ジエチルエーテル層を飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ジエチルエーテ
ルを減圧濃縮すると、褐色オイル状物が得られた。カラ
ムクロマト(シリカゲル、クロロホルム溶出)により精
製して50.0■の目的物である灰白色結晶を得た。
で2回抽出した。ジエチルエーテル層を飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ジエチルエーテ
ルを減圧濃縮すると、褐色オイル状物が得られた。カラ
ムクロマト(シリカゲル、クロロホルム溶出)により精
製して50.0■の目的物である灰白色結晶を得た。
収率59.1%、灰白色固体、融点91〜92°C元素
分析(C+o H+。Nz S) 計算値(%) 63.16 5.26 14.74実
測値(%) 63.19 5.25 14.70マス
分析 m/e 190 (M”) IR(KBr) 3440、3100.2924.1516.1340
c+w伺’H4MR(90MHz、 6 ’jj4’
+ TMS)3.75 (311,S)、 3.82
(3)1. S)6.01 (1)1. d、 J−2
,64Hz)6.60 (IH,d、 J−2,64H
2)6.95 (In、 s) 参考例1 5−カルボエトキシ−4−メチル−4H−チェノ(3,
2−b)ピロールの製造 ジメチルホルムアミド8.10 g (110Jミリモ
ル)に5−カルボエトキシ−4H−チェノ(3,2−b
)ピロール500a+g(2,56ミリモル)、無水炭
酸カリウム1.73g(12,54ミリモル)およびヨ
ウ化メチル1.94 g (13,65ミリモル)を加
え窒素雰囲気下、室温で3時間撹拌した。
分析(C+o H+。Nz S) 計算値(%) 63.16 5.26 14.74実
測値(%) 63.19 5.25 14.70マス
分析 m/e 190 (M”) IR(KBr) 3440、3100.2924.1516.1340
c+w伺’H4MR(90MHz、 6 ’jj4’
+ TMS)3.75 (311,S)、 3.82
(3)1. S)6.01 (1)1. d、 J−2
,64Hz)6.60 (IH,d、 J−2,64H
2)6.95 (In、 s) 参考例1 5−カルボエトキシ−4−メチル−4H−チェノ(3,
2−b)ピロールの製造 ジメチルホルムアミド8.10 g (110Jミリモ
ル)に5−カルボエトキシ−4H−チェノ(3,2−b
)ピロール500a+g(2,56ミリモル)、無水炭
酸カリウム1.73g(12,54ミリモル)およびヨ
ウ化メチル1.94 g (13,65ミリモル)を加
え窒素雰囲気下、室温で3時間撹拌した。
反応後、水50dとジエチルエーテル50dを加え分液
した。水層はジエチルエーテルで抽出して(30IR1
x2回)有機層に合わせた。有機層を飽和食塩水で洗浄
後、乾燥して減圧濃縮した。得られた結晶をカラムクロ
マト(シリカゲル、クロロホルム溶出)で精製して50
8■の目的物を得た。
した。水層はジエチルエーテルで抽出して(30IR1
x2回)有機層に合わせた。有機層を飽和食塩水で洗浄
後、乾燥して減圧濃縮した。得られた結晶をカラムクロ
マト(シリカゲル、クロロホルム溶出)で精製して50
8■の目的物を得た。
収率95.0%
元素分析(C+。l(++ N O□5)C)IN
計算値(%) 57.42 5.26 6.70実測
値(%) 57.64 5.24 6.811R(K
B、) 1694.1240cm−’ ’H−NMR(90MHz、 δC:二LJ1.37
(38,t)、 4.03 (3)1.S)4
.32 (2H,q)、 6.90 (IH,d
、J−5,2To)7.16 (LH,S)、 7
.30 (LH,d、J−5,2Hz)マス分析 m
/ e 209 (M ”)参考例2 5−ヒドロキシメチル−4−メチル−4H−チェノ(3
,2−b )ピロールの製造 5−カルボエトキシ−4−メチル−4H−チェノ(3,
2−b )ピロール554m(2,65ミリモル)を乾
燥ジエチルエーテル20dに溶解させた。窒素雰囲気下
、−70℃に冷却しジイソブチルアルミニウムハイドラ
イド/トルエン溶液(IM溶?&) 13.M(13,
3ミリ+ル)を30分で滴下した。滴下後、同温度で6
時間撹拌した。
値(%) 57.64 5.24 6.811R(K
B、) 1694.1240cm−’ ’H−NMR(90MHz、 δC:二LJ1.37
(38,t)、 4.03 (3)1.S)4
.32 (2H,q)、 6.90 (IH,d
、J−5,2To)7.16 (LH,S)、 7
.30 (LH,d、J−5,2Hz)マス分析 m
/ e 209 (M ”)参考例2 5−ヒドロキシメチル−4−メチル−4H−チェノ(3
,2−b )ピロールの製造 5−カルボエトキシ−4−メチル−4H−チェノ(3,
2−b )ピロール554m(2,65ミリモル)を乾
燥ジエチルエーテル20dに溶解させた。窒素雰囲気下
、−70℃に冷却しジイソブチルアルミニウムハイドラ
イド/トルエン溶液(IM溶?&) 13.M(13,
3ミリ+ル)を30分で滴下した。滴下後、同温度で6
時間撹拌した。
反応後、−70°Cでエタノール10mを注意深く加え
、その後室温まで温度を上げた。さらに10%塩化アン
モニウム2ON1を加えて撹拌した後、セライト濾過を
行い濾液を分液した。水層はさらにジエチルエーテルで
抽出(20dx2回)し、先の有機層に合わせた。有機
層を飽和食塩水で洗浄後、分液して有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。
、その後室温まで温度を上げた。さらに10%塩化アン
モニウム2ON1を加えて撹拌した後、セライト濾過を
行い濾液を分液した。水層はさらにジエチルエーテルで
抽出(20dx2回)し、先の有機層に合わせた。有機
層を飽和食塩水で洗浄後、分液して有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。
溶媒を減圧濃縮し418.3■の目的物を白色結晶とし
て得た。
て得た。
収率 94.5%、融点 98〜100℃元素分析(C
,H,S OS) HN 計算値(%) 57.48 5.39 8.38実測
値(%) 57.97 5.47 8.411R(K
B、) 3400、3210CI−’ ’H−NMR(90MHz、 δe:i、1″)1.
59 (18,d)、 3.78 (3)1.S)4
.67 (2H,d)、 6.33 (If(、S)
6.89 (IH,d、J−5,2Hz)7.07 (
IH,d、J−5,2Hz)マス分析 +g/e 1
67(M’)参考例3 5−ホルミル−4−メチル−4H−チェノ(3,2−b
)ピロールの製造 ベンゼン200−に過酸化ニッケル(5X 10−’g
、at翔。
,H,S OS) HN 計算値(%) 57.48 5.39 8.38実測
値(%) 57.97 5.47 8.411R(K
B、) 3400、3210CI−’ ’H−NMR(90MHz、 δe:i、1″)1.
59 (18,d)、 3.78 (3)1.S)4
.67 (2H,d)、 6.33 (If(、S)
6.89 (IH,d、J−5,2Hz)7.07 (
IH,d、J−5,2Hz)マス分析 +g/e 1
67(M’)参考例3 5−ホルミル−4−メチル−4H−チェノ(3,2−b
)ピロールの製造 ベンゼン200−に過酸化ニッケル(5X 10−’g
、at翔。
oxygen/ g ) 24.1 g (120,5
ミリモル)を仕込み窒素雰囲気下撹拌した。 5−ヒ
ドロキシメチル−4−メチル−4H−チェノ(3,2−
b )ピロール1.836 g (10,99vu)を
ベンゼン11oI111ニ熔解した液を、室温下20分
で滴下し、同温度で30分撹拌した。
ミリモル)を仕込み窒素雰囲気下撹拌した。 5−ヒ
ドロキシメチル−4−メチル−4H−チェノ(3,2−
b )ピロール1.836 g (10,99vu)を
ベンゼン11oI111ニ熔解した液を、室温下20分
で滴下し、同温度で30分撹拌した。
反応後、過酸化ニッケルを濾別し、濾液を減圧fi!I
isた。得られた結晶をカラムクロマト(シリカゲル、
クロロホルム溶出)で精製して1.352gの目的物を
桃色結晶として得た。
isた。得られた結晶をカラムクロマト(シリカゲル、
クロロホルム溶出)で精製して1.352gの目的物を
桃色結晶として得た。
収率 74.5%、融点 51〜53°C元素分析(C
m HlS O5) C)IN 計算値(%) 58.18 4.24 8.48実測
値(%) 58.07 4.32 8.37IR(K
B、) 3100.1665.1400cm−’’H−NMR(
90Mllz、 δc4g4z )4.07 (3
N、S)、 6.93 CIH,d、J・5.2H
2)7.07 (IH,S)、 7.45 (L
H,d、J−5,2Hz)9.62 (LH,S) マス分析 n/e 165団°) 参考例4 2−アジド−3−(4−メチル−4H−チェノ(3,2
−b )ピロール−5−イル)アクリル酸エチルの製造 乾燥したエタノール10m1に窒素雰囲気下、金属ナト
リウム209mg (9,09zvモ3)を加えて溶解
した。
m HlS O5) C)IN 計算値(%) 58.18 4.24 8.48実測
値(%) 58.07 4.32 8.37IR(K
B、) 3100.1665.1400cm−’’H−NMR(
90Mllz、 δc4g4z )4.07 (3
N、S)、 6.93 CIH,d、J・5.2H
2)7.07 (IH,S)、 7.45 (L
H,d、J−5,2Hz)9.62 (LH,S) マス分析 n/e 165団°) 参考例4 2−アジド−3−(4−メチル−4H−チェノ(3,2
−b )ピロール−5−イル)アクリル酸エチルの製造 乾燥したエタノール10m1に窒素雰囲気下、金属ナト
リウム209mg (9,09zvモ3)を加えて溶解
した。
得られた溶液をO″Cに冷却し5−ホルミル−4−メチ
ル−4H−チェノ(3,2−b )ピロール300mg
(1,82ミ+++ル)およびアジド酢酸エチル1.
173g(9,09ミリモル)の溶液を10分かけて滴
下した。0°Cで7時間撹拌した後、室温まで温度を上
げた。
ル−4H−チェノ(3,2−b )ピロール300mg
(1,82ミ+++ル)およびアジド酢酸エチル1.
173g(9,09ミリモル)の溶液を10分かけて滴
下した。0°Cで7時間撹拌した後、室温まで温度を上
げた。
反応後、水30成を加え析出した黄色結晶を濾取した。
得られた結晶を減圧乾燥し295.1■の目的物である
黄色結晶を得た。
黄色結晶を得た。
収率 58.8%、融点100〜102’C(dec、
)元素分析(CI281□N40! S)HN 計算値(%) 52.17 4.35 20.29実
測値(%) 51.90 4.38 19.90IR
(KB、) 3430、 2120. 1685. 1260c+m
−’’H−NMR(90MHz、 δcgggs )
1.39 (3H,t)、 3.77 (S、3
o)4.36 (2H,q)、 6.87 (1)
1.d、J−5,3Hz)6.93 (LH,S)、
7.20 (IH,d、J−5,3Hz)7.4
3 (LH,S) マス分析 +l/e276(「) 参考例5 6−カルポエトキシー4.7−シヒドロー4−メチル−
4H−チェノ(3,2−b )ピロロ(2,3−d)ピ
ロールの製造 P−キシレン200dに2−アジド−3−(4−メチル
−4H−チェノ(3,2−b)ピロール−5−イル)ア
クリル酸エチル2.0g (7,25ミリモル)を加え
熔解した。溶液を窒素雰囲気下10分間加熱還流した。
)元素分析(CI281□N40! S)HN 計算値(%) 52.17 4.35 20.29実
測値(%) 51.90 4.38 19.90IR
(KB、) 3430、 2120. 1685. 1260c+m
−’’H−NMR(90MHz、 δcgggs )
1.39 (3H,t)、 3.77 (S、3
o)4.36 (2H,q)、 6.87 (1)
1.d、J−5,3Hz)6.93 (LH,S)、
7.20 (IH,d、J−5,3Hz)7.4
3 (LH,S) マス分析 +l/e276(「) 参考例5 6−カルポエトキシー4.7−シヒドロー4−メチル−
4H−チェノ(3,2−b )ピロロ(2,3−d)ピ
ロールの製造 P−キシレン200dに2−アジド−3−(4−メチル
−4H−チェノ(3,2−b)ピロール−5−イル)ア
クリル酸エチル2.0g (7,25ミリモル)を加え
熔解した。溶液を窒素雰囲気下10分間加熱還流した。
放冷後、溶媒を1/3に減圧濃縮すると結晶が析出した
。析出した結晶を濾取し乾燥することにより1.488
gの目的物を淡褐色結晶として得た。
。析出した結晶を濾取し乾燥することにより1.488
gの目的物を淡褐色結晶として得た。
収率 82.8%、融点167〜169°C元素分析(
Clz HIz Nt Ox S)HN 計算値(%) 5B、06 4.84 11.29実
測値(%) 57.63 4.82 11.26IR
(KB、) 3432、3312.1660.1284cm−’’H
−NMR(90MHz、 δCii、CL’l )1
.39 (3H,t)、 3.77 (3H,S)4.
37 (21(、q)、 6.80 (1)1.S)6
.82 (IH,S)、 6.96 (IH,d、J=
5’、3Hz)7.15 (LH,d、J−5,3Hz
)、 8.84 (ILb)マス分析 m/e 24
8(M’) 参考例6 ローカルボエトキシー4.7−シヒドロー4.7−シメ
チルー4H−チェノC3,2−b)ピロロ(2,3−d
)ピロールの製造 ジメチルホルムアミド40.0 g (547,9ミリ
モB) に6−カルポエトキシー4.7−シヒドロー4
−メチル−4H−チェノ(3,2−b)ピロロC2,3
−d)ピロール1.23g (4,96ミリ(ル)、無
水炭酸カリウム1゜77 g (24,26ミリモル
)およびヨウ化メチル3.75g(26,40ミ!It
ル)を加え窒素雰囲気下、室温で10時間撹拌した。
Clz HIz Nt Ox S)HN 計算値(%) 5B、06 4.84 11.29実
測値(%) 57.63 4.82 11.26IR
(KB、) 3432、3312.1660.1284cm−’’H
−NMR(90MHz、 δCii、CL’l )1
.39 (3H,t)、 3.77 (3H,S)4.
37 (21(、q)、 6.80 (1)1.S)6
.82 (IH,S)、 6.96 (IH,d、J=
5’、3Hz)7.15 (LH,d、J−5,3Hz
)、 8.84 (ILb)マス分析 m/e 24
8(M’) 参考例6 ローカルボエトキシー4.7−シヒドロー4.7−シメ
チルー4H−チェノC3,2−b)ピロロ(2,3−d
)ピロールの製造 ジメチルホルムアミド40.0 g (547,9ミリ
モB) に6−カルポエトキシー4.7−シヒドロー4
−メチル−4H−チェノ(3,2−b)ピロロC2,3
−d)ピロール1.23g (4,96ミリ(ル)、無
水炭酸カリウム1゜77 g (24,26ミリモル
)およびヨウ化メチル3.75g(26,40ミ!It
ル)を加え窒素雰囲気下、室温で10時間撹拌した。
反応後、水300mとジエチルエーテル300dを加え
分液した。水層はジエチルエーテルで抽出して(50m
j!x2回)有機層に合わせた。有機層を飽和食塩水で
洗浄後、乾燥して減圧濃縮した。得られた結晶をカラム
クロマト(シリカゲル、クロロホルム溶出)で精製して
1.05gの目的物を淡褐色結晶として得た。
分液した。水層はジエチルエーテルで抽出して(50m
j!x2回)有機層に合わせた。有機層を飽和食塩水で
洗浄後、乾燥して減圧濃縮した。得られた結晶をカラム
クロマト(シリカゲル、クロロホルム溶出)で精製して
1.05gの目的物を淡褐色結晶として得た。
収率 80.5%、融点121〜123’c元素分析(
Cl5H+a Hz O□S)C)IN 計夏値(%) 59.54 5.34 10.69実
測値(%) 59.36 5.37 10.43rR
(KB、) 3456、 2980. 1682. 1518. 1
240C11−’’H−NMR(90MHz、 δC
:二i%3)1.37 (3H,t)、 3.69
(3H,S)4.08 (3)1.S)、 4.
31 (2H,q)6.79 (18,S)、 6.9
3 (18,d、J=5.3Hz)7.13 (II(
、d、J=5.3Hz)マス分析 lI/e 262
(M”)参考例7 モノマーとして4,7−シヒドロー4.7−シメチルー
4H−チェノC3,2−b)ピロロ〔2,3−d)ピロ
ールを10mmol/ j2 、支持塩としてLiC1
0,を200mmol / j2含むアセトニトリル溶
液を電解液とした。
Cl5H+a Hz O□S)C)IN 計夏値(%) 59.54 5.34 10.69実
測値(%) 59.36 5.37 10.43rR
(KB、) 3456、 2980. 1682. 1518. 1
240C11−’’H−NMR(90MHz、 δC
:二i%3)1.37 (3H,t)、 3.69
(3H,S)4.08 (3)1.S)、 4.
31 (2H,q)6.79 (18,S)、 6.9
3 (18,d、J=5.3Hz)7.13 (II(
、d、J=5.3Hz)マス分析 lI/e 262
(M”)参考例7 モノマーとして4,7−シヒドロー4.7−シメチルー
4H−チェノC3,2−b)ピロロ〔2,3−d)ピロ
ールを10mmol/ j2 、支持塩としてLiC1
0,を200mmol / j2含むアセトニトリル溶
液を電解液とした。
作用極、対極にはpt板を用い、参照極には銀/塩化1
!電極を用いた。 Ar雰囲気下において、作用極を参
照極に対して−0,5V 〜+0.6V間を50IIV
/secで電位掃引し室温で電解重合を行った。参照極
に対し0.2vからアノードxiが流れ0.5vでピー
ク電流を示し、作用極上に黒色の膜状物の生成を認めた
。20分間の電解重合後、重合体膜の付着した作用極を
とり出し、モノマーを含まない200mmol/ j!
のLiClO4を支持塩として含むアセトニトリル溶液
中につけた。対極にはpt板、参照極には銀/塩化銀電
極を用いAr雰囲気下参照極に対し−0,7v〜+0.
7V間を200mV/seeで電位掃引を行った。 C
IO,−のドーピング、脱ドーピングに対応するアノー
ド電流、カソード電流が認められ、その半波電位は0、
lVvsAg/八gc1であへた。またアノード電流
、カソード電流の積算値は等しく、ドーピング、脱ドー
ピングが可逆的に起こっていることを示した。
!電極を用いた。 Ar雰囲気下において、作用極を参
照極に対して−0,5V 〜+0.6V間を50IIV
/secで電位掃引し室温で電解重合を行った。参照極
に対し0.2vからアノードxiが流れ0.5vでピー
ク電流を示し、作用極上に黒色の膜状物の生成を認めた
。20分間の電解重合後、重合体膜の付着した作用極を
とり出し、モノマーを含まない200mmol/ j!
のLiClO4を支持塩として含むアセトニトリル溶液
中につけた。対極にはpt板、参照極には銀/塩化銀電
極を用いAr雰囲気下参照極に対し−0,7v〜+0.
7V間を200mV/seeで電位掃引を行った。 C
IO,−のドーピング、脱ドーピングに対応するアノー
ド電流、カソード電流が認められ、その半波電位は0、
lVvsAg/八gc1であへた。またアノード電流
、カソード電流の積算値は等しく、ドーピング、脱ドー
ピングが可逆的に起こっていることを示した。
参考例8
参考例7と同様にして作成した重合体膜をpt板に付着
したままとり出した。支持塩としてLiCl0nを20
0a+mol / l含むプロピレンカーボネートを電
解液とし、対極、参照極にはLi片を用いてAr雰囲気
下参照極に対し+2.0V 〜+3.9Vの間を50m
V/seeで電位掃引を行った。 ClO4−のドーピ
ング、脱ドーピングに対応するアノード電流、カソード
電流が認められ、その半波電位は3. IVvsLi
/ Li ”であった、またアノード電流、カソード電
流の積算値は等しくドーピング、脱ドーピングが可逆的
に起こっていることを示した。
したままとり出した。支持塩としてLiCl0nを20
0a+mol / l含むプロピレンカーボネートを電
解液とし、対極、参照極にはLi片を用いてAr雰囲気
下参照極に対し+2.0V 〜+3.9Vの間を50m
V/seeで電位掃引を行った。 ClO4−のドーピ
ング、脱ドーピングに対応するアノード電流、カソード
電流が認められ、その半波電位は3. IVvsLi
/ Li ”であった、またアノード電流、カソード電
流の積算値は等しくドーピング、脱ドーピングが可逆的
に起こっていることを示した。
参考例9
作用極としてITO付きガラス板を用いたほがは参考例
7と同様にして電解重合を行い、黒色の重合体膜を得た
。この膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ膜
表面は極めて平滑であった。
7と同様にして電解重合を行い、黒色の重合体膜を得た
。この膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ膜
表面は極めて平滑であった。
Claims (2)
- (1)一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、R_1、R_2はそれぞれ水素原子、低級アル
キル基もしくはアラルキル基を表す。) で示されるチエノ〔3,2−b〕ピロロ〔2,3−d〕
ピロール類。 - (2)一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、R_1、R_2はそれぞれ水素原子、低級アル
キル基もしくはアラルキル基を表し、R_3は低級アル
キル基を表す。) で示される6−アルコキシカルボニル−チエノ〔3,2
−b〕ピロロ〔2,3−d〕ピロール類を加水分解して
一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 (式中、R_1、R_2は前記と同じ意味を表す。)で
示されるチエノ〔3,2−b〕ピロロ〔2,3−d〕ピ
ロール−6−カルボン酸類を製造する第一工程および化
合物〔III〕を脱炭酸させる第二工程よりなることを特
徴とする一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、R_1、R_2は前記と同じ意味を表す。)で
示されるチエノ〔3,2−b〕ピロロ〔2,3−d〕ピ
ロール類の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62331243A JPH01172388A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | チエノ〔3,2−b〕ピロロ〔2,3−d〕ピロール類およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62331243A JPH01172388A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | チエノ〔3,2−b〕ピロロ〔2,3−d〕ピロール類およびその製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01172388A true JPH01172388A (ja) | 1989-07-07 |
Family
ID=18241499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62331243A Pending JPH01172388A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | チエノ〔3,2−b〕ピロロ〔2,3−d〕ピロール類およびその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01172388A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7893098B2 (en) | 2003-12-29 | 2011-02-22 | Sepracor Inc. | Pyrrole and pyrazole DAAO inhibitors |
US7902252B2 (en) | 2007-01-18 | 2011-03-08 | Sepracor, Inc. | Inhibitors of D-amino acid oxidase |
US8053603B2 (en) | 2006-01-06 | 2011-11-08 | Sunovion Pharmaceuticals Inc. | Tetralone-based monoamine reuptake inhibitors |
US8097760B2 (en) | 2006-03-31 | 2012-01-17 | Sunovion Pharmacuticals Inc. | Preparation of chiral amides and amines |
WO2012091628A3 (ru) * | 2010-12-27 | 2012-09-13 | Алла Хем, Ллс | Замещенные гидрированные тиено-пирроло[3,2-с]пиридины, лиганды, фармацевтическая композиция и способ их применения |
US8669291B2 (en) | 2007-05-31 | 2014-03-11 | Sunovion Pharmaceuticals Inc. | Phenyl substituted cycloalkylamines as monoamine reuptake inhibitors |
US8877975B2 (en) | 2006-01-06 | 2014-11-04 | Sunovion Pharmaceuticals Inc. | Cycloalkylamines as monoamine reuptake inhibitors |
-
1987
- 1987-12-25 JP JP62331243A patent/JPH01172388A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7893098B2 (en) | 2003-12-29 | 2011-02-22 | Sepracor Inc. | Pyrrole and pyrazole DAAO inhibitors |
US8053603B2 (en) | 2006-01-06 | 2011-11-08 | Sunovion Pharmaceuticals Inc. | Tetralone-based monoamine reuptake inhibitors |
US8877975B2 (en) | 2006-01-06 | 2014-11-04 | Sunovion Pharmaceuticals Inc. | Cycloalkylamines as monoamine reuptake inhibitors |
US9868718B2 (en) | 2006-01-06 | 2018-01-16 | Sunovion Pharmaceuticals Inc. | Cycloalkylamines as monoamine reuptake inhibitors |
US10562878B2 (en) | 2006-01-06 | 2020-02-18 | Sunovion Pharamceuticals Inc. | Cycloalkylamines as monoamine reuptake inhibitors |
US8097760B2 (en) | 2006-03-31 | 2012-01-17 | Sunovion Pharmacuticals Inc. | Preparation of chiral amides and amines |
US7902252B2 (en) | 2007-01-18 | 2011-03-08 | Sepracor, Inc. | Inhibitors of D-amino acid oxidase |
US8669291B2 (en) | 2007-05-31 | 2014-03-11 | Sunovion Pharmaceuticals Inc. | Phenyl substituted cycloalkylamines as monoamine reuptake inhibitors |
US9586888B2 (en) | 2007-05-31 | 2017-03-07 | Sunovion Pharmaceuticals Inc. | Phenyl substituted cycloalkylamines as monoamine reuptake inhibitors |
WO2012091628A3 (ru) * | 2010-12-27 | 2012-09-13 | Алла Хем, Ллс | Замещенные гидрированные тиено-пирроло[3,2-с]пиридины, лиганды, фармацевтическая композиция и способ их применения |
JP2014501277A (ja) * | 2010-12-27 | 2014-01-20 | アラ・ケム・エルエルシー | 置換された水素化チエノ−ピロロ[3,2−c]ピリジン、リガンド、医薬組成物及び上記を使用するための方法 |
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