JPH01163174A - テトラヒドロフルフリオキシメチルアクリルアミド - Google Patents
テトラヒドロフルフリオキシメチルアクリルアミドInfo
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はN−メチロールアクリルアミドの新規なエーテ
ル化物と、このエーテル化物を単量体成分として含有す
る光硬化型樹脂組成物に関する。本発明の樹脂組成物は
水現像が可能な感光性樹脂製版材料として、あるいはプ
リント配線板のインキなどとして、特に優れた適性を備
えている。
ル化物と、このエーテル化物を単量体成分として含有す
る光硬化型樹脂組成物に関する。本発明の樹脂組成物は
水現像が可能な感光性樹脂製版材料として、あるいはプ
リント配線板のインキなどとして、特に優れた適性を備
えている。
[従来の技術]
一般に光硬化性があって、水に溶ける中性液状の重量体
としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
、2−ヒドロキシ−3−プロピル(メタ)アクリレート
、トリエチレングリコールメチルエーテル(メタ)アク
リレート、メトキシメチルアクリルアミド、エトキシエ
チルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、アクリ
ロイルモルホリン、ビニルピロリドンなどが知られてい
る。
としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
、2−ヒドロキシ−3−プロピル(メタ)アクリレート
、トリエチレングリコールメチルエーテル(メタ)アク
リレート、メトキシメチルアクリルアミド、エトキシエ
チルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、アクリ
ロイルモルホリン、ビニルピロリドンなどが知られてい
る。
[発明が解決しようとする問題点]
従来の光硬化性にして水に溶ける中性液状単量体は、(
イ)蒸気圧が高く光硬化中に揮敗しやすい、(ロ)光硬
化速度が遅い、(ハ)光硬化したポリマーが粘着性をし
めしたり、水に触れると瞬時に溶解1発泡又は崩壊する
。などのいずれかの欠点があり、これらの欠点を持たな
い単量体はこれまで知られていない。
イ)蒸気圧が高く光硬化中に揮敗しやすい、(ロ)光硬
化速度が遅い、(ハ)光硬化したポリマーが粘着性をし
めしたり、水に触れると瞬時に溶解1発泡又は崩壊する
。などのいずれかの欠点があり、これらの欠点を持たな
い単量体はこれまで知られていない。
本発明は上に指摘したような欠点を持たない新規な光硬
化性単量体と、この単量体を主要成分として含有する光
硬化型樹脂組成物を提供する。
化性単量体と、この単量体を主要成分として含有する光
硬化型樹脂組成物を提供する。
[問題点を解決するための手段]
本発明に係る光硬化性単量体は、下記の〔I〕式で示さ
れ、また本発明に係る光硬化型樹脂組成物は、下記の〔
11式で示される単量体に、光重合開始剤を配してなる
。
れ、また本発明に係る光硬化型樹脂組成物は、下記の〔
11式で示される単量体に、光重合開始剤を配してなる
。
○
本発明の単量体(13は、アクリルアミドのN−メチロ
ール化物と、テトラヒドロフルフリルアルコールとをエ
ーテル型縮合させることによって容易に調製することが
できる。
ール化物と、テトラヒドロフルフリルアルコールとをエ
ーテル型縮合させることによって容易に調製することが
できる。
例えば、アクリルアミドのN−メチロール化物とテトラ
ヒドロフルフリルアルコールとを、酸触媒の存在下、ベ
ンゼン、トルエンなどの共沸溶剤中、80〜120℃の
温度で反応させて脱水エーテル化を行ない、反応生成物
を中和後水洗などで触媒などを除き1次に減圧蒸留又は
共沸蒸留などの手段で脱溶剤を行なうことにより、目的
とする単量体〔I〕を得ることができる。
ヒドロフルフリルアルコールとを、酸触媒の存在下、ベ
ンゼン、トルエンなどの共沸溶剤中、80〜120℃の
温度で反応させて脱水エーテル化を行ない、反応生成物
を中和後水洗などで触媒などを除き1次に減圧蒸留又は
共沸蒸留などの手段で脱溶剤を行なうことにより、目的
とする単量体〔I〕を得ることができる。
本発明の単量体〔I〕は無色、無臭、低粘度、低揮発性
の液体で、水、アセトン、酢酸エチル、トルエンなどに
溶ける。また、これに光重合開始剤を配合し、ガラス、
銅張り積層板、鉄板などの表面に塗布して光硬化させる
と、早い時間で硬化し、被塗布面との密着性が良好で、
硬度の高い強靭な塗膜を形成する。そして、この塗膜は
流水に3程度度浸しても変化がなく、吸湿によって粘着
性を帯びることもない。
の液体で、水、アセトン、酢酸エチル、トルエンなどに
溶ける。また、これに光重合開始剤を配合し、ガラス、
銅張り積層板、鉄板などの表面に塗布して光硬化させる
と、早い時間で硬化し、被塗布面との密着性が良好で、
硬度の高い強靭な塗膜を形成する。そして、この塗膜は
流水に3程度度浸しても変化がなく、吸湿によって粘着
性を帯びることもない。
ちなみに、低揮発性にして水溶性であるトリエチレング
リコールメチルエーテル(メタ)アクリレート、アクリ
ロイルモルホリン、ビニルピロリドンなどの光硬化塗膜
は、水分に感じやすく、流水に浸すと直ちに溶解して粘
着性を示すに至る。
リコールメチルエーテル(メタ)アクリレート、アクリ
ロイルモルホリン、ビニルピロリドンなどの光硬化塗膜
は、水分に感じやすく、流水に浸すと直ちに溶解して粘
着性を示すに至る。
また単量体〔I〕は公知の水溶性単量体2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール
メチルエーテル(メタ)アクリレートなどと相溶するか
ら、これら単量体と適宜混合のうえ光重合開始剤を溶か
し、光硬化させたり、あるいは過酸化ベンゾイル、アゾ
ビスイソブチロニトリルなどのラジカル開始剤を配合し
、必要に応じて水、アセトン、メチルエチルケトン、酢
酸ビニル、トルエンなどの溶剤に溶かして熱重合させる
ことにより、感湿性を有するポリマーとか、水溶性のポ
リマーとか、硬度に変化を持たせたポリマーとかを得る
ことができる。
エチル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール
メチルエーテル(メタ)アクリレートなどと相溶するか
ら、これら単量体と適宜混合のうえ光重合開始剤を溶か
し、光硬化させたり、あるいは過酸化ベンゾイル、アゾ
ビスイソブチロニトリルなどのラジカル開始剤を配合し
、必要に応じて水、アセトン、メチルエチルケトン、酢
酸ビニル、トルエンなどの溶剤に溶かして熱重合させる
ことにより、感湿性を有するポリマーとか、水溶性のポ
リマーとか、硬度に変化を持たせたポリマーとかを得る
ことができる。
本発明に係る光硬化型樹脂組成物は、上記の単量体〔I
〕に加えて光重合開始剤を含有する。
〕に加えて光重合開始剤を含有する。
光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインエチル
エーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ベンジルジメチ
ルケタール、ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン
、ジェトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メ
チルプロピオフェノン、ミヒラーケトン、クロロチオキ
サントン、ベンゾイルベンジルトリメチルアンモニウム
クロライドなどを使用することができる。そして、これ
らの光重合開始剤は必要に応じてジブチルアミン、トリ
エチルアミン、ジエチルアミノエチルメタクリレートな
どの増感剤と併用のうえ、0.01〜10重量%の範囲
で組成物に配合される。
エーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ベンジルジメチ
ルケタール、ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン
、ジェトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メ
チルプロピオフェノン、ミヒラーケトン、クロロチオキ
サントン、ベンゾイルベンジルトリメチルアンモニウム
クロライドなどを使用することができる。そして、これ
らの光重合開始剤は必要に応じてジブチルアミン、トリ
エチルアミン、ジエチルアミノエチルメタクリレートな
どの増感剤と併用のうえ、0.01〜10重量%の範囲
で組成物に配合される。
本発明の光硬化型樹脂組成物は、基本的には上記の単量
体〔!〕と光重合開始剤とで構成されるが、この組成物
には単量体〔I〕のプレポリマーを配合することができ
る。さらに本発明の樹脂組成物には好ましくは50重量
%を越えない範囲で他種の単量体を第3成分として添加
することが可能である。この場合の単量体としては、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−プロピル(メタ)アクリレート、(メタ)ア
クリル酸、(メタ)アクリルアミド、トリエチレングリ
コールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレ
ート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、メ
トキシメチルアクリルアミド、エトキシエチルアクリル
アミド、(メタ)アクリルアミドプロピルトリメチルア
ンモニウムクロライド、ターシャリ−ブチルアクリルア
ミドスルホン酸、スチレンスルホン酸ソーダ、ジメチル
アクリルアミド、アクリロイルモルホリン、ビニルピロ
リドン、酢酸ビニルなどが包含される。
体〔!〕と光重合開始剤とで構成されるが、この組成物
には単量体〔I〕のプレポリマーを配合することができ
る。さらに本発明の樹脂組成物には好ましくは50重量
%を越えない範囲で他種の単量体を第3成分として添加
することが可能である。この場合の単量体としては、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−プロピル(メタ)アクリレート、(メタ)ア
クリル酸、(メタ)アクリルアミド、トリエチレングリ
コールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレ
ート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、メ
トキシメチルアクリルアミド、エトキシエチルアクリル
アミド、(メタ)アクリルアミドプロピルトリメチルア
ンモニウムクロライド、ターシャリ−ブチルアクリルア
ミドスルホン酸、スチレンスルホン酸ソーダ、ジメチル
アクリルアミド、アクリロイルモルホリン、ビニルピロ
リドン、酢酸ビニルなどが包含される。
さらにまた、本発明の光硬化型樹脂組成物には、この樹
脂組成物自体の性状又は樹脂組成物から得られる硬化皮
膜に別の性能を付与する目的で、ポリビニルアルコール
、カルボキシメチルセルローズ、ヒドロキシエチルセル
ローズ、メチルセルローズ、ポリアクリル酸ソーダ、ポ
リエチレンオキサイド、ポリアクリルアミドなどの各種
合成樹脂やデンプンなどを混合することができ、また通
常の光硬化型樹脂組成物と同様に、顔料、安定剤、酸化
防止剤、界面活性剤。
脂組成物自体の性状又は樹脂組成物から得られる硬化皮
膜に別の性能を付与する目的で、ポリビニルアルコール
、カルボキシメチルセルローズ、ヒドロキシエチルセル
ローズ、メチルセルローズ、ポリアクリル酸ソーダ、ポ
リエチレンオキサイド、ポリアクリルアミドなどの各種
合成樹脂やデンプンなどを混合することができ、また通
常の光硬化型樹脂組成物と同様に、顔料、安定剤、酸化
防止剤、界面活性剤。
濡れ剤、粘度調整剤などを必要に応じて混合することが
できる。
できる。
本発明の光硬化型樹脂組成物を対象物に塗布するに当っ
ては、ロールコータ−1刷毛塗り、スクリーン印刷など
任意の塗工方法を採用することができ、水、メチルエチ
ルケトン、酢酸エチル、トルエンなどで希釈すれば、ス
プレー塗装を採用することもできる。しかし、本発明の
樹脂組成物はその組成によって無溶媒でも低粘度である
ので、溶剤の助けを借りずにそのまま塗布することがで
き、この場合には当然のことながら、光硬化させる前に
予備乾燥を行なう必要がない。そして1本発明の樹脂組
成物はガラス、銅張り積層板、鋼板などによく密着し、
硬化した際の硬度も高いので、感光性樹脂製版材料ある
いはプリント配線板のレジストインキなど、水現像を行
なう分野の光硬化型樹脂として好適である。
ては、ロールコータ−1刷毛塗り、スクリーン印刷など
任意の塗工方法を採用することができ、水、メチルエチ
ルケトン、酢酸エチル、トルエンなどで希釈すれば、ス
プレー塗装を採用することもできる。しかし、本発明の
樹脂組成物はその組成によって無溶媒でも低粘度である
ので、溶剤の助けを借りずにそのまま塗布することがで
き、この場合には当然のことながら、光硬化させる前に
予備乾燥を行なう必要がない。そして1本発明の樹脂組
成物はガラス、銅張り積層板、鋼板などによく密着し、
硬化した際の硬度も高いので、感光性樹脂製版材料ある
いはプリント配線板のレジストインキなど、水現像を行
なう分野の光硬化型樹脂として好適である。
[実 施 例]
実施例1(単量体合成)
テトラヒドロフルフリルアルコール204g 、 ト
ルエン284g、ハイドロキノンモノメチルエーテル1
00mg、無水マレイン酸2.4gを含む溶液を加熱攪
拌し、空気を吹き込みなからN−メチロールアクリルア
ミド242gを含む60%水溶液を2時間かけて滴下共
沸脱水させ、脱水が終わるまで還流加熱を続けた。反応
時間6時間で最終反応温度は102℃であった。脱水量
は203gで、3%のホルムアルデヒドを含んでいた。
ルエン284g、ハイドロキノンモノメチルエーテル1
00mg、無水マレイン酸2.4gを含む溶液を加熱攪
拌し、空気を吹き込みなからN−メチロールアクリルア
ミド242gを含む60%水溶液を2時間かけて滴下共
沸脱水させ、脱水が終わるまで還流加熱を続けた。反応
時間6時間で最終反応温度は102℃であった。脱水量
は203gで、3%のホルムアルデヒドを含んでいた。
これは理論量のエーテル脱水量に相当する。
次いで芒硝20%を含む苛性ソーダ水溶液を加えて60
℃で中和すると、主としてトルエンからなる上層、生成
物を含む中層、アリカリ水溶液からなる下層に分かれる
ので、中層を分離した。
℃で中和すると、主としてトルエンからなる上層、生成
物を含む中層、アリカリ水溶液からなる下層に分かれる
ので、中層を分離した。
この中層にメチルエチルケトン150gを加え、20%
の芒硝水で水洗し、未反応のテトラヒドロフルフリルア
ルコール及びN−メチロールアクリルアミドを除き、油
分に含まれるトルエン、メチルエチルケトン、水を減圧
留去し、残油を濾別することにより、テトラヒドロフル
フリオキシメチルアクリルアミド352gを得た。この
ものの粘度は280cpsであって、トルエン、酢酸エ
チル、水に可溶であった。また、このものの元素分析及
びIR分析の結果は下記の通りであった。
の芒硝水で水洗し、未反応のテトラヒドロフルフリルア
ルコール及びN−メチロールアクリルアミドを除き、油
分に含まれるトルエン、メチルエチルケトン、水を減圧
留去し、残油を濾別することにより、テトラヒドロフル
フリオキシメチルアクリルアミド352gを得た。この
ものの粘度は280cpsであって、トルエン、酢酸エ
チル、水に可溶であった。また、このものの元素分析及
びIR分析の結果は下記の通りであった。
(イ)元素分析
(ロ)IR分析(KBr上液膜)
3420ロー1酸アミドのN−H伸縮振動1670 a
n−”酸アミドのC=O伸縮振動1640 cs−”ビ
ニル基CH2=CH−伸縮振動1540 al−”酸ア
ミドのN−H変角振動1400■−1ビニル基CH,=
CH−面内変角振動1085■−1エーテルC−0−C
伸縮振動実施例2(単量体合成) テトラヒドロフルフリルアルコール153g、トルエン
213g、ハイドロキノンモノメチルエーテル80o+
g、蓚酸2gを含む溶液に、N−メチロールアクリルア
ミド167gを含む75%水溶液を加え、空気を吹き込
みながら加熱攪拌して共沸脱水し、脱水が終わるまで還
流加熱を行なった。反応時間は5.5時間、最終反応温
度は98℃であった。
n−”酸アミドのC=O伸縮振動1640 cs−”ビ
ニル基CH2=CH−伸縮振動1540 al−”酸ア
ミドのN−H変角振動1400■−1ビニル基CH,=
CH−面内変角振動1085■−1エーテルC−0−C
伸縮振動実施例2(単量体合成) テトラヒドロフルフリルアルコール153g、トルエン
213g、ハイドロキノンモノメチルエーテル80o+
g、蓚酸2gを含む溶液に、N−メチロールアクリルア
ミド167gを含む75%水溶液を加え、空気を吹き込
みながら加熱攪拌して共沸脱水し、脱水が終わるまで還
流加熱を行なった。反応時間は5.5時間、最終反応温
度は98℃であった。
脱水量は83.5gで、2.5%のホルムアルデヒドを
含んでいた。これは理論量のエーテル脱水量の97.5
%に相当する。
含んでいた。これは理論量のエーテル脱水量の97.5
%に相当する。
次いで実施例1に準じた後処理を行ない、テトラヒドロ
フルフリオキシメチルアクリルアミド255gを得た。
フルフリオキシメチルアクリルアミド255gを得た。
このものの粘度は230cpsであり、元素分析及びI
R分析の結果は次の通りであった。
R分析の結果は次の通りであった。
(イ)元素分析
(ロ)IR分析(KBr上液膜)
実施例1と同じ吸収パターンであった。
実施例3
実施例1で得たテトラヒドロフルフリオキシメチルアク
リルアミドに、光重合開始剤ベンゾフェノン2%を溶か
し、これをガラス板に30μの厚さに塗り、80W/a
mのUVランプの下150mのところを毎分4mの速さ
で走るベルトコンベアに載せ、1回露光させると、塗工
面は直ちに流動性、粘着性を失い、合計4回の露光を行
なったところ、鉛筆硬度3Hの平滑な塗膜を得た。
リルアミドに、光重合開始剤ベンゾフェノン2%を溶か
し、これをガラス板に30μの厚さに塗り、80W/a
mのUVランプの下150mのところを毎分4mの速さ
で走るベルトコンベアに載せ、1回露光させると、塗工
面は直ちに流動性、粘着性を失い、合計4回の露光を行
なったところ、鉛筆硬度3Hの平滑な塗膜を得た。
この塗膜はクロスカット粘着テープ剥離試験でも剥がれ
ず、1−ルエンに浸しても変化がなく、また流水中に3
゛分間浸しても変化はなかった。
ず、1−ルエンに浸しても変化がなく、また流水中に3
゛分間浸しても変化はなかった。
しかし、塗膜の非露光部は瞬時に水に溶解流出した。
実施例4
テトラヒドロフルフリオキシメチルアクリルアミドに、
光重合開始剤ジェトキシアセトフェノン2%を溶かし、
これを鉄板に30μの厚さに塗り、実施例1と同様に露
光させると、2回の露光で塗工面は粘着性を失い、合計
5回の露光で鉛筆硬度3Hの平滑な塗膜を得た。この塗
膜はクロスカット粘着テープ剥離試験でも剥がれず、ト
ルエンに浸しても変化がなく、また流水中に3分間浸し
ても変化はなかった。
光重合開始剤ジェトキシアセトフェノン2%を溶かし、
これを鉄板に30μの厚さに塗り、実施例1と同様に露
光させると、2回の露光で塗工面は粘着性を失い、合計
5回の露光で鉛筆硬度3Hの平滑な塗膜を得た。この塗
膜はクロスカット粘着テープ剥離試験でも剥がれず、ト
ルエンに浸しても変化がなく、また流水中に3分間浸し
ても変化はなかった。
比較例1
水溶性のトリエチレングリコールメチルエーテルアクリ
レートに、ペンツフェノン2%を溶かし、これをガラス
板に厚さ30μで塗り、実施例4と同様、これに5回の
露光を行なった。得られた塗膜は鉛筆硬度B以下で粘着
性が残り、流水に30秒浸したところ軟化して一部が溶
解した。
レートに、ペンツフェノン2%を溶かし、これをガラス
板に厚さ30μで塗り、実施例4と同様、これに5回の
露光を行なった。得られた塗膜は鉛筆硬度B以下で粘着
性が残り、流水に30秒浸したところ軟化して一部が溶
解した。
比較例2
水溶性のアクリロイルモルホリンに、ペンツフェノン2
%を溶かし、これをガラス板に厚さ30μで塗り、実施
例4と同様、これに5回の露光を行なった。得られた塗
膜は鉛筆硬度3Hでガラス板によく密着したが、流水に
30秒浸したところ塗膜は一部溶解して発泡した。
%を溶かし、これをガラス板に厚さ30μで塗り、実施
例4と同様、これに5回の露光を行なった。得られた塗
膜は鉛筆硬度3Hでガラス板によく密着したが、流水に
30秒浸したところ塗膜は一部溶解して発泡した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記の〔 I 〕式で示されるテトラヒドロフルフリ
オキシメチルアクリルアミド。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 2、上記の〔 I 〕式で示されるテトラヒドロフルフリ
オキシメチルアクリルアミド及び光重合開始剤を含有す
る光硬化型樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32318087A JPH01163174A (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | テトラヒドロフルフリオキシメチルアクリルアミド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32318087A JPH01163174A (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | テトラヒドロフルフリオキシメチルアクリルアミド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01163174A true JPH01163174A (ja) | 1989-06-27 |
JPH0515709B2 JPH0515709B2 (ja) | 1993-03-02 |
Family
ID=18151963
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32318087A Granted JPH01163174A (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | テトラヒドロフルフリオキシメチルアクリルアミド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01163174A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0273810A (ja) * | 1988-09-08 | 1990-03-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性樹脂組成物 |
JP2002062548A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-02-28 | Toppan Printing Co Ltd | 磁気可視記録媒体の製造方法及び磁気可視記録媒体 |
JP2006096037A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-04-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | 隠蔽カードおよびその製造方法 |
JP2006096038A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-04-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | 隠蔽カードおよびその製造方法 |
-
1987
- 1987-12-18 JP JP32318087A patent/JPH01163174A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0273810A (ja) * | 1988-09-08 | 1990-03-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性樹脂組成物 |
JP2002062548A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-02-28 | Toppan Printing Co Ltd | 磁気可視記録媒体の製造方法及び磁気可視記録媒体 |
JP2006096037A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-04-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | 隠蔽カードおよびその製造方法 |
JP2006096038A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-04-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | 隠蔽カードおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0515709B2 (ja) | 1993-03-02 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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