JPH01159951A - 粒子線装置の像シフト回路 - Google Patents
粒子線装置の像シフト回路Info
- Publication number
- JPH01159951A JPH01159951A JP63277212A JP27721288A JPH01159951A JP H01159951 A JPH01159951 A JP H01159951A JP 63277212 A JP63277212 A JP 63277212A JP 27721288 A JP27721288 A JP 27721288A JP H01159951 A JPH01159951 A JP H01159951A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- current
- coil
- image shift
- particle beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 8
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 7
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1472—Deflecting along given lines
- H01J37/1474—Scanning means
- H01J37/1475—Scanning means magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、粒子線装置の（ｇ率に無関係な像シフトの
ための回路に関するものである。
ための回路に関するものである。
走査電子顕微鏡による試料の拡大撮像のためには試料の
表面が行ごとに電子線により走査される。
表面が行ごとに電子線により走査される。
電子線により試料から二次電子が放出され、その数はな
かんずく衝突個所における材料組成および表面構造に関
係する。試料から放出されて材料およびトポグラフィコ
ントラストにより変言周された二次電子流の大きさは検
出器により測定され、その出力信号が電子線と同期して
偏向されるモニタの書込みビームの強度を制御する。
かんずく衝突個所における材料組成および表面構造に関
係する。試料から放出されて材料およびトポグラフィコ
ントラストにより変言周された二次電子流の大きさは検
出器により測定され、その出力信号が電子線と同期して
偏向されるモニタの書込みビームの強度を制御する。
走査電子顕微鏡内では、比率
Ｖ＝（モニタスクリーン上の行の長さ）／（試料表面上
の行の長さ） （１）により定義され、また
偏向コイルを流れる電流により設定され得る倍率■が何
桁にもわたっている。
の行の長さ） （１）により定義され、また
偏向コイルを流れる電流により設定され得る倍率■が何
桁にもわたっている。
偏向電流、従ってまた倍率を所望の範囲内で選定し得る
ように、一般に、多段に切換可能な測定抵抗から信号を
導き出す負帰還された電流増幅器が使用される。電気的
な像シフト、すなわち試料表面上の走査場のシフトのた
めには、偏向コイルの場に設定可能な定常場が重畳され
なければならない。所望の定常場を電流増幅器の入力端
に直流電圧を加えることにより発生する最も簡単な方法
は、像シフトがそれぞれ設定された倍率■に関係すると
いう欠点を有する。従って、公知の装置では、直流電圧
またはその供給を測定抵抗の切換のつと相応に変更する
必要がある。このことは技術的に費用がかかり、また常
に正確に実行可能ではなく、従って跳躍的な像シフトが
倍率の切換の際に生ずる。
ように、一般に、多段に切換可能な測定抵抗から信号を
導き出す負帰還された電流増幅器が使用される。電気的
な像シフト、すなわち試料表面上の走査場のシフトのた
めには、偏向コイルの場に設定可能な定常場が重畳され
なければならない。所望の定常場を電流増幅器の入力端
に直流電圧を加えることにより発生する最も簡単な方法
は、像シフトがそれぞれ設定された倍率■に関係すると
いう欠点を有する。従って、公知の装置では、直流電圧
またはその供給を測定抵抗の切換のつと相応に変更する
必要がある。このことは技術的に費用がかかり、また常
に正確に実行可能ではなく、従って跳躍的な像シフトが
倍率の切換の際に生ずる。
本発明の課題は、冒頭に記載した種類の回路であって、
像シフトが選択された倍率に無関係である回路を提供す
ることである。
像シフトが選択された倍率に無関係である回路を提供す
ることである。
この課題は、入力側に粒子線を偏向させるための時間と
共に変化する信号を与えられており、また出力信号を粒
子線装置の偏向ユニットの入力端に与える負帰還された
電流増幅器と、入力端で偏向ユニシトの出力端と接続さ
れている電流増幅器の増幅率を変更するための回路とを
有する像シフト回路において、定電流源が設けられてお
り、その電流が偏向ユニットの出力端と増幅率を変更す
るための回路の入力端との間の接続点に供給されること
によって解決される。
共に変化する信号を与えられており、また出力信号を粒
子線装置の偏向ユニットの入力端に与える負帰還された
電流増幅器と、入力端で偏向ユニシトの出力端と接続さ
れている電流増幅器の増幅率を変更するための回路とを
有する像シフト回路において、定電流源が設けられてお
り、その電流が偏向ユニットの出力端と増幅率を変更す
るための回路の入力端との間の接続点に供給されること
によって解決される。
請求項１による回路の有利な構成は請求項２ないし５に
あげられている。
あげられている。
本発明により得られる利点は特に、倍率の切換の際の跳
躍的な像シフトが回避されることにある。
躍的な像シフトが回避されることにある。
“ 〔実施例〕
以下、図面により本発明を一層詳細に説明する。
第２図に概要を示されている走査電子顕微鏡の倍率に無
関係な像シフトのための回路は負帰還された電流増幅器
、試料ＰＲ上での電子線ＰＥの偏向のためのコイル対Ｓ
Ｃ１試料表面上の走査場ＲＦの大きさを設定するための
スイッチＳ１を介して選択可能な複数個の測定抵抗ＲＭ
および電圧源Ｕｖを含んでおり、電圧源Ｕｖの外部から
設定可能な直流電圧が抵抗Ｒｖの１つを介して演算増幅
器０■の反転入力端に与えられているのこぎり波状偏向
信号Ｕｓに重畳される。電子線の進行路に偏向ユニット
により生ずる磁場が試料表面上の電子線ＰＥの偏向を決
定するので、走査場ＲＦの大きさは矢印により示されて
いる方向にコイルＳＣを流れる電流を介して設定され得
る。その際に電流ｉの大きさに対しては関係式 ％式％： が成り立つ。ここでｉｓはコイル場により予め定められ
る方向の走査場ＲＦの大きさを、またｉＢは電圧源Ｕｖ
を介して設定可能な偏向方向の像シフト、すなわち試料
ＰＲ上の走査場ＲＦの位置を定める。式（２）に示され
ているように、像シフトを生じさせる直流電流ｉＢはス
イッチＳ１を介して選択される測定抵抗ＲＭにも関係す
る。倍率■、すなわちそのつどの測定抵抗Ｒ９に無関係
な像シフトを保証するためには、抵抗ＲｖをスイッチＳ
１に結合されているスイッチＳ２により倍率変更の際に
、積Ｒｖ −Ｒイ、従ってまた直流電流ｉＢが予め定め
られた値を維持するように切換える必要がある。
関係な像シフトのための回路は負帰還された電流増幅器
、試料ＰＲ上での電子線ＰＥの偏向のためのコイル対Ｓ
Ｃ１試料表面上の走査場ＲＦの大きさを設定するための
スイッチＳ１を介して選択可能な複数個の測定抵抗ＲＭ
および電圧源Ｕｖを含んでおり、電圧源Ｕｖの外部から
設定可能な直流電圧が抵抗Ｒｖの１つを介して演算増幅
器０■の反転入力端に与えられているのこぎり波状偏向
信号Ｕｓに重畳される。電子線の進行路に偏向ユニット
により生ずる磁場が試料表面上の電子線ＰＥの偏向を決
定するので、走査場ＲＦの大きさは矢印により示されて
いる方向にコイルＳＣを流れる電流を介して設定され得
る。その際に電流ｉの大きさに対しては関係式 ％式％： が成り立つ。ここでｉｓはコイル場により予め定められ
る方向の走査場ＲＦの大きさを、またｉＢは電圧源Ｕｖ
を介して設定可能な偏向方向の像シフト、すなわち試料
ＰＲ上の走査場ＲＦの位置を定める。式（２）に示され
ているように、像シフトを生じさせる直流電流ｉＢはス
イッチＳ１を介して選択される測定抵抗ＲＭにも関係す
る。倍率■、すなわちそのつどの測定抵抗Ｒ９に無関係
な像シフトを保証するためには、抵抗ＲｖをスイッチＳ
１に結合されているスイッチＳ２により倍率変更の際に
、積Ｒｖ −Ｒイ、従ってまた直流電流ｉＢが予め定め
られた値を維持するように切換える必要がある。
走査電子顕微鏡の倍率に無関係な像シフトのための本発
明による１つの回路が第１図に概要を示されている。こ
の回路は、その反転入力端にのこぎり波状の偏向信号Ｕ
、を与えられている負帰還された演算増幅器○■と、エ
ル、ライマー（Ｌ、Ｒｅｉｍｅｒ）著「走査電子顕微鏡
（ＳｃａｎｎｉｎｇｌＥＩｅｃｔｒｏｎ門１ｃｒｏｓｃ
ｏｐｙ） 」、スブリンガー・光科学シリーズ、第４５
巻、第３６〜４０頁、特に第３８頁、第２゜１８図から
公知であり、コイル電流により予め定められた試料表面
上の走査場ＲＦのなかで電子線ＰＥを偏向させるための
コイル対ＳＣと、機械的または電子的スイッチＳを介し
て選択可能な複数個の測定抵抗ＲＭと、電圧ａ、Ｕｖお
よび電圧−電流変換器Ｗから成っており像シフトを生じ
させる直流電流１゜をコイルＳＣとそのつどの測定抵抗
Ｒ８との間の接続点Ｐに供給する１つの調節可能な定電
流源とを含んでいる。コイルＳＣを通って、式 ％式％： により大きさを表される電流ｉが流れる。ここでｉ、は
再び走査場ＲＦの大きさを、また１゜は試料表面上のそ
の位置を定める。直流電流１゜と時間と共に変化する電
流ｊ、とを加えることは許容し得る。なぜならば、点Ｐ
の電位Ｕ＠−（ＲＭ／ＲＭ）Ｕ、（ｔ）は増幅器ＯＶ（
演算増幅器０■の加算点ＳＰは、時間と共に変化する入
力信号ＵＳ（１）にもかかわらず、仮想接地電位にある
）の負帰還に基づいて直流電圧成分を含んでいないから
である。このことは、電流ｉ。が抵抗Ｒ８およびＲｒを
経ずにコイルＳＣを経てのみ演算増幅器Ｏｖの出力端に
流れ得ることを意味する。この過程は、スイッチＳを介
して選択された測定抵抗Ｒ。
明による１つの回路が第１図に概要を示されている。こ
の回路は、その反転入力端にのこぎり波状の偏向信号Ｕ
、を与えられている負帰還された演算増幅器○■と、エ
ル、ライマー（Ｌ、Ｒｅｉｍｅｒ）著「走査電子顕微鏡
（ＳｃａｎｎｉｎｇｌＥＩｅｃｔｒｏｎ門１ｃｒｏｓｃ
ｏｐｙ） 」、スブリンガー・光科学シリーズ、第４５
巻、第３６〜４０頁、特に第３８頁、第２゜１８図から
公知であり、コイル電流により予め定められた試料表面
上の走査場ＲＦのなかで電子線ＰＥを偏向させるための
コイル対ＳＣと、機械的または電子的スイッチＳを介し
て選択可能な複数個の測定抵抗ＲＭと、電圧ａ、Ｕｖお
よび電圧−電流変換器Ｗから成っており像シフトを生じ
させる直流電流１゜をコイルＳＣとそのつどの測定抵抗
Ｒ８との間の接続点Ｐに供給する１つの調節可能な定電
流源とを含んでいる。コイルＳＣを通って、式 ％式％： により大きさを表される電流ｉが流れる。ここでｉ、は
再び走査場ＲＦの大きさを、また１゜は試料表面上のそ
の位置を定める。直流電流１゜と時間と共に変化する電
流ｊ、とを加えることは許容し得る。なぜならば、点Ｐ
の電位Ｕ＠−（ＲＭ／ＲＭ）Ｕ、（ｔ）は増幅器ＯＶ（
演算増幅器０■の加算点ＳＰは、時間と共に変化する入
力信号ＵＳ（１）にもかかわらず、仮想接地電位にある
）の負帰還に基づいて直流電圧成分を含んでいないから
である。このことは、電流ｉ。が抵抗Ｒ８およびＲｒを
経ずにコイルＳＣを経てのみ演算増幅器Ｏｖの出力端に
流れ得ることを意味する。この過程は、スイッチＳを介
して選択された測定抵抗Ｒ。
に無関係であり、従ってまた選択された倍率■に無関係
である。
である。
第１図による回路の抵抗はたとえば下記の値であってよ
い。
い。
Ｒｅ＝ＩＭΩ
Ｒｒ＝１００にΩ
ＲＭ＝１Ωないし１００にΩ
第１図の回路では走査場は矢印により示されている方向
にのみずらされ得る。任意の方向の走査場のシフトのた
めには、上記の回路に相応して構成された９０°だけ回
転されたコイル対を有する第２の回路が必要である。
にのみずらされ得る。任意の方向の走査場のシフトのた
めには、上記の回路に相応して構成された９０°だけ回
転されたコイル対を有する第２の回路が必要である。
本発明はもちろん上記の実施例に制限されていない。た
とえば、負帰還された演算増幅器ＯＶは他の電流増幅器
によって置換され得る。さらに、測定抵抗Ｒ８の代わり
に電子的抵抗要素、たとえばＭＯＳＦＥＴも使用され得
る。
とえば、負帰還された演算増幅器ＯＶは他の電流増幅器
によって置換され得る。さらに、測定抵抗Ｒ８の代わり
に電子的抵抗要素、たとえばＭＯＳＦＥＴも使用され得
る。
本発明による回路は走査電子顕微鏡のほかに、もちろん
、電子線測定装置および走査イオン顕微鏡にも使用され
得る。
、電子線測定装置および走査イオン顕微鏡にも使用され
得る。
第１図は走査電子顕微鏡の倍率に無関係な像シフトのた
めの本発明による回路の原理回路図、第２図は走査電子
顕微鏡の像シフトのための公知の回路の原理回路図であ
る。 ｉ・・・コイル電流 ｉｏ・・・走査場ＲＦのシフトのための電流ＯＶ・・・
電流増幅器 ＰＥ・・・粒子線 ＰＲ・・・試料 ＲＭ、ＲＭ、ＲＭ、Ｒｖ・・・抵抗 ＲＦ・・・偏向場 ＳＣ・・・偏向コイル Ｓ、３１．．３２・・・スイッチ ＳＰ・・・加算点 Ｕａ・・・出力電圧 ０■ ＵＳ・・・入力信号 ０Ｖ Ｕｖ・・・電圧源 Ｗ・・・電圧−電流変換器
めの本発明による回路の原理回路図、第２図は走査電子
顕微鏡の像シフトのための公知の回路の原理回路図であ
る。 ｉ・・・コイル電流 ｉｏ・・・走査場ＲＦのシフトのための電流ＯＶ・・・
電流増幅器 ＰＥ・・・粒子線 ＰＲ・・・試料 ＲＭ、ＲＭ、ＲＭ、Ｒｖ・・・抵抗 ＲＦ・・・偏向場 ＳＣ・・・偏向コイル Ｓ、３１．．３２・・・スイッチ ＳＰ・・・加算点 Ｕａ・・・出力電圧 ０■ ＵＳ・・・入力信号 ０Ｖ Ｕｖ・・・電圧源 Ｗ・・・電圧−電流変換器
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）粒子線装置の倍率に無関係な像シフトのための回路
であって、入力側に粒子線（ＰＥ）を偏向させるための
時間と共に変化する信号（Ｕ＿Ｓ）を与えられており、
また出力信号を粒子線装置の偏向ユニット（ＳＣ）の入
力端に与える負帰還された電流増幅器（ＯＶ）と、入力
端で偏向ユニット（ＳＣ）の出力端と接続されている電
流増幅器（ＯＶ）の増幅率（Ｖ）を変更するための回路
（Ｓ、Ｒ＿Ｍ）とを有する像シフト回路において、定電
流源（Ｕ＿Ｖ、Ｗ）が設けられており、その電流（ｉ＿
ｏ）が偏向ユニット（ＳＣ）の出力端と増幅率（Ｖ）を
変更するための回路（Ｓ、Ｒ＿Ｍ）の入力端との間の接
続点（Ｐ）に供給されることを特徴とする粒子線装置の
像シフト回路。 ２）電流増幅器として演算増幅器（ＯＶ）が設けられて
いることを特徴とする請求項１記載の回路。 ３）１つのスイッチ（Ｓ）を介して選択可能な複数の抵
抗要素（Ｒ＿Ｍ）が増幅率（Ｖ）を変更するための回路
として設けられていることを特徴とする請求項１または
２記載の回路。 ４）定電流源として電圧源（Ｕ＿Ｖ）および電圧−電流
変換器（Ｗ）が設けられていることを特徴とする請求項
１ないし３の１つに記載の回路。 ５）偏向ユニットとしてコイル対（ＳＣ）が設けられて
いることを特徴とする請求項１ないし４の１つに記載の
回路。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3737287.4 | 1987-11-03 | ||
| DE3737287 | 1987-11-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01159951A true JPH01159951A (ja) | 1989-06-22 |
Family
ID=6339683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63277212A Pending JPH01159951A (ja) | 1987-11-03 | 1988-11-01 | 粒子線装置の像シフト回路 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4891523A (ja) |
| EP (1) | EP0314947A1 (ja) |
| JP (1) | JPH01159951A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040189292A1 (en) * | 2003-03-25 | 2004-09-30 | Kautz David R. | Mechanism for and method of biasing magnetic sensor |
| DE102006035793B8 (de) * | 2006-07-28 | 2011-01-05 | Global Beam Technologies Ag | Elektronenstrahlanlage zur Materialbearbeitung und Stromaddieranordnung zur schnellen Ansteuerung einer Induktivität |
| CN109030404B (zh) * | 2018-08-24 | 2020-09-18 | 代广斌 | 一种基于射频电子学方法的散射式太赫兹近场显微镜 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2149107C3 (de) * | 1971-09-28 | 1975-05-15 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Steuer- und Regeleinrichtung für den in elektromagnetische Spulen von Korpuskularstrahlgeräten eingespeisten Strom |
| GB1441824A (en) * | 1973-04-19 | 1976-07-07 | Cambridge Scientific Instr Ltd | Scanning electronbeam instrument |
| US4063091A (en) * | 1976-10-18 | 1977-12-13 | American Optical Corporation | High speed switching circuit |
| US4125772A (en) * | 1977-10-13 | 1978-11-14 | American Optical Corporation | Scanning electron microscope with eddy-current compensation |
| JPS5773573A (en) * | 1980-10-24 | 1982-05-08 | Jeol Ltd | Electronic beam scanning circuit |
| JPS5834552A (ja) * | 1981-08-25 | 1983-03-01 | Jeol Ltd | 静電偏向回路 |
| JPS5986142A (ja) * | 1982-11-05 | 1984-05-18 | Jeol Ltd | 電子線偏向回路 |
| JPS59124719A (ja) * | 1982-12-29 | 1984-07-18 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム露光装置 |
| JPS59165358A (ja) * | 1983-03-11 | 1984-09-18 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
| JPS59214149A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-04 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡の電子ビ−ム偏向装置 |
-
1988
- 1988-10-12 EP EP88116930A patent/EP0314947A1/de not_active Withdrawn
- 1988-10-21 US US07/260,581 patent/US4891523A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-01 JP JP63277212A patent/JPH01159951A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0314947A1 (de) | 1989-05-10 |
| US4891523A (en) | 1990-01-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4841191A (en) | Piezoelectric actuator control apparatus | |
| JPS6255264B2 (ja) | ||
| US4498039A (en) | Instrument for use with an electrochemical cell | |
| JPH01159951A (ja) | 粒子線装置の像シフト回路 | |
| US5808425A (en) | Method for controlling the emission current of an electron source and an electron source having a control circuit for controlling the emission current | |
| US10847344B2 (en) | Charged particle beam control device | |
| JP5438161B2 (ja) | Ｄａ変換装置 | |
| US3421044A (en) | Method and means for selecting character inclination in cathode ray tube displays | |
| US3757120A (en) | Etic coils of corpusular beam apparatus control and regulating arrangement for the current fed to electromagn | |
| JP3135908B2 (ja) | 電圧―電流変換回路 | |
| JP3216753B2 (ja) | Ｄ−ａ変換回路装置 | |
| JPS5647169A (en) | Electron beam deflector | |
| JP3332660B2 (ja) | 電気量測定装置 | |
| US4280088A (en) | Reference voltage source | |
| SU959187A1 (ru) | Формирователь тока электромагнитной развертки | |
| US20200020503A1 (en) | Deflection Scanning Device with Multi-phase Winding and Deflection Scanning System | |
| JPH0560828A (ja) | 陰極線管のカソード特性測定装置 | |
| JP4112828B2 (ja) | 電気量発生装置 | |
| CN115457892A (zh) | 振镜驱动电路及投影设备 | |
| SU773608A1 (ru) | Источник питани посто нного тока | |
| KR830002362B1 (ko) | 전자선 편향장치 | |
| Mashino | Voltage regulator for generator used in automobile | |
| JP2000003691A (ja) | 荷電粒子線偏向装置、荷電粒子線の偏向方法および荷電粒子線装置 | |
| JPH0260042A (ja) | 荷電粒子線応用装置の駆動電源 | |
| JPS61112478A (ja) | 電磁集束型撮像管の駆動装置 |