JPH01158952U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の第１実施例の斜視図、第２図
は第１実施例の使用方法を示す平面図、第３図は
本考案の第２実施例を示す斜視図、第４図は本考
案の第３実施例を示す斜視図、第５図は第４図の
Ｖ−Ｖ線断面図である。 １０……光軸調整治具、１２……治具本体、１
４……標準試料部、１６，１８……基準平面、２
２……貫通穴、２４……入射Ｘ線、２８……発散
スリツト。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 Ｘ線回折装置のゴニオメータの試料台に光軸調
   整治具を取り付けたときに前記光軸調整治具の基
   準平面が、前記試料台の回転軸線を含む平面内に
   位置決めされるように構成された光軸調整治具に
   おいて、次の構成を有することを特徴とする光軸
   調整治具。 (イ) この光軸調整治具は治具本体と標準試料部
   とからなる。 (ロ) 前記治具本体は貫通穴を有し、この貫通穴
   の断面寸法は、前記Ｘ線回折装置の発散スリツト
   を通過して前記試料台のところにやつて来るすべ
   ての入射Ｘ線を通過させ得るほど十分な大きさと
   されている。 (ハ) 前記標準試料部は前記貫通穴を覆うように
   前記治具本体に固定されている。 (ニ) 前記標準試料部の厚さは、前記入射Ｘ線の
   少なくとも一部が透過できる程度に、薄くされて
   いる。 (ホ) 前記基準平面は、前記治具本体および前記
   標準試料部のいずれかに形成されている。