JPH01153263A - Device for polishing back of optical disk molding stamper - Google Patents

Device for polishing back of optical disk molding stamper

Info

Publication number
JPH01153263A
JPH01153263A JP62307958A JP30795887A JPH01153263A JP H01153263 A JPH01153263 A JP H01153263A JP 62307958 A JP62307958 A JP 62307958A JP 30795887 A JP30795887 A JP 30795887A JP H01153263 A JPH01153263 A JP H01153263A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stamper
polishing pad
polishing
glass substrate
groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP62307958A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0722892B2 (en
Inventor
Tokuo Okabayashi
岡林 徳雄
Ichiji Takahashi
高橋 一司
Satoshi Iguchi
聡 井口
Hiroaki Kono
光野 浩昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Chemical Industries Ltd filed Critical Daicel Chemical Industries Ltd
Priority to JP62307958A priority Critical patent/JPH0722892B2/en
Publication of JPH01153263A publication Critical patent/JPH01153263A/en
Publication of JPH0722892B2 publication Critical patent/JPH0722892B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable the back of a stamper to be polished always under the true plane condition as the stamper is left in intimate contact with a glass substrate, by forming a groove for receiving a center holding washer in the optical disk molding stamper on the surface of a pad. CONSTITUTION:A polishing pad 21 is formed in the approximately intermediate position between the outer peripheral edge OD and inner peripheral edge ID on the surface of said pad with a groove 22. The polishing pad 21 is rotated with low speed in the direction of arrow as a shaft 26 is rotated with a central washer 24 of a stamper 23 with a glass substrate being fitted in the groove 22. By the rotation of said pad 21 is rotated the stamper 23 about its own axis in the direction of arrow B while revolved in the direction of arrow A to polish the back of stamper. Then, the outer peripheral portion of stamper 23 is protruded by a predetermined dimensions d1, d2 from the inner and outer side end edges ID, OD of polishing pad 21, so that the whole stamper 23 can be polished to the uniform thickness by the polishing pad 21 even if the stamper 23 has a warp.

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は光ディスク基板成形用スタンパの製造装置に関
するものであり、特に、追記型(DRAWまたはl!l
OR!、()光ディスク、書替え可能型(B−ORAI
iiまたはイレーザブル)光ディスク等の光ディスクの
基板(サブストレート)として用いられるプラスチック
ディスク基板の成形用スタンパの裏面研磨装置に関する
ものである。本発明は主として上記のような精密度の高
い光ディスク基板用のスタンパの裏面研磨に用いられる
が、当然ながら、精密度が相対的に低い読み取り専用(
ROM)型光ディスク基板用のス゛タンパの裏面研磨に
用いることもできる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to a manufacturing apparatus for a stamper for molding an optical disk substrate, and particularly for a write-once type (DRAW or l!l) stamper manufacturing apparatus.
OR! , () Optical disc, rewritable type (B-ORAI
The present invention relates to a back polishing apparatus for a stamper for molding a plastic disk substrate used as a substrate for an optical disk such as an optical disk (or erasable). The present invention is mainly used for polishing the back surface of a stamper for optical disk substrates with high precision as described above, but of course, the present invention is used only for read-only (read-only) stampers with relatively low precision.
It can also be used for polishing the back surface of a stamper for a ROM (ROM) type optical disk substrate.

従来の技術 従来一般に用いられている光ディスク成形用スタンパの
製造プロセスを第3図(a)〜(d)を用いて説明する
。先ず、第3図(a)に示すように、ガラス基板11の
表面上に7オトレジスト12を塗布し、このレジスト1
2上にレーザーカッティングマシン等を用いて情報ある
いは信号を微細レリーフパターン12′として形成する
(第3図(b))  (実際には、露光−現像一定着一
末露光部分の洗浄除去等の工程があるが、図では最終レ
リーフパターンのみを示しである)。こうして得られた
ガラス原盤10の表面に導電化皮膜13を形成(第3図
(C))  した後、電鋳法、蒸着法等により金属例え
ば、ニッケルの皮膜14を形成(第3図(d))  L
、これら導電化皮膜13および金属皮膜14を一体とし
てガラス原盤10から剥離する。このようにして製造さ
れたスタンパは次いで、スタンパの厚味を精密に微細調
整するためにスタンパの裏面を研磨する。
2. Description of the Related Art The manufacturing process of a stamper for molding an optical disk, which has been commonly used in the past, will be explained with reference to FIGS. 3(a) to 3(d). First, as shown in FIG. 3(a), a photoresist 12 is coated on the surface of a glass substrate 11, and this resist 1
2, information or signals are formed as a fine relief pattern 12' using a laser cutting machine or the like (Fig. 3(b)). (However, only the final relief pattern is shown in the figure). After forming a conductive film 13 on the surface of the glass master 10 obtained in this way (FIG. 3(C)), a film 14 of metal such as nickel is formed by electroforming, vapor deposition, etc. (FIG. 3(d)). )) L
Then, the conductive film 13 and the metal film 14 are peeled off from the glass master 10 as one body. The back surface of the stamper manufactured in this manner is then polished in order to precisely fine-tune the thickness of the stamper.

実際には、上記金属皮膜14、例えば、ニッケル皮膜を
電鋳法、蒸着法等で形成する際に、ガラス原盤lOを支
持体上に支持しておかなければならないので、一般には
、第4図に示すように、支柱30の先端から突出したネ
ジと螺合するナツト31と、ワッシャ32によってガラ
ス原盤10を支持している。
In reality, when forming the metal film 14, for example, a nickel film, by electroforming, vapor deposition, etc., the glass master disk 1O must be supported on a support, so generally, as shown in FIG. As shown in FIG. 2, the glass master 10 is supported by a washer 32 and a nut 31 that is engaged with a screw protruding from the tip of the support 30.

電鋳法の場合には上記ワッシャ32は一般に電極の役目
をしている。しかし、スタンパの中央部に上記ワッシャ
32が一体化されていると精密な研磨ができないので、
研磨の前にワッシャ部32を取り除いてから研磨をして
いる。
In the case of electroforming, the washer 32 generally serves as an electrode. However, if the washer 32 is integrated in the center of the stamper, precise polishing cannot be performed.
Before polishing, the washer portion 32 is removed before polishing.

発明が解決しようとする問題点 一般に、上記の研磨は手作業で行うか、自動研磨装置で
行う。しかし、スタンパは厚さが1mm以下と薄いため
、サンドペーパー等による手作業でのスタンパの裏面研
磨では面精度が出す、応力によってスタンパが変形した
り、加工する人の個人差によってスタンパの厚味が変動
してしまうという欠点の他に、生産性が低いという欠点
がある。
Problems to be Solved by the Invention Generally, the above-mentioned polishing is performed manually or by an automatic polishing device. However, because the stamper is thin (less than 1 mm thick), manual polishing of the back side of the stamper with sandpaper or the like may result in poor surface accuracy, the stamper may be deformed due to stress, or the thickness of the stamper may vary due to individual differences in the number of people working on the stamper. In addition to the disadvantage of fluctuations in production, the disadvantage is that productivity is low.

そのため、ガラス原盤10から剥離しない状態でスタン
パの裏面を研磨することが提案されているが、この場合
には、上記ワッシャ部を取り除かないと自動研磨装置に
かからない。そこで、従来は、ガラス原板からスタンパ
を剥がし、上記ワッシャ部を一旦取り除いた後に、再度
スタンパをガラス原板に接着して自動研磨装置にかけて
いた。しかし、この方法では上記の接着時にスタンパと
ガラス原板との間に空気が入り、面精度が出ない上に、
接着手段が複雑になり、生産性も上がらない等の問題点
があった。
Therefore, it has been proposed to polish the back surface of the stamper without peeling it off from the glass master disk 10, but in this case, the stamper cannot be applied to an automatic polishing device unless the washer portion is removed. Therefore, conventionally, the stamper was peeled off from the glass original plate, the washer portion was once removed, and then the stamper was bonded to the glass original plate again and subjected to an automatic polishing machine. However, with this method, air enters between the stamper and the original glass plate during bonding, resulting in poor surface accuracy.
There were problems such as the adhesive means becoming complicated and productivity not increasing.

こうした従来法の欠点を改良するために、本出願人は昭
和62年11月10日付の発明の名称= 「光ディスク
成形用スタンパの裏面研磨装置」と題する特許出願にお
いて、スタンパが形成されたガラス基板が中心部取付は
具によって支持体に取り付けられた状態で上記スタンパ
の裏面を研磨パッドによって研磨するための光ディスク
形成用スタンパの裏面研磨装置において、上記中心部取
付は具と接触する部分に対応する研磨パッドの表面上に
上記中心部取付は具を収容するための溝を形成すること
を提案した。
In order to improve these drawbacks of the conventional method, the present applicant has proposed a patent application dated November 10, 1986 entitled "Reverse Polishing Apparatus for a Stamper for Molding Optical Disk" on a glass substrate on which a stamper is formed. In a back polishing device for a stamper for forming an optical disk, the back side of the stamper is polished by a polishing pad while the stamper is attached to a support by a tool, and the center attachment corresponds to the part that comes into contact with the tool. The central attachment proposed forming a groove on the surface of the polishing pad for accommodating the tool.

しかし、その後の研究の結果、電鋳時に生じる内部応力
のために、ロットによってはスタンパが形成されたガラ
ス基板が反ることがわかった。
However, subsequent research revealed that depending on the lot, the glass substrate on which the stamper was formed warped due to internal stress generated during electroforming.

すなわち、電鋳時によりスタンパきなる金属皮膜14を
形成する際には、析出金属の内部応力が最少になるよう
に操作条件を設定するが、電鋳浴の温度は一般に約50
℃近辺に設定される。そのため、電鋳後にスタンパが形
成されたガラス基板11を電鋳浴から約25℃の室温中
に取り出すと、ガラス基板11と金属皮膜14との熱膨
張率の相違によりいわゆるバイメタル効果で全体が反っ
てしまう。従って、この状態のスタンパ14が形成され
たガラス基板11を自動研磨装置にかけると、第5図に
示すような状態で自動研磨装置のクランプに取り付けら
れるため、得られたスタンパ14の内周部分と外周部分
とでスタンパ14の厚さが変化してしまう。
That is, when forming the metal film 14 that is stamped during electroforming, the operating conditions are set so that the internal stress of the deposited metal is minimized, but the temperature of the electroforming bath is generally about 50°C.
It is set around ℃. Therefore, when the glass substrate 11 on which the stamper is formed after electroforming is taken out of the electroforming bath into a room temperature of approximately 25°C, the entire body warps due to the so-called bimetal effect due to the difference in thermal expansion coefficient between the glass substrate 11 and the metal film 14. It ends up. Therefore, when the glass substrate 11 on which the stamper 14 is formed in this state is placed in an automatic polishing machine, it is attached to the clamp of the automatic polishing machine in the state shown in FIG. The thickness of the stamper 14 changes between the outer peripheral portion and the outer peripheral portion.

従って、本発明の目的はスタン/jをガラス原盤10か
ら剥離しない状態で自動研磨装置でスタンパ裏面を研磨
する際の上記の問題点を解決することにある。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems when polishing the back surface of a stamper using an automatic polishing device without peeling the stamp/j from the glass master disk 10.

問題点を解決するための手段 上記問題を解決するために本発明の光ディスク成形用ス
タンパの裏面研磨装置はスタンパが形成されたガラス基
板が中心部取付は具によって支持体に取り付けられた状
態で上記スタンパの裏面を研磨パッドによって研磨する
ための光ディスク形成用スタンパの裏面研磨装置におい
て、上記中心部取付は具と接触する部分に対応する研磨
パッドの表面上に上記中心部取付は具を収容するための
溝が形成されており、且つ 上記スタンパの外周部分と接触する研磨パッドの少なく
とも一部が除去されていることを特徴としている。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the back polishing apparatus for a stamper for optical disk molding of the present invention is provided with a glass substrate on which a stamper is formed, which is attached to the support body by a central attachment tool. In an apparatus for polishing the back surface of a stamper for forming an optical disc for polishing the back surface of the stamper with a polishing pad, the central portion is mounted on the surface of the polishing pad corresponding to the portion that comes into contact with the tool, and the center portion is mounted on the surface of the polishing pad to accommodate the tool. A groove is formed therein, and at least a portion of the polishing pad that contacts the outer peripheral portion of the stamper is removed.

一般に、上記中心部取付は具はネジ−ワッシャーによっ
て構成されている。また、上記スタンパはガラス基板の
表面にフォトレジストを塗布し、このフォトレジスト上
に微細レリーフパターンを形成したガラス原盤に金属皮
膜を形成して作られる。上記の微細レリーフパターンは
一般にレーザーカッティングによっておこなわれる。
Generally, the central attachment device consists of screws and washers. Further, the stamper is manufactured by applying a photoresist to the surface of a glass substrate and forming a metal film on a glass master disk on which a fine relief pattern is formed on the photoresist. The above-mentioned fine relief pattern is generally created by laser cutting.

本発明は、上記金属皮膜は電鋳法によって形成される場
合に好適に用いることができるが、蒸着等の他の任意の
金属皮膜形成法によって作ったものにも応用することが
できる。
The present invention can be suitably used when the metal film is formed by electroforming, but it can also be applied to metal films made by any other metal film forming method such as vapor deposition.

好ましくは、上記微細レリーフパターンを形成したガラ
ス原盤上に予め導電化皮膜を形成してから上記電鋳法に
よって上記金属皮膜を形成する。
Preferably, a conductive film is previously formed on the glass master disk on which the fine relief pattern is formed, and then the metal film is formed by the electroforming method.

自動研磨装置自体としては周知の任意のものを用いるこ
とができるが、一般には自転する研磨パッドに、ガラス
原板上に形成したスタンパを当接させ、後者を研磨パッ
ドの自転運動によってつれまわりさせる、すなわち、自
公転させる。この際の研磨パッドの自転速度は一般に1
100rp程度である。研磨パッドとしては一般にガラ
ス研磨に用いられているウレタンパッド等を用いること
ができる。
As the automatic polishing device itself, any well-known device can be used, but generally, a stamper formed on a glass original plate is brought into contact with a rotating polishing pad, and the latter is rotated by the rotational movement of the polishing pad. In other words, it revolves around itself. The rotation speed of the polishing pad at this time is generally 1
It is about 100 rpm. As the polishing pad, a urethane pad or the like that is generally used for glass polishing can be used.

本発明による上記の溝は上記中心部取付は具が収容でき
るだけの巾と深さを有していればよい。
The groove according to the present invention may have a width and depth sufficient to accommodate the centrally attached tool.

例えば、中心部取付は具のワッシャーの直径が20mm
の場合には、上記の溝の巾も約20mmにすればよい。
For example, for center installation, the diameter of the washer on the tool is 20mm.
In this case, the width of the groove may also be approximately 20 mm.

本願発明の好ましい一実施例による裏面研磨装置は、自
転する研磨パッドと、この研磨パッドに対して自公転す
るように上記スタンパが形成されたガラス基板を回転自
在に支持するクランプとを含み、上記ガラス基板が研磨
パッドに接触した状態でその上を自公転する相対運動の
少なくとも一部の期間において、ガラス基板上に形成さ
れた上記スタンパの外周部分が研磨パッドとの接触から
離れるようになっている。
A back polishing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention includes a polishing pad that rotates on its own axis, and a clamp that rotatably supports a glass substrate on which the stamper is formed so as to rotate around the polishing pad, During at least a part of the relative movement of the glass substrate in rotation and revolution on the polishing pad while in contact with the polishing pad, an outer peripheral portion of the stamper formed on the glass substrate is separated from contact with the polishing pad. There is.

上記の溝は研磨パッドの回転軸と同心な円形の溝である
ことができる。
The groove may be a circular groove concentric with the rotation axis of the polishing pad.

本願発明のさらに好ましい一実施例では上記研磨パッド
の平面が偏平な環状の断面を有し、上記中心部取付は具
が上記溝内に収容された状態において、上記ガラス基板
上に形成された上記スタンパの外周部分の少なくとも一
部が上記の偏平環状研磨パッドの内周端縁および/また
は外周端縁よりも外側に存在するようになっている。
In a further preferred embodiment of the present invention, the plane of the polishing pad has a flat annular cross section, and the central attachment is performed on the polishing pad formed on the glass substrate while the tool is housed in the groove. At least a part of the outer peripheral portion of the stamper is located outside the inner peripheral edge and/or the outer peripheral edge of the flat annular polishing pad.

上記の偏平環状研磨パッドは真円または楕円形等の偏平
な円環状平面にすることができる。
The flat annular polishing pad described above can be a flat annular plane such as a perfect circle or an ellipse.

作用 本発明は、ガラス基板に密着したままのスタンパを上記
の構成を有する研磨装置を用いて研磨するため、電鋳時
に生じる内部応力あるいはガラス基板11と金属皮膜1
4との熱膨張率の相違に起因する反りがあったとしても
、自動研磨装置にかけて得られるスタンパ14の内周部
分と外周部分とでスタンパ14の厚さが変化してしまう
ということがなく、常に均一な厚味のスタンパに仕上げ
ることが出来る。
Function The present invention polishes the stamper while it is in close contact with the glass substrate using the polishing device having the above configuration, so that internal stress generated during electroforming or the glass substrate 11 and the metal film 1 are removed.
Even if there is warpage due to the difference in coefficient of thermal expansion between the stamper 14 and the stamper 14, the thickness of the stamper 14 will not change between the inner and outer circumferential portions of the stamper 14 obtained by applying the automatic polishing device. The stamper can always be finished with a uniform thickness.

すなわち、高価な専用研■装置を使わずに、汎用の自動
研磨装置の研磨パッドを加工するだけで常に均一な厚味
のスタンパに仕上げることが出来る。
In other words, it is possible to always finish a stamper with a uniform thickness by simply processing the polishing pad of a general-purpose automatic polishing device without using an expensive dedicated polishing device.

実施例 以下、本発明の光ディスク成形用スタンパの裏面研磨装
置の一実施例を添付図面を参照して説明する。
Embodiment Hereinafter, an embodiment of a back polishing apparatus for a stamper for molding an optical disk according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

第1図は本発明の光ディスク成形用スタンパの裏面研磨
装置の示す概略縦断面図であり、第2図は第1図の裏面
研磨装置の概念的平面図である。
FIG. 1 is a schematic longitudinal cross-sectional view of a back polishing apparatus for a stamper for molding an optical disk according to the present invention, and FIG. 2 is a conceptual plan view of the back polishing apparatus of FIG. 1.

第1図に示すように、自動ガラス研磨装置のパッド部2
1は図示しないモータによって中心点0の周りを矢印の
方向に回転する。この研磨パッド部21はウレタン製で
テーブル28上に支持され、例えば90Orpmの自転
速度で回転される。 公知の方法によって電鋳によって
形成されたスタンパを有するガラス原盤23は、第2図
に示すように、クランプ25で固定され、矢印Cの方向
に荷重がかけられた状態で、図示していないモータによ
りシャフト26が回転される。クランプ25とシャフト
26との接点27゛はフリーになっており、この機構に
よりパッド21とガラス基板付スタンパ23との接触面
は常に全面均一な研磨が行えるようになっている。
As shown in FIG. 1, the pad section 2 of the automatic glass polishing machine
1 rotates around the center point 0 in the direction of the arrow by a motor (not shown). This polishing pad section 21 is made of urethane, is supported on a table 28, and is rotated at an autorotation speed of, for example, 90 rpm. A glass master disk 23 having a stamper formed by electroforming by a known method is fixed with a clamp 25 as shown in FIG. 2, and with a load applied in the direction of arrow C, a motor (not shown) The shaft 26 is rotated. The contact point 27' between the clamp 25 and the shaft 26 is free, and this mechanism allows uniform polishing of the entire surface of the contact surface between the pad 21 and the stamper 23 with glass substrate at all times.

実際の研磨時には、パッド中心上部より図示していない
供給手段から液状研磨剤が滴下され、パッド部21が低
速で矢印入方向に回転される。それによって、スタンパ
付ガラス基板23は矢印B方向に中速で自転され且つ矢
印A方向に公転される。
During actual polishing, liquid abrasive is dripped from the upper center of the pad from a supply means (not shown), and the pad portion 21 is rotated at low speed in the direction indicated by the arrow. As a result, the stamper-attached glass substrate 23 is rotated at a medium speed in the direction of arrow B and revolved in the direction of arrow A.

本発明では、上記研磨パッド部21が内側端縁IDと外
側端1i0Dとを有する偏平の円環状部材によって構成
されている。この研磨パッド部21の表面上には、その
外周端縁00と内周端縁IDのほぼ中間の位置に、溝2
2が形成されている。この溝22は市販の研磨パッドに
切り込みを入れて形成するか、予め上記溝22を有する
偏平の円環状研磨パッドを製作してもよい。上記の溝2
2の巾は約15mmであり、この巾はスタンパ付ガラス
基板23の中央ワッシャー24が丁度はまり込む程度の
巾であればよい。
In the present invention, the polishing pad portion 21 is constituted by a flat annular member having an inner edge ID and an outer edge 1i0D. A groove 2 is formed on the surface of the polishing pad portion 21 at a position approximately midway between the outer circumferential edge 00 and the inner circumferential edge ID.
2 is formed. The groove 22 may be formed by cutting a commercially available polishing pad, or a flat annular polishing pad having the groove 22 may be manufactured in advance. Groove 2 above
The width of the stamper 2 is about 15 mm, and it is sufficient that the width is such that the center washer 24 of the stamper-equipped glass substrate 23 just fits therein.

上記研磨パッド部21の上記内側端mlDと外側端縁O
Dの各半径は、スタンパ付ガラス基板23の中央ワッシ
ャー24が上記溝22にはまり込んだ状態、すなわち第
2図の平面図の状態で、上記スタンパ付ガラス基板23
の放射方向両端部分が上記内側端縁Inと外側端縁OD
とから放射方向内側および外側に突出するような値にな
っている。この突出量d、およびd2はスタンパ付ガラ
ス基板230反りの程度によって異なる。−例としては
直径200mmのスタンパの場合には上記突出量d1お
よびd2を20〜30mmにする。
The inner end mlD and the outer end O of the polishing pad portion 21
Each radius of the stamper-equipped glass substrate 23 is measured when the center washer 24 of the stamper-equipped glass substrate 23 is fitted into the groove 22, that is, in the state shown in the plan view of FIG.
Both ends in the radial direction are the inner edge In and the outer edge OD.
The value is such that it protrudes radially inward and outward from and. The protrusion amounts d and d2 differ depending on the degree of warpage of the stamper-attached glass substrate 230. - For example, in the case of a stamper with a diameter of 200 mm, the protrusion amounts d1 and d2 are set to 20 to 30 mm.

第6図は本発明の研磨パッド部の他の実施例を示す第2
図と同様な図である。この第6図では真円の偏平環状研
磨パッドの代わりに楕円形の偏平な円環状研磨パッドが
用いられている。この実施例の場合には、図の上下の部
分に対応する研磨パッド区域では上記の突出量d1およ
びd2が実質的にゼロになっている。
FIG. 6 is a second embodiment showing another embodiment of the polishing pad section of the present invention.
It is a figure similar to the figure. In FIG. 6, an elliptical flat annular polishing pad is used instead of a perfect circular flat annular polishing pad. In this embodiment, the protrusion amounts d1 and d2 are substantially zero in the polishing pad areas corresponding to the upper and lower portions of the figure.

発明の効果 以上のように、本発明では、光ディスク成形用スタンパ
の裏面研磨装置のパッド表面に、スタンパの中央保持用
ワッシャ一部を収容する溝を形成したのでスタンパをガ
ラス基板に密着させたままの状態でスタンパの裏面を常
に真平面状態のままで裏面研磨が行え、しかも上記スタ
ンパの外周部分と接触する研磨パッドの少なくとも一部
を除去した研磨パッドを用いたので、厚味の均一なスタ
ンパに研磨することが出来るという効果がある。
Effects of the Invention As described above, in the present invention, a groove for accommodating a part of the washer for holding the center of the stamper is formed on the pad surface of the back polishing device of the stamper for optical disc molding, so that the stamper can be kept in close contact with the glass substrate. The back side of the stamper can be polished while keeping the back side of the stamper in a flat state, and since at least a part of the polishing pad that contacts the outer periphery of the stamper is removed, it is possible to polish the back side of the stamper with a uniform thickness. It has the effect of being able to be polished.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による光ディスク成形用スタンパの裏面
研磨装置の概念的断面図、 第2図は第1図の裏面研磨装置の概念的平面図、第3図
は光ディスク成形用スタンパの製造工程を説明するため
の概念的断面図、 第4図は光ディスク成形用スタンパの製造工程で用いら
れるガラス基板保持手段を説明するための概念的断面図
、 第5図は従来法の欠点を説明するための第1図と同様な
概念的断面図、 第6図は本発明の他の実施例による研磨パッドを示す第
2図と同様な概念的断面図。 (図中符号) 11・・・ガラス基板 12・・・フォトレジスタ 12′  ・・・微細パターン 10・・・ガラス原盤 13・・・導電化皮膜 14・・・金属皮膜 21・ ・ ・パッド部 22・・・溝 23・・・ガラス基板付スタンパ 24・・・ワッシャ一部 25・・・クランプ 26・・・シャフト 27・・・接点(フリー) 28・・・テーブル In、 00・・内側および外側端縁
FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view of a back polishing device for a stamper for molding an optical disk according to the present invention, FIG. 2 is a conceptual plan view of the back polishing device shown in FIG. 1, and FIG. 3 shows the manufacturing process of a stamper for molding an optical disk. 4 is a conceptual sectional view for explaining the glass substrate holding means used in the manufacturing process of a stamper for molding an optical disk; FIG. 5 is a conceptual sectional view for explaining the drawbacks of the conventional method. FIG. 6 is a conceptual sectional view similar to FIG. 2, showing a polishing pad according to another embodiment of the present invention. (Symbols in the figure) 11... Glass substrate 12... Photoresistor 12'... Fine pattern 10... Glass master disk 13... Conductive film 14... Metal film 21... Pad portion 22 ... Groove 23 ... Stamper with glass substrate 24 ... Washer part 25 ... Clamp 26 ... Shaft 27 ... Contact (free) 28 ... Table In, 00 ... Inside and outside edge

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)スタンパが形成されたガラス基板が中心部取付け
具によって支持体に取り付けられた状態で上記スタンパ
の裏面を研磨パッドによって研磨するための光ディスク
形成用スタンパの裏面研磨装置において、上記中心部取
付け具と接触する部分に対応する研磨パッドの表面上に
上記中心部取付け具を収容するための溝が形成されてお
り、且つ上記スタンパの外周部分と接触する研磨パッド
の少なくとも一部が除去されていることを特徴とする光
ディスク形成用スタンパの裏面研磨装置。
(1) In an apparatus for polishing the back surface of a stamper for forming an optical disk, the back surface of the stamper is polished by a polishing pad while the glass substrate on which the stamper is formed is attached to a support body by a center mount. A groove for accommodating the center fixture is formed on the surface of the polishing pad corresponding to the portion that contacts the tool, and at least a portion of the polishing pad that contacts the outer peripheral portion of the stamper is removed. A backside polishing device for a stamper for forming an optical disk, characterized in that:
(2)上記裏面研磨装置が自転する研磨パッドと、この
研磨パッドに対して自公転するように上記スタンパが形
成されたガラス基板を回転自在に支持するクランプとを
含み、上記ガラス基板が研磨パッドに接触した状態でそ
の上を自公転する相対運動の少なくとも一部において、
ガラス基板上に形成された上記スタンパの外周部分が研
磨パッドとの接触から離れるようになっていることを特
徴とする特許請求の範囲第1項に記載の装置。
(2) The back polishing device includes a polishing pad that rotates, and a clamp that rotatably supports the glass substrate on which the stamper is formed so as to rotate around the polishing pad, and the glass substrate is attached to the polishing pad. In at least a part of the relative motion of rotating and revolving above it while in contact with
2. The apparatus according to claim 1, wherein an outer peripheral portion of the stamper formed on the glass substrate is separated from contact with a polishing pad.
(3)上記の溝が研磨パッドの回転軸と同心な円形の溝
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項または第
2項に記載の装置。
(3) The apparatus according to claim 1 or 2, wherein the groove is a circular groove concentric with the rotation axis of the polishing pad.
(4)上記研磨パッドが偏平な環状の平面を有し、上記
中心部取付け具が上記溝内に収容された状態において、
上記ガラス基板上に形成された上記スタンパの外周部分
の少なくとも一部が上記の偏平環状研磨パッドの内周端
縁および/または外周端縁よりも外側に存在するように
なっていることを特徴とする特許請求の範囲第1項から
第3項の何れか一項に記載の装置。
(4) in a state in which the polishing pad has a flat annular plane and the center mount is housed in the groove;
At least a part of the outer peripheral portion of the stamper formed on the glass substrate is located outside the inner peripheral edge and/or the outer peripheral edge of the flat annular polishing pad. An apparatus according to any one of claims 1 to 3.
(5)上記の偏平環状研磨パッドが偏平な円環状平面を
していることを特徴とする特許請求の範囲第4項に記載
の装置。
(5) The apparatus according to claim 4, wherein the flat annular polishing pad has a flat annular plane.
JP62307958A 1987-12-05 1987-12-05 Backside polishing device for stamper for optical disk molding Expired - Lifetime JPH0722892B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62307958A JPH0722892B2 (en) 1987-12-05 1987-12-05 Backside polishing device for stamper for optical disk molding

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62307958A JPH0722892B2 (en) 1987-12-05 1987-12-05 Backside polishing device for stamper for optical disk molding

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01153263A true JPH01153263A (en) 1989-06-15
JPH0722892B2 JPH0722892B2 (en) 1995-03-15

Family

ID=17975219

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62307958A Expired - Lifetime JPH0722892B2 (en) 1987-12-05 1987-12-05 Backside polishing device for stamper for optical disk molding

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0722892B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0639708A (en) * 1992-05-27 1994-02-15 Micron Technol Inc Device and method for flattening semiconductor wafer and polishing pad
USRE37997E1 (en) 1990-01-22 2003-02-18 Micron Technology, Inc. Polishing pad with controlled abrasion rate
GB2391500A (en) * 2002-08-01 2004-02-11 Wolters Peter Werkzeugmasch Apparatus for polishing digital storage discs
US6787071B2 (en) * 2001-06-11 2004-09-07 General Electric Company Method and apparatus for producing data storage media
CN102240966A (en) * 2010-05-13 2011-11-16 旭硝子株式会社 Grinding pad and grinding device using the grinding pad

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE37997E1 (en) 1990-01-22 2003-02-18 Micron Technology, Inc. Polishing pad with controlled abrasion rate
JPH0639708A (en) * 1992-05-27 1994-02-15 Micron Technol Inc Device and method for flattening semiconductor wafer and polishing pad
US6787071B2 (en) * 2001-06-11 2004-09-07 General Electric Company Method and apparatus for producing data storage media
GB2391500A (en) * 2002-08-01 2004-02-11 Wolters Peter Werkzeugmasch Apparatus for polishing digital storage discs
GB2391500B (en) * 2002-08-01 2004-09-01 Wolters Peter Werkzeugmasch A device for polishing digital storage discs
CN102240966A (en) * 2010-05-13 2011-11-16 旭硝子株式会社 Grinding pad and grinding device using the grinding pad

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0722892B2 (en) 1995-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5209027A (en) Polishing of the rear surface of a stamper for optical disk reproduction
JPH01153263A (en) Device for polishing back of optical disk molding stamper
JP3493208B2 (en) Method of manufacturing plate having flat main surface and method of manufacturing plate having two parallel main surfaces
US6074288A (en) Modified carrier films to produce more uniformly polished substrate surfaces
JPH01127265A (en) Reverse polishing device for optical disk stamper
JPS632656A (en) Wafere polishing method and wafer polishing base plate used for it
KR20040058283A (en) Method of manufacturing a stamper, master plate, support structure and use of such a stamper
JPH10193254A (en) Wafer polishing device
JP3821944B2 (en) Wafer single wafer polishing method and apparatus
JPS5977645A (en) Discoid substrate
JP2659235B2 (en) Planar polishing apparatus and method for producing polished product with uniform polishing marks
SU746702A1 (en) Magnetic disc manufacturing method
JPS63311625A (en) Floppy disk finishing device
JP2866175B2 (en) Polishing method for both sides of work
JPS60197366A (en) Carrier for both-surface grinder
JPH0349856A (en) Surface polishing method
JPS608185B2 (en) Double-sided polishing device
JP2001347447A (en) Tape polishing device
JPS6125976Y2 (en)
JP3207560B2 (en) Polishing method for backside of stamper for optical disc.
JPH0615557A (en) Polishing method of stamper
JP3676936B2 (en) Backing plate joining device to master stamper
JPH09262733A (en) Holding device for stamper
JPS6117626B2 (en)
JP2000334647A (en) Lens machining jig and method using the jig