JPH0722892B2 - Backside polishing device for stamper for optical disk molding - Google Patents

Backside polishing device for stamper for optical disk molding

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JPH0722892B2
JPH0722892B2 JP62307958A JP30795887A JPH0722892B2 JP H0722892 B2 JPH0722892 B2 JP H0722892B2 JP 62307958 A JP62307958 A JP 62307958A JP 30795887 A JP30795887 A JP 30795887A JP H0722892 B2 JPH0722892 B2 JP H0722892B2
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Japan
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stamper
polishing pad
polishing
glass substrate
back surface
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JP62307958A
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徳雄 岡林
一司 高橋
聡 井口
浩昭 光野
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Daicel Corp
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Daicel Chemical Industries Ltd
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は光ディスク基板成形用スタンパの製造装置に関
するものであり、特に、追記型(DRAWまたはWORM)光デ
ィスク、書替え可能型(E-DRAWまたはイレーザブル)光
ディスク等の光ディスクの基板(サブストレート)とし
て用いられるプラスチックディスク基板の成形用スタン
パの裏面研磨装置に関するものである。本発明は主とし
て上記のような精密度の高い光ディスク基板用のスタン
パの裏面研磨に用いられるが、当然ながら、精密度が相
対的に低い読み取り専用(ROM)型光ディスク基板用の
スタンパの裏面研磨に用いることもできる。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an apparatus for manufacturing a stamper for molding an optical disk substrate, and in particular, an optical disk such as a write-once (DRAW or WORM) optical disk and a rewritable (E-DRAW or erasable) optical disk. The present invention relates to a back surface polishing apparatus for a stamper for molding a plastic disc substrate used as a substrate (substrate). The present invention is mainly used for polishing the back surface of a stamper for a high precision optical disc substrate as described above, but of course, for polishing the back surface of a stamper for a read-only (ROM) type optical disc substrate having a relatively low precision. It can also be used.

従来の技術 従来一般に用いられている光ディスク成形用スタンパの
製造プロセスを第3図(a)〜(d)を用いて説明する。先
ず、第3図(a)に示すように、ガラス基板11の表面上に
フォトレジスト12を塗布し、このレジスト12上にレーザ
ーカッティングマシン等を用いて情報あるいは信号を微
細レリーフパターン12′として形成する(第3図(b))
(実際には、露光−現像−定着−未露光部分の洗浄除去
等の工程があるが、図では最終レリーフパターンのみを
示してある)。こうして得られたガラス原盤10の表面に
導電化皮膜13を形成(第3図(c))した後、電鋳法、蒸
着法等により金属例えば、ニッケルの皮膜14を形成(第
3図(d))し、これら導電化皮膜13および金属皮膜14を
一体としてガラス原盤10から剥離する。このようにして
製造されたスタンパは次いで、スタンパの厚味を精密に
微細調整するためにスタンパの裏面を研磨する。
2. Description of the Related Art A manufacturing process of a conventionally used optical disk molding stamper will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (d). First, as shown in FIG. 3 (a), a photoresist 12 is applied on the surface of a glass substrate 11, and information or signals are formed on the resist 12 as a fine relief pattern 12 'by using a laser cutting machine or the like. Yes (Fig. 3 (b))
(In practice, there are steps of exposure-developing-fixing-washing and removing unexposed portions, but only the final relief pattern is shown in the figure). After forming the conductive film 13 on the surface of the glass master 10 thus obtained (FIG. 3 (c)), a film 14 of metal such as nickel is formed by an electroforming method, a vapor deposition method or the like (see FIG. 3 (d). )), And the conductive coating 13 and the metal coating 14 are separated from the glass master 10 as a unit. The stamper thus manufactured is then polished on the back surface of the stamper in order to finely adjust the thickness of the stamper.

実際には、上記金属皮膜14、例えば、ニッケル皮膜を電
鋳法、蒸着法等で形成する際に、ガラス原盤10を支持体
上に支持しておかなければならないので、一般には、第
4図に示すように、支柱30の先端から突出したネジと螺
合するナット31と、ワッシャ32によってガラス原盤10を
支持している。電鋳法の場合には上記ワッシャ32は一般
に電極の役目をしている。しかし、スタンパの中央部に
上記ワッシャ32が一体化されていると精密な研磨ができ
ないので、研磨の前にワッシャ部32を取り除いてから研
磨をしている。
In practice, the glass master 10 must be supported on a support when the metal film 14, for example, the nickel film is formed by the electroforming method, the vapor deposition method or the like. As shown in, the glass master 10 is supported by the nut 31 screwed with the screw protruding from the tip of the support column 30 and the washer 32. In the case of electroforming, the washer 32 generally serves as an electrode. However, if the washer 32 is integrated in the center of the stamper, precise polishing cannot be performed, so the washer portion 32 is removed before polishing.

発明が解決しようとする問題点 一般に、上記の研磨は手作業で行うか、自動研磨装置で
行う。しかし、スタンパは厚さが1mm以下と薄いため、
サンドペーパー等による手作業でのスタンパの裏面研磨
では面精度が出ず、応力によってスタンパが変形した
り、加工する人の個人差によってスタンパの厚味が変動
してしまうという欠点の他に、生産性が低いという欠点
がある。そのため、ガラス原盤10から剥離しない状態で
スタンパの裏面を研磨することが提案されているが、こ
の場合には、上記ワッシャ部を取り除かないと自動研磨
装置にかからない。そこで、従来は、ガラス原板からス
タンパを剥がし、上記ワッシャ部を一旦取り除いた後
に、再度スタンパをガラス原板に接着して自動研磨装置
にかけていた。しかし、この方法では上記の接着時にス
タンパとガラス原板との間に空気が入り、面精度が出な
い上に、接着手段が複雑になり、生産性も上がらない等
の問題点があった。
Problems to be Solved by the Invention Generally, the above polishing is performed manually or by an automatic polishing apparatus. However, since the stamper is as thin as 1 mm or less,
In addition to the disadvantages that the back surface accuracy of the stamper cannot be obtained manually by sandpaper etc., the stamper may be deformed due to stress, and the thickness of the stamper may change due to individual differences in the processing. It has the disadvantage of being poor in nature. Therefore, it has been proposed to polish the back surface of the stamper without peeling it off from the glass master 10, but in this case, the automatic polishing apparatus cannot be applied unless the washer portion is removed. Therefore, conventionally, the stamper was peeled off from the glass original plate, the washer portion was once removed, and then the stamper was again adhered to the glass original plate and subjected to an automatic polishing apparatus. However, this method has a problem that air enters between the stamper and the glass original plate during the above-mentioned bonding, the surface accuracy is not obtained, the bonding means is complicated, and the productivity is not improved.

こうした従来法の欠点を改良するために、本出願人は昭
和62年11月10日付の発明の名称:「光ディスク成形用ス
タンパの裏面研磨装置」と題する特許出願において、ス
タンパが形成されたガラス基板が中心部取付け具によっ
て支持体に取り付けられた状態で上記スタンパの裏面を
研磨パッドによって研磨するための光ディスク成形用ス
タンパの裏面研磨装置において、上記中心部取付け具と
接触する部分に対応する研磨パッドの表面上に上記中心
部取付け具を収容するための溝を形成することを提案し
た。
In order to remedy the drawbacks of the conventional method, the applicant of the present invention filed a patent document entitled “Back surface polishing device for stamper for optical disc molding” dated November 10, 1987 with a glass substrate on which a stamper was formed. In a back surface polishing apparatus for an optical disk molding stamper for polishing the back surface of the stamper with a polishing pad in a state where the back surface of the stamper is attached to a support body by a center mounting tool, a polishing pad corresponding to a portion that contacts the center mounting tool. It has been proposed to form a groove on the surface of the to accommodate the central fixture.

しかし、その後の研究の結果、電鋳時に生じる内部応力
のために、ロットによってはスタンパが形成されたガラ
ス基板が反ることがわかった。
However, as a result of subsequent research, it was found that the glass substrate on which the stamper was formed warped in some lots due to internal stress generated during electroforming.

すなわち、電鋳時によりスタンパとなる金属皮膜14を形
成する際には、析出金属の内部応力が最少になるように
操作条件を設定するが、電鋳浴の温度は一般に約50℃近
辺に設定される。そのため、電鋳後にスタンパが形成さ
れたガラス基板11を電鋳浴から約25℃の室温中に取り出
すと、ガラス基板11と金属皮膜14との熱膨張率の相違に
よりいわゆるバイメタル効果で全体が反ってしまう。従
って、この状態のスタンパ14が形成されたガラス基板11
を自動研磨装置にかけると、第5図に示すような状態で
自動研磨装置のクランプに取り付けられるため、得られ
たスタンパ14の内周部分と外周部とでスタンパ14の厚さ
が変化してしまう。
That is, when forming the metal film 14 to be the stamper during electroforming, the operating conditions are set so that the internal stress of the deposited metal is minimized, but the temperature of the electroforming bath is generally set at around 50 ° C. To be done. Therefore, if the glass substrate 11 on which the stamper is formed after electroforming is taken out from the electroforming bath to room temperature of about 25 ° C., the glass substrate 11 and the metal film 14 are warped as a whole due to a difference in thermal expansion coefficient. Will end up. Therefore, the glass substrate 11 on which the stamper 14 in this state is formed
When it is applied to the automatic polishing device, it is attached to the clamp of the automatic polishing device in the state as shown in FIG. I will end up.

従って、本発明の目的はスタンパをガラス原盤10から剥
離しない状態で自動研磨装置でスタンパ裏面を研磨する
際の上記の問題点を解決することにある。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems when the back surface of a stamper is polished by an automatic polishing apparatus in a state where the stamper is not peeled from the glass master 10.

問題点を解決するための手段 上記問題を解決するために本発明の光ディスク成形用ス
タンパの裏面研磨装置はスタンパが形成されたガラス基
板が中心部取付け具によって支持体に取り付けられた状
態で上記スタンパの裏面を研磨パッドによって研磨する
ための光ディスク形成用スタンパの裏面研磨装置におい
て、 上記中心部取付け具と接触する部分に対応する研磨パッ
ドの表面上に上記中心部取付け具を収容するための溝が
形成されており、且つ 上記スタンパの外周部分と接触する研磨パッドの少なく
とも一部が除去されていることを特徴としている。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the back surface polishing apparatus for an optical disk molding stamper according to the present invention has the glass substrate on which the stamper is formed attached to a support body by a central fixture. In a back surface polishing apparatus for an optical disk forming stamper for polishing the back surface of a center pad with a polishing pad, a groove for accommodating the center fixture is provided on the surface of the polishing pad corresponding to a portion in contact with the center fixture. At least a part of the polishing pad that is formed and is in contact with the outer peripheral portion of the stamper is removed.

一般に、上記中心部取付け具はネジ−ワッシャーによっ
て構成されている。また、上記スタンパはガラス基板の
表面にフォトレジストを塗布し、このフォトレジスト上
に微細レリーフパターンを形成したガラス原盤に金属皮
膜を形成して作られる。上記の微細レリーフパターンは
一般にレーザーカッティングによっておこなわれる。
Generally, the center fixture is comprised of a screw-washer. The stamper is formed by applying a photoresist on the surface of a glass substrate and forming a metal film on a glass master having a fine relief pattern formed on the photoresist. The fine relief pattern described above is generally performed by laser cutting.

本発明は、上記金属皮膜は電鋳法によって形成される場
合に好適に用いることができるが、蒸着等の他の任意の
金属皮膜形成法によって作ったものにも応用することが
できる。
The present invention can be preferably used when the above metal film is formed by electroforming, but can also be applied to those formed by any other metal film forming method such as vapor deposition.

好ましくは、上記微細レリーフパターンを形成したガラ
ス原盤上に予め導電化皮膜を形成してから上記電鋳法に
よって上記金属皮膜を形成する。
Preferably, a conductive film is previously formed on the glass master having the fine relief pattern, and then the metal film is formed by the electroforming method.

自動研磨装置自体としては周知の任意のものを用いるこ
とができるが、一般には自転する研磨パッドに、ガラス
原板上に形成したスタンパを当接させ、後者を研磨パッ
ドの自転運動によってつれまわりさせる、すなわち、自
公転させる。この際の研磨パッドの自転速度は一般に10
0rpm程度である。研磨パッドとしては一般にガラス研磨
に用いられているウレタンパッド等を用いることができ
る。
As the automatic polishing apparatus itself, any known one can be used, but in general, a polishing pad that rotates is brought into contact with a stamper formed on a glass original plate, and the latter is orbited by the rotation of the polishing pad. That is, it revolves around its own axis. The rotation speed of the polishing pad at this time is generally 10
It is about 0 rpm. As the polishing pad, a urethane pad or the like generally used for glass polishing can be used.

本発明による上記の溝は上記中心部取付け具が収容でき
るだけの巾と深さを有していればよい。例えば、中心部
取付け具のワッシャーの直径が20mmの場合には、上記の
溝の巾も約20mmにすればよい。
The groove according to the present invention may have a width and a depth that can accommodate the central fixture. For example, when the washer diameter of the central fixture is 20 mm, the width of the groove may be about 20 mm.

本願発明の好ましい一実施例による裏面研磨装置は、自
転する研磨パッドと、この研磨パッドに対して自公転す
るように上記スタンパが形成されたガラス基板を回転自
在に支持するクランプとを含み、上記ガラス基板が研磨
パッドに接触した状態でその上を自公転する相対運動の
少なくとも一部の期間において、ガラス基板上に形成さ
れた上記スタンパの外周部分が研磨パッドとの接触から
離れるようになっている。
A back surface polishing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention includes a polishing pad that rotates, and a clamp that rotatably supports a glass substrate on which the stamper is formed so as to rotate around the polishing pad. The outer peripheral portion of the stamper formed on the glass substrate is separated from the contact with the polishing pad during at least a part of the relative motion of the glass substrate rotating around the polishing pad while rotating. There is.

上記の溝は研磨パッドの回転軸と同心な円形の溝である
ことができる。
The groove may be a circular groove that is concentric with the rotation axis of the polishing pad.

本願発明のさらに好ましい一実施例では上記研磨パッド
の平面が偏平な環状の断面を有し、上記中心部取付け具
が上記溝内に収容された状態において、上記ガラス基板
上に形成された上記スタンパの外周部分の少なくとも一
部が上記の偏平環状研磨パッドの内周端縁および/また
は外周端縁よりも外側に存在するようになっている。
In a further preferred embodiment of the present invention, the flat surface of the polishing pad has a flat annular cross section, and the stamper formed on the glass substrate in a state in which the central fixture is accommodated in the groove. At least a part of the outer peripheral portion of the flat annular polishing pad is located outside the inner peripheral edge and / or the outer peripheral edge of the flat annular polishing pad.

上記の偏平環状研磨パッドは真円または楕円形等の偏平
な円環状平面にすることができる。
The above flat annular polishing pad can be a flat annular flat surface such as a perfect circle or an ellipse.

作用 本発明は、ガラス基板に密着したままのスタンパを上記
の構成を有する研磨装置を用いて研磨するため、電鋳時
に生じる内部応力あるいはガラス基板11と金属皮膜14と
の熱膨張率の相違に起因する反りがあったとしても、自
動研磨装置にかけて得られるスタンパ14の内周部分と外
周部分とでスタンパ14の厚さが変化してしまうというこ
とがなく、常に均一な厚味のスタンパに仕上げることが
出来る。
Action The present invention polishes the stamper that is still in close contact with the glass substrate by using the polishing apparatus having the above-described configuration, and therefore the internal stress generated during electroforming or the difference in thermal expansion coefficient between the glass substrate 11 and the metal coating 14 is caused. Even if there is a warp caused by it, the thickness of the stamper 14 does not change between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the stamper 14 obtained by applying the automatic polishing device, and the stamper is always finished with a uniform thickness. You can

すなわち、高価な専用研磨装置を使わずに、汎用の自動
研磨装置の研磨パッドを加工するだけで常に均一な厚味
のスタンパに仕上げることが出来る。
That is, it is possible to always finish the stamper with a uniform thickness simply by processing the polishing pad of a general-purpose automatic polishing device without using an expensive dedicated polishing device.

実施例 以下、本発明の光ディスク成形用スタンパの裏面研磨装
置の一実施例を添付図面を参照して説明する。
Embodiment An embodiment of the back surface polishing apparatus for an optical disk molding stamper of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

第1図は本発明の光ディスク成形用スタンパの裏面研磨
装置を示す概略縦断面図であり、第2図は第1図の裏面
研磨装置の概念的平面図である。
FIG. 1 is a schematic vertical sectional view showing a back surface polishing apparatus for an optical disk molding stamper of the present invention, and FIG. 2 is a conceptual plan view of the back surface polishing apparatus of FIG.

第1図に示すように、自動ガラス研磨装置のパッド部21
は図示しないモータによって中心点Oの周りを矢印の方
向に回転する。この研磨パッド部21はウレタン製でテー
ブル28上に支持され、例えば900rpmの自転速度で回転さ
れる。公知の方法によって電鋳によって形成されたスタ
ンパを有するガラス原盤23は、第2図に示すように、ク
ランプ25で固定され、矢印Cの方向に荷重がかけられた
状態で、図示していないモータによりシャフト26が回転
される。クランプ25とシャフト26との接点27はフリーに
なっており、この機構によりパッド21とガラス基板付ス
タンパ23との接触面は常に全面均一な研磨が行えるよう
になっている。
As shown in FIG. 1, the pad portion 21 of the automatic glass polishing device
Is rotated in the direction of the arrow around the center point O by a motor (not shown). The polishing pad portion 21 is made of urethane and is supported on a table 28 and rotated at a rotation speed of 900 rpm, for example. A glass master 23 having a stamper formed by electroforming by a known method is fixed by a clamp 25 as shown in FIG. 2, and a load is applied in the direction of arrow C, and a motor not shown is shown. The shaft 26 is thereby rotated. The contact point 27 between the clamp 25 and the shaft 26 is free, and this mechanism allows the contact surface between the pad 21 and the stamper 23 with a glass substrate to be always uniformly polished.

実際の研磨時には、パッド中心上部より図示していない
供給手段から液状研磨剤が滴下され、パッド部21が低速
で矢印A方向に回転される。それによって、スタンパ付
ガラス基板23は矢印B方向に中速で自転され且つ矢印A
方向に公転される。
At the time of actual polishing, a liquid abrasive is dropped from a supply means (not shown) from above the center of the pad, and the pad portion 21 is rotated at a low speed in the direction of arrow A. As a result, the glass substrate 23 with the stamper is rotated at the medium speed in the direction of the arrow B and the arrow A
Revolved in the direction.

本発明では、上記研磨パッド部21が内側端縁IDと外側端
縁ODとを有する偏平の円環状部材によって構成されてい
る。この研磨パッド部21の表面上には、その外周端縁OD
と内周端縁ODのほぼ中間の位置に、溝22が形成されてい
る。この溝22は市販の研磨パッドに切り込みを入れて形
成するか、予め上記溝22を有する偏平の円環状研磨パッ
ドを製作してもよい。上記の溝22の巾は約15mmであり、
この巾はスタンパ付ガラス基板23の中央ワッシャー24が
丁度はまり込む程度の巾であればよい。
In the present invention, the polishing pad portion 21 is formed of a flat annular member having an inner edge ID and an outer edge OD. On the surface of this polishing pad portion 21, its outer peripheral edge OD
A groove 22 is formed at a position approximately in the middle of the inner peripheral edge OD. The groove 22 may be formed by cutting a commercially available polishing pad, or a flat annular polishing pad having the groove 22 may be manufactured in advance. The width of the groove 22 is about 15 mm,
This width may be such that the central washer 24 of the glass substrate with stamper 23 just fits.

上記研磨パッド部21の上記内側端縁IDと外側端縁ODの各
半径は、スタンパ付ガラス基板23の中央ワッシャー24が
上記溝22にはまり込んだ状態、すなわ第2図の平面図の
状態で、上記スタンパ付ガラス基板23の放射方向両端部
分が上記内側端縁IDと外側端縁ODとから放射方向内側お
よび外側に突出するような値になっている。この突出量
d1およびd2はスタンパ付ガラス基板23の反りの程度によ
って異なる。一例としては直径200mmのスタンパの場合
には上記突出量d1およびd2を20〜30mmにする。
The radii of the inner edge ID and the outer edge OD of the polishing pad portion 21 are such that the central washer 24 of the glass substrate 23 with stamper fits in the groove 22, that is, the state of the plan view of FIG. Then, the both ends in the radial direction of the glass substrate with a stamper 23 have such values as to project inward and outward in the radial direction from the inner edge ID and the outer edge OD. This protrusion amount
d 1 and d 2 differ depending on the degree of warpage of the stamper-equipped glass substrate 23. As an example, in the case of a stamper having a diameter of 200 mm, the protrusion amounts d 1 and d 2 are set to 20 to 30 mm.

第6図は本発明の研磨パッド部の他の実施例を示す第2
図と同様な図である。この第6図では真円の偏平環状研
磨パッドの代わりに楕円形の偏平な円環状研磨パッドが
用いられている。この実施例の場合には、図の上下の部
分に対応する研磨パッド区域では上記の突出量d1および
d2が実質的にゼロになっている。
FIG. 6 shows a second embodiment of the polishing pad portion of the present invention.
It is a figure similar to a figure. In FIG. 6, an elliptical flat annular polishing pad is used instead of the perfect circular flat annular polishing pad. In the case of this embodiment, the above-mentioned protrusion amount d 1 and
d 2 is practically zero.

発明の効果 以上のように、本発明では、光ディスク成形用スタンパ
の裏面研磨装置のパッド表面に、スタンパの中央保持用
ワッシャー部を収容する溝を形成したのでスタンパをガ
ラス基板に密着させたままの状態でスタンパの裏面を常
に真平面状態のままで裏面研磨が行え、しかも上記スタ
ンパの外周部分と接触する研磨パッドの少なくとも一部
を除去した研磨パッドを用いたので、厚味の均一なスタ
ンパに研磨することが出来るという効果がある。
As described above, in the present invention, since the groove for accommodating the washer portion for holding the center of the stamper is formed on the pad surface of the back surface polishing device of the optical disk molding stamper, the stamper is kept in close contact with the glass substrate. In this state, the back surface of the stamper can be polished with the back surface always flat, and at least a part of the polishing pad that comes into contact with the outer peripheral portion of the stamper has been removed. The effect is that it can be polished.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明による光ディスク成形用スタンパの裏面
研磨装置の概念的断面図、 第2図は第1図の裏面研磨装置の概念的平面図、 第3図は光ディスク成形用スタンパの製造工程を説明す
るための概念的断面図、 第4図は光ディスク成形用スタンパの製造工程で用いら
れるガラス基板保持手段を説明するための概念的断面
図、 第5図は従来法の欠点を説明するための第1図と同様な
概念的断面図、 第6図は本発明の他の実施例による研磨パッドを示す第
2図と同様な概念的断面図。 (図中符号) 11…ガラス基板 12…フォトレジスタ 12′…微細パターン 10…ガラス原盤 13…導電化皮膜 14…金属皮膜 21…パッド部 22…溝 23…ガラス基板付スタンパ 24…ワッシャー部 25…クランプ 26…シャフト 27…接点(フリー) 28…テーブル ID、OD…内側および外側端縁
FIG. 1 is a conceptual sectional view of a back surface polishing apparatus for an optical disk molding stamper according to the present invention, FIG. 2 is a conceptual plan view of the back surface polishing apparatus of FIG. 1, and FIG. 3 is a manufacturing process of an optical disk molding stamper. FIG. 4 is a conceptual sectional view for explaining the glass substrate holding means used in the manufacturing process of the stamper for molding an optical disk, and FIG. 5 is a conceptual sectional view for explaining the drawbacks of the conventional method. A conceptual sectional view similar to FIG. 1, and FIG. 6 is a conceptual sectional view similar to FIG. 2 showing a polishing pad according to another embodiment of the present invention. (Reference numeral in the figure) 11 ... Glass substrate 12 ... Photoresistor 12 '... Micro pattern 10 ... Glass master 13 ... Conductive film 14 ... Metal film 21 ... Pad part 22 ... Groove 23 ... Glass substrate stamper 24 ... Washer part 25 ... Clamp 26… Shaft 27… Contact (free) 28… Table ID, OD… Inner and outer edges

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】スタンパが形成されたガラス基板が中心部
取付け具によって支持体に取り付けられた状態で上記ス
タンパの裏面を研磨パッドによって研磨するための光デ
ィスク形成用スタンパの裏面研磨装置において、 上記中心部取付け具と接触する部分に対応する研磨パッ
ドの表面上に上記中心部取付け具を収容するための溝が
形成されており、且つ 上記スタンパの外周部分と接触する研磨パッドの少なく
とも一部が除去されていることを特徴とする光ディスク
形成用スタンパの裏面研磨装置。
1. A back surface polishing apparatus for an optical disk forming stamper for polishing a back surface of the stamper with a polishing pad in a state where a glass substrate on which a stamper is formed is attached to a support member by a center portion mounting tool. A groove for accommodating the central fixture is formed on the surface of the polishing pad corresponding to the portion in contact with the partial fixture, and at least a part of the polishing pad contacting the outer peripheral portion of the stamper is removed. And a back surface polishing apparatus for an optical disk forming stamper.
【請求項2】上記裏面研磨装置が自転する研磨パッド
と、この研磨パッドに対して自公転するように上記スタ
ンパが形成されたガラス基板を回転自在に支持するクラ
ンプとを含み、上記ガラス基板が研磨パッドに接触した
状態でその上を自公転する相対運動の少なくとも一部に
おいて、ガラス基板上に形成された上記スタンパの外周
部分が研磨パッドとの接触から離れるようになっている
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の装置。
2. A back surface polishing apparatus includes a polishing pad that rotates, and a clamp that rotatably supports a glass substrate on which the stamper is formed so as to rotate around the polishing pad. The outer peripheral portion of the stamper formed on the glass substrate separates from the contact with the polishing pad in at least a part of the relative motion of revolving on the polishing pad while rotating. The device according to claim 1.
【請求項3】上記の溝が研磨パッドの回転軸と同心な円
形の溝であることを特徴とする特許請求の範囲第1項ま
たは第2項に記載の装置。
3. The apparatus according to claim 1 or 2, wherein the groove is a circular groove concentric with the rotation axis of the polishing pad.
【請求項4】上記研磨パッドが偏平な環状の平面を有
し、上記中心部取付け具が上記溝内に収容された状態に
おいて、上記ガラス基板上に形成された上記スタンパの
外周部分の少なくとも一部が上記の偏平環状研磨パッド
の内周端縁および/または外周端縁よりも外側に存在す
るようになっていることを特徴とする特許請求の範囲第
1項から第3項の何れか一項に記載の装置。
4. The at least one outer peripheral portion of the stamper formed on the glass substrate in a state where the polishing pad has a flat annular flat surface and the center fixture is accommodated in the groove. 4. The portion is located outside the inner peripheral edge and / or the outer peripheral edge of the flat annular polishing pad described above. The device according to paragraph.
【請求項5】上記の偏平環状研磨パッドが偏平な円環状
平面をしていることを特徴とする特許請求の範囲第4項
に記載の装置。
5. The apparatus according to claim 4, wherein the flat annular polishing pad has a flat annular flat surface.
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USRE37997E1 (en) 1990-01-22 2003-02-18 Micron Technology, Inc. Polishing pad with controlled abrasion rate
US5234867A (en) * 1992-05-27 1993-08-10 Micron Technology, Inc. Method for planarizing semiconductor wafers with a non-circular polishing pad
US6787071B2 (en) * 2001-06-11 2004-09-07 General Electric Company Method and apparatus for producing data storage media
DE10235017A1 (en) * 2002-08-01 2004-02-12 Peter Wolters Werkzeugmaschinen Gmbh Device for polishing digital storage disks
JP5516051B2 (en) * 2010-05-13 2014-06-11 旭硝子株式会社 Polishing apparatus using polishing pad and glass plate manufacturing method

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