JPH01146511A - ホットプレート - Google Patents
ホットプレートInfo
- Publication number
- JPH01146511A JPH01146511A JP30671087A JP30671087A JPH01146511A JP H01146511 A JPH01146511 A JP H01146511A JP 30671087 A JP30671087 A JP 30671087A JP 30671087 A JP30671087 A JP 30671087A JP H01146511 A JPH01146511 A JP H01146511A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hot plate
- temp
- steam
- liquid
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Baking, Grill, Roasting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、被加熱物の下部よりヒーターにより加熱を行
なうホットプレートの構造に関するものである。
なうホットプレートの構造に関するものである。
従来のホットプレートの構造は、図4に示す様に、板状
の金属にヒーターを埋め込み、熱伝導により、金属全体
を加熱し、この温度を熱電対等でフィードバックしヒー
ターを制御しながら所望の温度を得るというものであっ
た。
の金属にヒーターを埋め込み、熱伝導により、金属全体
を加熱し、この温度を熱電対等でフィードバックしヒー
ターを制御しながら所望の温度を得るというものであっ
た。
しかし、従来のホットプレートの構造では、ヒーター、
熱電対の埋め込んである位置等により、ホットプレート
表面温度はバラつき、均一な温度分布(安定状@)にな
るには、時間を要していた。
熱電対の埋め込んである位置等により、ホットプレート
表面温度はバラつき、均一な温度分布(安定状@)にな
るには、時間を要していた。
又、温度のフィードバックを熱雷対等によって行なう為
、ホットプレート表面温度の経時変化は図3に示す様に
、安定状態においてもバラツキが生じる。特に被加熱物
をホットプレート上にαせた際には、ホットプレート表
面の温度は一度急激に下降する。その時点でヒーターは
、それを補うべく、より多くの熱量を与える為、ホット
プレート表面a!度は必要以上に上昇する事になり、電
子部品の半田付等をホットプレート上で行な名実製作業
においては、電子部品素子への熱影朽半田の流れ具合等
がバラつき、安定した品質を得る事が困難であった。
、ホットプレート表面温度の経時変化は図3に示す様に
、安定状態においてもバラツキが生じる。特に被加熱物
をホットプレート上にαせた際には、ホットプレート表
面の温度は一度急激に下降する。その時点でヒーターは
、それを補うべく、より多くの熱量を与える為、ホット
プレート表面a!度は必要以上に上昇する事になり、電
子部品の半田付等をホットプレート上で行な名実製作業
においては、電子部品素子への熱影朽半田の流れ具合等
がバラつき、安定した品質を得る事が困難であった。
上記問題点を解決する為に、本発明はホットプレートの
内部に少量の液体を入れた密閉空洞構造を設ける構造に
したものである。
内部に少量の液体を入れた密閉空洞構造を設ける構造に
したものである。
前記の様にホットプレートの内部に少量の液体を入れた
密閉空洞構造の下部もしくは液体中に設置されたヒータ
ーの温度を上昇させると、上昇と伴に密閉構造中の液体
は、蒸発し、温度の低いホットプレート上面で凝縮され
重力により、凝縮された液体は、ヒーター側の加熱部へ
落下し再び蒸発する。
密閉空洞構造の下部もしくは液体中に設置されたヒータ
ーの温度を上昇させると、上昇と伴に密閉構造中の液体
は、蒸発し、温度の低いホットプレート上面で凝縮され
重力により、凝縮された液体は、ヒーター側の加熱部へ
落下し再び蒸発する。
この蒸発、l12縮作用を繰り返す事によりヒーターの
熱を温度の低いホットプレート上面へ潜熱の形で輸送す
る。
熱を温度の低いホットプレート上面へ潜熱の形で輸送す
る。
ホットプレート上に被加熱物を置いた箇所等の部分的に
温度の低い箇所は、高い所との蒸気圧力差により、圧力
の低い低温の方へ蒸気が集中し熱交換がさかんに行なわ
れ、この働きは温度が均一になるまで続けられる。
温度の低い箇所は、高い所との蒸気圧力差により、圧力
の低い低温の方へ蒸気が集中し熱交換がさかんに行なわ
れ、この働きは温度が均一になるまで続けられる。
上記働きにより、ホットプレート表面は均一になり、実
装作業においては、電子部品素子への熱影唇がなくなり
、又、半田付等の実装品質の安定につながる。
装作業においては、電子部品素子への熱影唇がなくなり
、又、半田付等の実装品質の安定につながる。
以下に本発明の実施例を図面にもとづいて説明する。
第1図において、
密閉空洞部1の内部の液体2を、ヒーター3で加熱する
事により、液体2は沸騰し蒸気4となり温度の低いホッ
トプレート上部6へ蒸気圧力差により移動し、蒸気4は
凝縮する際に潜熱によりホットプレート上部6を加熱し
た後液体5に戻り重力により下へ落下し再び加熱される
という熱交換を繰り返す。
事により、液体2は沸騰し蒸気4となり温度の低いホッ
トプレート上部6へ蒸気圧力差により移動し、蒸気4は
凝縮する際に潜熱によりホットプレート上部6を加熱し
た後液体5に戻り重力により下へ落下し再び加熱される
という熱交換を繰り返す。
又、第2図は、第1図が液体2を数本のヒーター3で間
接的に全面で加熱したのに対し加熱部を一部に設けてい
る。
接的に全面で加熱したのに対し加熱部を一部に設けてい
る。
第2図において、ヒーター3によって加熱された液体2
は、蒸気4となり、圧力差により蒸気4は密閉空洞部全
域に行き渡り、ホットプレート上部6を蒸気4が凝縮す
る際の潜熱で加熱した後液体5に戻り、重力により下へ
落下し、密閉空洞部下側のテーパ一部7を伝わって、ヒ
ーター3のある加熱部に回収され再び加熱されるという
熱交換を繰り返す。
は、蒸気4となり、圧力差により蒸気4は密閉空洞部全
域に行き渡り、ホットプレート上部6を蒸気4が凝縮す
る際の潜熱で加熱した後液体5に戻り、重力により下へ
落下し、密閉空洞部下側のテーパ一部7を伝わって、ヒ
ーター3のある加熱部に回収され再び加熱されるという
熱交換を繰り返す。
ここで、液体20種類は所望のホットプレート温度によ
って選択され、例えば、アルコール、水、フロリナート
等が挙げられる。
って選択され、例えば、アルコール、水、フロリナート
等が挙げられる。
第3図に比較例を示す。
m3図において、従来のホットプレートの上面の温度は
定常状態(T、以降)に入った後も、熱電対等のす、−
モセンサーのフィードバックによりヒータースイッチを
ON、OFFする為、バラツキが生じる。それに対し本
発明によるホットプレートは、常に一定の温度を保持す
る。
定常状態(T、以降)に入った後も、熱電対等のす、−
モセンサーのフィードバックによりヒータースイッチを
ON、OFFする為、バラツキが生じる。それに対し本
発明によるホットプレートは、常に一定の温度を保持す
る。
又、ホットプレート上に被加熱物を征せた時(T、)も
本発明のホットプレートは、所望の温度以上に被加熱物
を加熱する事なく、又、従来のホットプレートより短時
間で安定している。
本発明のホットプレートは、所望の温度以上に被加熱物
を加熱する事なく、又、従来のホットプレートより短時
間で安定している。
本発明は、以上説明した様に、ホットプレートの内部に
少量の液体を入れた密閉空洞構造を設ける事により、気
体の潜熱による熱交換を利用し、短時間で均一なホット
プレート温度を得る事ができ、安定した実装状態を得る
事が出来る。
少量の液体を入れた密閉空洞構造を設ける事により、気
体の潜熱による熱交換を利用し、短時間で均一なホット
プレート温度を得る事ができ、安定した実装状態を得る
事が出来る。
第1図は本発明のホットプレート構造を示す図。
第2図はこの発明にかかる実施例を示す図。
第3図は、比較例を示す図。
第4図は、従来のホットプレート構造を示す図。
1・・・密閉空洞部
2・・・液体
3・・・ヒーター
4・・・蒸気
5・・・凝縮した液体
6・・・ホットプレート上部
7・・・テーパ一部
8・・・金属板
9・・・熱雷対
以 上
第1図
第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 被加熱物を、被加熱部下側より熱を加え加熱するホット
プレートにおいて、 前記ホットプレートの内部に少量の液体を入れた密閉空
洞構造(ヒートパイプ構造)を有する事を特徴とするホ
ットプレート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30671087A JPH01146511A (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 | ホットプレート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30671087A JPH01146511A (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 | ホットプレート |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01146511A true JPH01146511A (ja) | 1989-06-08 |
Family
ID=17960373
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30671087A Pending JPH01146511A (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 | ホットプレート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01146511A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11070914B2 (en) | 2017-08-22 | 2021-07-20 | Sony Corporation | Controller and control method |
-
1987
- 1987-12-03 JP JP30671087A patent/JPH01146511A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11070914B2 (en) | 2017-08-22 | 2021-07-20 | Sony Corporation | Controller and control method |
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