JPH01143385A - X線レーザー発振源 - Google Patents
X線レーザー発振源Info
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- JPH01143385A JPH01143385A JP29978087A JP29978087A JPH01143385A JP H01143385 A JPH01143385 A JP H01143385A JP 29978087 A JP29978087 A JP 29978087A JP 29978087 A JP29978087 A JP 29978087A JP H01143385 A JPH01143385 A JP H01143385A
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- 230000010355 oscillation Effects 0.000 title claims description 19
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 claims description 2
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 abstract description 38
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 5
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000005596 ionic collisions Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S4/00—Devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in wave ranges other than those covered by groups H01S1/00, H01S3/00 or H01S5/00, e.g. phonon masers, X-ray lasers or gamma-ray lasers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、X線領域に属する波長の光を発生するX線レ
ーザー発振源に関し、特に、レーザー生成プラズマを衝
突せしめてプラズマ中イオンに反転分布を形成させるX
線レーザー発振源に関する。
ーザー発振源に関し、特に、レーザー生成プラズマを衝
突せしめてプラズマ中イオンに反転分布を形成させるX
線レーザー発振源に関する。
[従来の技術]
近年、レーザーを固体乙こ集光照射することによりプラ
ズマを発生せしめ、これにより線スペクトルX線を発光
させるX線レーザー発振源が利用されている。
ズマを発生せしめ、これにより線スペクトルX線を発光
させるX線レーザー発振源が利用されている。
しかし、従来のX線レーザー発振源では、単一レーザー
を固体に照射し、これにより生成したプラズマから発光
するX線を利用していた。すなわぢ、生成したプラズマ
が固体に衝突する場合の高速クーリング、あるいは単一
プラズマ中での遷移を利用してX線を発生させていた。
を固体に照射し、これにより生成したプラズマから発光
するX線を利用していた。すなわぢ、生成したプラズマ
が固体に衝突する場合の高速クーリング、あるいは単一
プラズマ中での遷移を利用してX線を発生させていた。
し解決すべき問題点]
上述した従来のX線レーザー発振源は、単一レーザーに
よって生成した単一プラズマを利用するものであったた
め、イオンの励起はそれ自身てしか行なわれず、また、
プラズマの容量はレーザーの集光度によって制限され、
むやみに大きくするこ料ができないため、プラズマの反
転分布形成を十分に行なうことができないという問題点
があった。
よって生成した単一プラズマを利用するものであったた
め、イオンの励起はそれ自身てしか行なわれず、また、
プラズマの容量はレーザーの集光度によって制限され、
むやみに大きくするこ料ができないため、プラズマの反
転分布形成を十分に行なうことができないという問題点
があった。
さらに、レーザー生成プラズマによって発生するX線に
は、イオンを励起する作用があり、特に、レーザーを照
射する固体の法線方向で最大の強度を有しているが、従
来のX線レーザー発振源では、単一プラズマを利用して
いたため、発生されたX線によるイオンの励起を有効に
利用てきないという問題点もあった。
は、イオンを励起する作用があり、特に、レーザーを照
射する固体の法線方向で最大の強度を有しているが、従
来のX線レーザー発振源では、単一プラズマを利用して
いたため、発生されたX線によるイオンの励起を有効に
利用てきないという問題点もあった。
本発明は、上記問題点にかんがみてなされたもので、プ
ラズマの反転分布形成を助長し、X線レーザーの発生効
率を上げることが可能なX線レーザー発振源の提供を目
的とする。
ラズマの反転分布形成を助長し、X線レーザーの発生効
率を上げることが可能なX線レーザー発振源の提供を目
的とする。
[問題点の解決手段]
上記目的を達成するため、本発明のX線レーザー発振源
は、互いに略90°の角度で面する二面を有し、レーザ
ーを照射することによってX線発光プラズマを発生させ
る固体と、この固体が有する二面のそれぞれにレーザー
を照射するにあたり、その照射面の法線が交差する位置
にレーザーを照射するレーザー集光手段とを備えた構成
としである。
は、互いに略90°の角度で面する二面を有し、レーザ
ーを照射することによってX線発光プラズマを発生させ
る固体と、この固体が有する二面のそれぞれにレーザー
を照射するにあたり、その照射面の法線が交差する位置
にレーザーを照射するレーザー集光手段とを備えた構成
としである。
かかる構成とすることにより、固体に二本のレーザーを
集光照射した際、二か所から発生したプラズマが衝突し
、容易にプラズマの再結合が行なわれる結果、連続X線
発光や高速電子−イオン衝突が可能となり、プラズマ中
のイオンの反転分布形成を助長せしめ、X線レーザーの
発生効率を高めることができる。
集光照射した際、二か所から発生したプラズマが衝突し
、容易にプラズマの再結合が行なわれる結果、連続X線
発光や高速電子−イオン衝突が可能となり、プラズマ中
のイオンの反転分布形成を助長せしめ、X線レーザーの
発生効率を高めることができる。
[実施例コ
以下、図面にもとづいて本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一実施例に係るX線レーザー発振源に
おけるプラズマ発生部の断面図、第2図は第1図のX線
レーザー発振源におけるプラズマ発生後のプラズマ発生
部の側面図、第3図は第1図のX線レーザー発振源の斜
視図である。
おけるプラズマ発生部の断面図、第2図は第1図のX線
レーザー発振源におけるプラズマ発生後のプラズマ発生
部の側面図、第3図は第1図のX線レーザー発振源の斜
視図である。
第1〜3図において、1は90°程度に折った固体板、
2は集光レンズ、3はミラーである。そして、図示して
いないレーザー発振器からレーザー増幅器を経て出力さ
れた高出力レーザー5をミラー3によって反射させ、さ
らに集光レンズ2によって固体板1上に集光照射する。
2は集光レンズ、3はミラーである。そして、図示して
いないレーザー発振器からレーザー増幅器を経て出力さ
れた高出力レーザー5をミラー3によって反射させ、さ
らに集光レンズ2によって固体板1上に集光照射する。
これによって、固体板1上にプラズマ6が発生する。な
お、本実施例では、この二本の高出力レーザー5は波長
0.25μm程度から1.1μm程度のものを使用して
いる。
お、本実施例では、この二本の高出力レーザー5は波長
0.25μm程度から1.1μm程度のものを使用して
いる。
上記構成において、二本のレーザーは、90゜程度に折
られた固体板1に同時に集光照射され、プラズマ化され
る。このとき、二本のレーザー5は90″程度で面する
二面のそれぞれに照射されている。このため、二か所か
ら発生したプラズマ6は、第2図に示すように、固体板
1の中央部で互いに衝突し、高速に再結合されて連続X
線を発生する。
られた固体板1に同時に集光照射され、プラズマ化され
る。このとき、二本のレーザー5は90″程度で面する
二面のそれぞれに照射されている。このため、二か所か
ら発生したプラズマ6は、第2図に示すように、固体板
1の中央部で互いに衝突し、高速に再結合されて連続X
線を発生する。
また、それぞれのプラズマ6は連続あるいはスペクトル
X線を発生するが、それによってプラズマのイオンが励
起されるのは上述した通りである。
X線を発生するが、それによってプラズマのイオンが励
起されるのは上述した通りである。
また、その際に、固体の法線方向のX線はその作用の強
度が最も強いことも上述した。
度が最も強いことも上述した。
しかるに、この場合、その法線方向のX線が他方のプラ
ズマに有効に作用し、プラズマ中のイオンの励起を促進
する。
ズマに有効に作用し、プラズマ中のイオンの励起を促進
する。
さらに、プラズマ衝突によって高速電子−イオン衝突が
起こり易くなるため、イオンを励起する作用がより強く
なる。
起こり易くなるため、イオンを励起する作用がより強く
なる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものでなく、要
旨の範囲内における種々変形例を含むものである。例え
ば、上述の実施例では、−枚の固体板を折り曲げたもの
を利用しているが、二枚の固体板を別個に設置すること
もてきる。また、レーザーの数も二本には限られない。
旨の範囲内における種々変形例を含むものである。例え
ば、上述の実施例では、−枚の固体板を折り曲げたもの
を利用しているが、二枚の固体板を別個に設置すること
もてきる。また、レーザーの数も二本には限られない。
さらに、固体を切り欠いて互いに略90°で面する二面
を作ることもてきる。
を作ることもてきる。
[発明の効果]
以上説明したように本発明は、二本のレーザーを固体に
照射して発生する二つのプラズマをごく近傍に置くこと
ができ、プラズマの衝突による再結合連続X線の発光、
および発光した連続X線やスペクトルX線によるイオン
の励起、さらには高速電子−イオン衝突によるイオンの
励起を容易にする結果、プラズマの反転分布形成を助長
することができ、X線レーザーの発生効率が高いX線レ
ーザー発振源を提供できるという効果がある。
照射して発生する二つのプラズマをごく近傍に置くこと
ができ、プラズマの衝突による再結合連続X線の発光、
および発光した連続X線やスペクトルX線によるイオン
の励起、さらには高速電子−イオン衝突によるイオンの
励起を容易にする結果、プラズマの反転分布形成を助長
することができ、X線レーザーの発生効率が高いX線レ
ーザー発振源を提供できるという効果がある。
第1図は本発明の一実施例に係るX線レーザー発振源に
おけるプラズマ発生部の断面図、第2図は第1図のX線
レーザー発振源におけるプラズマ発生後のプラズマ発生
部の側面図、第3図は第1図のX線レーザー発振源の斜
視図である。 1:固体板 2:集光レンズ 3:ミラー 5:レーザー 6:プラズマ
おけるプラズマ発生部の断面図、第2図は第1図のX線
レーザー発振源におけるプラズマ発生後のプラズマ発生
部の側面図、第3図は第1図のX線レーザー発振源の斜
視図である。 1:固体板 2:集光レンズ 3:ミラー 5:レーザー 6:プラズマ
Claims (2)
- (1)互いに略90°の角度で面する二面を有し、レー
ザーを照射することによってX線発光プラズマを発生さ
せる固体と、この固体が有する二面のそれぞれにレーザ
ーを照射するにあたり、その照射面の法線が交差する位
置にレーザーを照射するレーザー集光手段とを具備する
ことを特徴とするX線レーザー発振源。 - (2)前記固体が、略90°に折り曲げた固体板である
特許請求の範囲第1項記載のX線レーザー発振源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29978087A JPH01143385A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | X線レーザー発振源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29978087A JPH01143385A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | X線レーザー発振源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01143385A true JPH01143385A (ja) | 1989-06-05 |
Family
ID=17876863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29978087A Pending JPH01143385A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | X線レーザー発振源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01143385A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000060909A1 (fr) * | 1999-03-31 | 2000-10-12 | Japan As Represented By Director General Of Agency Of Industrial Science And Technology | Source de lumiere laser plasma et procede de production de rayonnement l'utilisant |
EP1309234A3 (en) * | 2001-10-25 | 2009-04-01 | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | Method and apparatus for elimination of high energy ions from EUV radiating device |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP29978087A patent/JPH01143385A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000060909A1 (fr) * | 1999-03-31 | 2000-10-12 | Japan As Represented By Director General Of Agency Of Industrial Science And Technology | Source de lumiere laser plasma et procede de production de rayonnement l'utilisant |
US6275565B1 (en) * | 1999-03-31 | 2001-08-14 | Agency Of Industrial Science And Technology | Laser plasma light source and method of generating radiation using the same |
EP1309234A3 (en) * | 2001-10-25 | 2009-04-01 | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | Method and apparatus for elimination of high energy ions from EUV radiating device |
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