JPH01141840A - 線状ガラス材のコーティング方法 - Google Patents
線状ガラス材のコーティング方法Info
- Publication number
- JPH01141840A JPH01141840A JP62301228A JP30122887A JPH01141840A JP H01141840 A JPH01141840 A JP H01141840A JP 62301228 A JP62301228 A JP 62301228A JP 30122887 A JP30122887 A JP 30122887A JP H01141840 A JPH01141840 A JP H01141840A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- glass material
- linear glass
- vacuum
- rotation axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 25
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 abstract description 34
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 15
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 13
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 abstract description 8
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 5
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000005002 finish coating Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/12—General methods of coating; Devices therefor
- C03C25/22—Deposition from the vapour phase
- C03C25/226—Deposition from the vapour phase by sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
- C03C25/1061—Inorganic coatings
- C03C25/1063—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/12—General methods of coating; Devices therefor
- C03C25/22—Deposition from the vapour phase
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、線状ガラス材、特に光ファイバに所定のコ
ーティング材を真空蒸着法、スパッタリング法等により
被覆する光ファイバのコーティング方法に関する。
ーティング材を真空蒸着法、スパッタリング法等により
被覆する光ファイバのコーティング方法に関する。
線状ガラス材への被覆方法には化学的方法としてペース
トめっき法、電界めっき法及び無電界めっき法があり、
物理的方法として真空蒸着法及びスパッタリング法があ
る。
トめっき法、電界めっき法及び無電界めっき法があり、
物理的方法として真空蒸着法及びスパッタリング法があ
る。
上被覆方法のうち、線状ガラス材表面上にコーティング
する場合には、従来無電界めっき法又は真空蒸着法が用
いられてきた。
する場合には、従来無電界めっき法又は真空蒸着法が用
いられてきた。
無電界めっき法は、専ら1μm以上の厚膜形成に適して
おり、−船釣に0表面エツチング、■脱脂、■第1表面
活性化、■第1めっき、■第2表面活性化、■第2めっ
き、■乾燥、の工程を経て行われるので全工程数が多く
、めっき時間が長くなるという欠点があった。また、各
めっき及び表面活性化のための浴は、濃度・温度の微妙
な変化が被覆の品質に大きな影響を与えることから、高
精度な管理が必要になる。さらに、各浴は有害物質を一
般的に使用することから、廃液を処理するための複雑な
工程を経なければならない。
おり、−船釣に0表面エツチング、■脱脂、■第1表面
活性化、■第1めっき、■第2表面活性化、■第2めっ
き、■乾燥、の工程を経て行われるので全工程数が多く
、めっき時間が長くなるという欠点があった。また、各
めっき及び表面活性化のための浴は、濃度・温度の微妙
な変化が被覆の品質に大きな影響を与えることから、高
精度な管理が必要になる。さらに、各浴は有害物質を一
般的に使用することから、廃液を処理するための複雑な
工程を経なければならない。
一方、真空蒸着法は、専ら1μm以下の薄膜形成に適し
ており、−船釣に0表面洗浄、■真空引、■第1蒸着、
■第2蒸着、の工程を経て行われる。
ており、−船釣に0表面洗浄、■真空引、■第1蒸着、
■第2蒸着、の工程を経て行われる。
ところが、真空蒸着法は、本来平面状ガラス材に対する
コーティング法として確立された技術であり、線状(円
柱状)ガラス材側面へ蒸着する場合均質な膜を形成する
ことができなかった。そのため、外部環境に対する線状
ガラス材の耐腐蝕性、被覆強度及び耐熱性が悪いという
欠点があった。
コーティング法として確立された技術であり、線状(円
柱状)ガラス材側面へ蒸着する場合均質な膜を形成する
ことができなかった。そのため、外部環境に対する線状
ガラス材の耐腐蝕性、被覆強度及び耐熱性が悪いという
欠点があった。
そこでこの発明は、少ない工程で線状ガラス材に均質な
膜を形成することにより、外部環境に対する線状ガラス
材の耐腐蝕性、被覆強度及び耐熱性の向上を図るもので
ある。
膜を形成することにより、外部環境に対する線状ガラス
材の耐腐蝕性、被覆強度及び耐熱性の向上を図るもので
ある。
上記問題点を解決するためこの発明は、線状ガラス材に
コーティング材を真空蒸着法により被覆する線状ガラス
材のコーティング方法において、被覆すべき線状ガラス
材を着脱自在の線状ガラス材固定治具に固定し、真空雰
囲気中におく真空工程と、真空雰囲気中におかれた線状
ガラス材固定治具を、線状ガラス材の光軸とほぼ平行す
る回転軸の周りに回転させながらコーティング材を被覆
する被覆工程を備えて構成されることを特徴とする。
コーティング材を真空蒸着法により被覆する線状ガラス
材のコーティング方法において、被覆すべき線状ガラス
材を着脱自在の線状ガラス材固定治具に固定し、真空雰
囲気中におく真空工程と、真空雰囲気中におかれた線状
ガラス材固定治具を、線状ガラス材の光軸とほぼ平行す
る回転軸の周りに回転させながらコーティング材を被覆
する被覆工程を備えて構成されることを特徴とする。
この発明は以上のように構成されるので、真空工程及び
被覆工程の相互作用により、少ない工程で線状ガラス材
に均質な膜を形成することができる。ここで真空工程は
線状ガラス材の外気を真空化し、被覆工程は線状ガラス
材をその光軸とほぼ平行する回転軸の周りに回転させる
と共に被覆材の被覆を行う。
被覆工程の相互作用により、少ない工程で線状ガラス材
に均質な膜を形成することができる。ここで真空工程は
線状ガラス材の外気を真空化し、被覆工程は線状ガラス
材をその光軸とほぼ平行する回転軸の周りに回転させる
と共に被覆材の被覆を行う。
以下、この発明に係る線状ガラス材のコーティング方法
の一実施例を添付図面に基づき説明する。
の一実施例を添付図面に基づき説明する。
なお説明において、同一要素には同一符号を用い、重複
する説明は省略する。この実施例では、線状ガラス材と
して光ファイバを使用するが、光ファイバに限定されな
いことはいうまでもない。
する説明は省略する。この実施例では、線状ガラス材と
して光ファイバを使用するが、光ファイバに限定されな
いことはいうまでもない。
第1図はこの発明に係る光ファイバのコーティング方法
の一実施例を示す工程図であり、第2図はこの実施例に
使用する装置を示す斜視図である。
の一実施例を示す工程図であり、第2図はこの実施例に
使用する装置を示す斜視図である。
まず光ファイバは、アセトンを浸したやわらかい布又は
紙でふき取られ、ファイバ固定治具に固定される。光フ
ァイバが特に汚れていなければ、上記工程は不要である
。
紙でふき取られ、ファイバ固定治具に固定される。光フ
ァイバが特に汚れていなければ、上記工程は不要である
。
第2図(a)は、光ファイバ(2)、(2)。
(2)を着脱自在に保持するファイバ固定治具の一例を
示すものである。ファイバ固定治具(1)は、回転軸(
図示せず)を有する円板(1a)上に回転軸方向で着脱
自在のファイバ用チャック(lb)、(lb)、(lb
)を上記回転軸と対称な位置に備えて構成されている。
示すものである。ファイバ固定治具(1)は、回転軸(
図示せず)を有する円板(1a)上に回転軸方向で着脱
自在のファイバ用チャック(lb)、(lb)、(lb
)を上記回転軸と対称な位置に備えて構成されている。
従って、光ファイバ(2)、(2)、(2)は回転軸と
ほぼ平行に設置される。
ほぼ平行に設置される。
第2図(b)は、光ファイバの有機溶剤洗浄及び超音波
洗浄をするための洗浄装置の一例を示すものである。こ
の洗浄装置(3)は、基本的に有機溶剤洗浄部(3a)
と超音波洗浄部(3b)で構成されている。有機溶剤洗
浄部(3a)及び超音波洗浄部(3b)は、いずれも容
器を含んで構成されており、有機溶剤洗浄部(3a)は
、超音波洗浄部(3b)の容器内に収納されている。な
お、有機溶剤洗浄部(3a)の容器内にはアセトン等の
有機溶剤(a)、超音波洗浄部(3b)の容器内には超
音波振動を伝達する媒体として、たとえば水(b)が満
たされている。有機溶剤洗浄部(3a)の容器は、少な
くとも前述したファイバ固定治具(1)を収納できるよ
うに、固定治具支持台(3c)が設けられている。従っ
て、ファイバ固定治具(1)を固定治具支持台(3c)
に取付けることにより、光ファイバ(2)、(2)’。
洗浄をするための洗浄装置の一例を示すものである。こ
の洗浄装置(3)は、基本的に有機溶剤洗浄部(3a)
と超音波洗浄部(3b)で構成されている。有機溶剤洗
浄部(3a)及び超音波洗浄部(3b)は、いずれも容
器を含んで構成されており、有機溶剤洗浄部(3a)は
、超音波洗浄部(3b)の容器内に収納されている。な
お、有機溶剤洗浄部(3a)の容器内にはアセトン等の
有機溶剤(a)、超音波洗浄部(3b)の容器内には超
音波振動を伝達する媒体として、たとえば水(b)が満
たされている。有機溶剤洗浄部(3a)の容器は、少な
くとも前述したファイバ固定治具(1)を収納できるよ
うに、固定治具支持台(3c)が設けられている。従っ
て、ファイバ固定治具(1)を固定治具支持台(3c)
に取付けることにより、光ファイバ(2)、(2)’。
(2)を有機溶剤(a)中に浸すことができる。
光ファイバ(2)、(2)、(2)は所定の時間有機溶
剤(a)中に浸された後、超音波振動にょり洗浄される
。
剤(a)中に浸された後、超音波振動にょり洗浄される
。
第2図(C)は、洗浄された光ファイバ(2)。
(2)、(2)を真空中で蒸着するための真空蒸着装置
の一例を示すものである。この真空蒸着装置(4)は、
基本的に固定治具保持手段(図示せず)、回転力供給手
段、外気吸引手段(図示せず)及び蒸着手段を含んで構
成される。回転力供給手段としてはDCモータ、ACモ
ータ等があり、外気吸引手段としては真空ポンプ、遠心
ポンプ等がある。光ファイバ(2)、(2)、(2)を
固定したファイバ固定治具(1)は、上記固定治具手段
(図示せず)で保持され、DCモータ(4a)により真
空中で回転する。コーティング材は、蒸着金属ボート(
4c)、(4d)から供給される。
の一例を示すものである。この真空蒸着装置(4)は、
基本的に固定治具保持手段(図示せず)、回転力供給手
段、外気吸引手段(図示せず)及び蒸着手段を含んで構
成される。回転力供給手段としてはDCモータ、ACモ
ータ等があり、外気吸引手段としては真空ポンプ、遠心
ポンプ等がある。光ファイバ(2)、(2)、(2)を
固定したファイバ固定治具(1)は、上記固定治具手段
(図示せず)で保持され、DCモータ(4a)により真
空中で回転する。コーティング材は、蒸着金属ボート(
4c)、(4d)から供給される。
この場合、光ファイバ(2)、(2)、(2)の光軸と
回転軸はほぼ平行である。
回転軸はほぼ平行である。
次に第1図に基づき、この実施例に係る光ファイバのコ
ーティング方法を説明する。ステップ(101)では、
有機溶剤洗浄がなされる。光ファイバ(2)、(2)、
(2)、は、第2図(a)のように把持され、洗浄装置
(3)の固定治具支持台(3C)に取付けられる。この
状態で光ファイバ(2)、(2)、(2)はアセトン等
の有機溶剤(a)に浸される。アセトン等の有機溶剤(
a)に浸された状態で、光ファイバ(2)。
ーティング方法を説明する。ステップ(101)では、
有機溶剤洗浄がなされる。光ファイバ(2)、(2)、
(2)、は、第2図(a)のように把持され、洗浄装置
(3)の固定治具支持台(3C)に取付けられる。この
状態で光ファイバ(2)、(2)、(2)はアセトン等
の有機溶剤(a)に浸される。アセトン等の有機溶剤(
a)に浸された状態で、光ファイバ(2)。
(2)、(2)は超音波で洗浄される(ステップ(10
1))この超音波洗浄により洗浄工程を終了する。なお
、以上の工程は前述したように、光ファイバ(2)、(
2)、(2)が特に汚れていなければ不要である。
1))この超音波洗浄により洗浄工程を終了する。なお
、以上の工程は前述したように、光ファイバ(2)、(
2)、(2)が特に汚れていなければ不要である。
次に、ステップ(103)では、ファイバ固定治具(1
)を固定治具保持手段に取付け、光ファイバ(2)、(
2)、(2)を所定のチャンバ内に収納する。チャンバ
内の外気はポンプ等により吸引される。所定の真空状態
に至ると、ファイバ固定治具(1)を所定の速度で回転
させる(ステップ(104))。
)を固定治具保持手段に取付け、光ファイバ(2)、(
2)、(2)を所定のチャンバ内に収納する。チャンバ
内の外気はポンプ等により吸引される。所定の真空状態
に至ると、ファイバ固定治具(1)を所定の速度で回転
させる(ステップ(104))。
最後に、コーティング材をエレクトロビーム法あるいは
抵抗加熱法等で順次被覆しくステップ(105)) 、
光ファイバのコーティングを終了する。
抵抗加熱法等で順次被覆しくステップ(105)) 、
光ファイバのコーティングを終了する。
以下、この実施例に基づく実験の具体例を説明する。光
ファイバ(2)、(2)、(2)を固定したファイバ固
定治具(1)を洗°浄装置(3)に取付け、光ファイバ
(2)、(2)、(2)を約1時間アセトン(a)中に
浸す。さらに光ファイバ(2)、(2)、(2)を約5
分程度超音波洗浄した後、ファイバ固定治具(1)を洗
浄装置(3)から取りはずす。
ファイバ(2)、(2)、(2)を固定したファイバ固
定治具(1)を洗°浄装置(3)に取付け、光ファイバ
(2)、(2)、(2)を約1時間アセトン(a)中に
浸す。さらに光ファイバ(2)、(2)、(2)を約5
分程度超音波洗浄した後、ファイバ固定治具(1)を洗
浄装置(3)から取りはずす。
次にファイバ固定治具(1)を真空蒸着装置(4)に取
付け、光ファイバ(2)、(2)。
付け、光ファイバ(2)、(2)。
(2)をチャンバ内に収納する。チャンバ内は真空度1
0−5〜10−6torrまで真空引され、ファイバ固
定治具(1)を回転させながら、T i −N 1−A
uが順に蒸着される。この時チャンバ内の温度は制御し
ない。
0−5〜10−6torrまで真空引され、ファイバ固
定治具(1)を回転させながら、T i −N 1−A
uが順に蒸着される。この時チャンバ内の温度は制御し
ない。
TL及びNLは、エレクトロビーム法、Auは抵抗加熱
法でそれぞれ蒸着される。Tiを蒸着する際のエレクト
ロビーム法における電流及び蒸着速度は、200mA及
び14A/seeであり、Niを蒸着するときのエレク
トロビームの電流及び蒸着速度は、400mA及び9A
/seeである。
法でそれぞれ蒸着される。Tiを蒸着する際のエレクト
ロビーム法における電流及び蒸着速度は、200mA及
び14A/seeであり、Niを蒸着するときのエレク
トロビームの電流及び蒸着速度は、400mA及び9A
/seeである。
また、Auを蒸着する際の抵抗加熱法における電流及び
電圧は、80〜90A及び60〜80Vである。
電圧は、80〜90A及び60〜80Vである。
第3図は、゛コーティング終了後の光ファイバのそれぞ
れの膜厚は、Ti(5)及びN1(6)が500ASA
u (7)が3000Aで、各金属蒸着後のスコッチテ
ープによるひきはがし及び300℃で10分間の耐熱試
験を行ったが、被覆材のはがれはなかった。なお、この
実施例では真空蒸着法への応用例で説明したが、特に真
空蒸着法に限定されるものではなく、たとえばスパッタ
リング法にも適用できる。
れの膜厚は、Ti(5)及びN1(6)が500ASA
u (7)が3000Aで、各金属蒸着後のスコッチテ
ープによるひきはがし及び300℃で10分間の耐熱試
験を行ったが、被覆材のはがれはなかった。なお、この
実施例では真空蒸着法への応用例で説明したが、特に真
空蒸着法に限定されるものではなく、たとえばスパッタ
リング法にも適用できる。
この発明は以上説明したように構成されるので、光ファ
イバ等の線状ガラス材に均質の膜を形成することができ
、外部環境に対する線状ガラス材の耐腐蝕性、被覆強度
及び耐熱性の向上が図れる。
イバ等の線状ガラス材に均質の膜を形成することができ
、外部環境に対する線状ガラス材の耐腐蝕性、被覆強度
及び耐熱性の向上が図れる。
なお、従来のコーティング法(無電界めっき法)と比べ
、全工程数が少ないのでコーティング時間の短縮化が図
れ、コーティングを施した光ファイバの生産効率が向上
する。
、全工程数が少ないのでコーティング時間の短縮化が図
れ、コーティングを施した光ファイバの生産効率が向上
する。
第1図はこの発明に係る光ファイバのコーティング方法
の一実施例を示す工程図、第2図はこの実施例に使用さ
れる装置の斜視図、第3図はコーティング後の光ファイ
バの断面図である。 1・・・ファイバ固定治具、2・・・光ファイバ、3・
・・洗浄装置、4・・・真空蒸着装置、5・・・第1層
金属(Ti)、6・・・第2層金属(Ni)、7・・・
第3層金属(Au)。 特許出願人 住友電気工業株式会社 代理人弁理士 長谷用 芳 樹間
山 1) 汀 −光ファイバのコ
ーティング方法 第1図 (a) (C) 使用 獅 (b) 1される装置 52図
の一実施例を示す工程図、第2図はこの実施例に使用さ
れる装置の斜視図、第3図はコーティング後の光ファイ
バの断面図である。 1・・・ファイバ固定治具、2・・・光ファイバ、3・
・・洗浄装置、4・・・真空蒸着装置、5・・・第1層
金属(Ti)、6・・・第2層金属(Ni)、7・・・
第3層金属(Au)。 特許出願人 住友電気工業株式会社 代理人弁理士 長谷用 芳 樹間
山 1) 汀 −光ファイバのコ
ーティング方法 第1図 (a) (C) 使用 獅 (b) 1される装置 52図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、線状ガラス材にコーティング材を被覆する線状ガラ
ス材のコーティング方法において、被覆すべき線状ガラ
ス材を着脱自在の線状ガラス材固定治具に固定し、真空
雰囲気中におく真空工程と、 真空雰囲気中におかれた前記線状ガラス材固定治具を、
前記線状ガラス材の光軸とほぼ平行する回転軸の周りに
回転させながら前記コーティング材を被覆する被覆工程
を備えて構成されることを特徴とする線状ガラス材のコ
ーティング方法。 2、前記線状ガラス材固定治具における線状ガラス材の
固定位置が、前記回転軸に対して対称であるところの特
許請求の範囲第1項記載の線状ガラス材のコーティング
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62301228A JPH01141840A (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 線状ガラス材のコーティング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62301228A JPH01141840A (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 線状ガラス材のコーティング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01141840A true JPH01141840A (ja) | 1989-06-02 |
Family
ID=17894321
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62301228A Pending JPH01141840A (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 線状ガラス材のコーティング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01141840A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000241678A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Lucent Technol Inc | 可変厚さの金属製コーティングを具備する光ファイバーデバイスの製造方法。 |
ITCS20120003A1 (it) * | 2012-01-20 | 2013-07-21 | Calctec Calabria Liquid Crystals Technology S R | Macchina per la deposizione controllata su fibre ottiche di materiali in fase liquida, polimerici, non polimerici, fotosensibili e non, anche in soluzione. |
-
1987
- 1987-11-27 JP JP62301228A patent/JPH01141840A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000241678A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Lucent Technol Inc | 可変厚さの金属製コーティングを具備する光ファイバーデバイスの製造方法。 |
ITCS20120003A1 (it) * | 2012-01-20 | 2013-07-21 | Calctec Calabria Liquid Crystals Technology S R | Macchina per la deposizione controllata su fibre ottiche di materiali in fase liquida, polimerici, non polimerici, fotosensibili e non, anche in soluzione. |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2019104169A (ja) | 金属被覆樹脂基材 | |
JPH01141840A (ja) | 線状ガラス材のコーティング方法 | |
US5534296A (en) | Process for the pre-treatment of light metals and articles produced | |
US3871902A (en) | Method of coating a spacecraft shell surface | |
JPH10298746A (ja) | 導電性薄膜被覆装置 | |
JPH0514030B2 (ja) | ||
CN114093648A (zh) | 一种铁氧体磁环表面的涂胶方法 | |
JP2002088468A (ja) | 金属蒸着被膜における突起物生成の抑制方法 | |
CN115323338B (zh) | 一种微小型透镜的镀膜方法 | |
CN218232551U (zh) | 一种薄膜制备装置 | |
JPS5958631A (ja) | 磁気デイスク塗布方法 | |
JPH07106292A (ja) | 半導体ウエハの洗浄装置 | |
JPH0691202A (ja) | 超高速遠心分離機用ロータおよびその製法 | |
CN105164591A (zh) | 用于处理微机械部件的支座 | |
TWI245807B (en) | Coating apparatus | |
US20240150886A1 (en) | Sputtering apparatus and related systems and methods for sputtering substrates | |
JPH10158670A (ja) | マイクロマシンのための単一層潤滑剤 | |
JP2000256865A (ja) | 無電解めっき方法およびその装置 | |
JPS6333571A (ja) | 球状物の成膜方法 | |
JPH09192587A (ja) | コーティング方法 | |
JPS59136500A (ja) | 電着塗装方法及び装置 | |
CN116397202A (zh) | 光纤表面金属化的镀膜装置及其镀膜的方法 | |
JP2913813B2 (ja) | 成膜方法および成膜装置 | |
JPS5837029B2 (ja) | 物品の被覆方法 | |
TWM264280U (en) | Vacuum vapor deposition apparatus |