JPH01140600A - 誘導プラズマ発生装置 - Google Patents
誘導プラズマ発生装置Info
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- JPH01140600A JPH01140600A JP62299297A JP29929787A JPH01140600A JP H01140600 A JPH01140600 A JP H01140600A JP 62299297 A JP62299297 A JP 62299297A JP 29929787 A JP29929787 A JP 29929787A JP H01140600 A JPH01140600 A JP H01140600A
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- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 title 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims abstract description 28
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 7
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Plasma Technology (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、誘導プラズマ発生装置に関し、更に詳しくは
、そのトーチ構造に改良を施した誘導プラズマ発生装置
に関する。
、そのトーチ構造に改良を施した誘導プラズマ発生装置
に関する。
（従来の技術）
物体の表面の耐熱性を向上させる目的で、耐熱性に秀れ
た粉末をプラズマ（温度約１万度）中に通して溶かし、
物体の表面に溶射することが行われる。
た粉末をプラズマ（温度約１万度）中に通して溶かし、
物体の表面に溶射することが行われる。
第３図はこのような粉末溶射装置の構成の一部として用
いられる誘導プラズマ発生装置の従来例を示す図である
。図において、１は円筒状の外管（石英管）で、その周
囲には加熱用のＲＦコイル２が巻回されており、該ＲＦ
コイル２は高周波電源３により駆動される。４は石英管
１の内部に設けられた石英でできた内管である。図にお
いて、Ｂはキャリヤガスと粉末の流体、Ａはプラズマを
石英管壁から離すためのシースガスの流体である。
いられる誘導プラズマ発生装置の従来例を示す図である
。図において、１は円筒状の外管（石英管）で、その周
囲には加熱用のＲＦコイル２が巻回されており、該ＲＦ
コイル２は高周波電源３により駆動される。４は石英管
１の内部に設けられた石英でできた内管である。図にお
いて、Ｂはキャリヤガスと粉末の流体、Ａはプラズマを
石英管壁から離すためのシースガスの流体である。
このような構成の下で高周波電源３からＲＦコイル２に
励ｌ１ｔｌｆｆｉ流を流すと、石英管１の下方（プラズ
マ形成室）に示すように誘導プラズマが発生する。発生
するプラズマの温度は１万度から１万５千度程度とかな
りの高温となる。小規模のブラズマ発生装置では、第３
図に示すように石英管（トーチともいう）１は一重管で
あるが、大規模な装置になると第４図に示゛すように石
英管１を二重構造とし、その間に冷却用の水を流すよう
になっている。
励ｌ１ｔｌｆｆｉ流を流すと、石英管１の下方（プラズ
マ形成室）に示すように誘導プラズマが発生する。発生
するプラズマの温度は１万度から１万５千度程度とかな
りの高温となる。小規模のブラズマ発生装置では、第３
図に示すように石英管（トーチともいう）１は一重管で
あるが、大規模な装置になると第４図に示゛すように石
英管１を二重構造とし、その間に冷却用の水を流すよう
になっている。
（発明が解決しようとする問題点）
前述したように発生するプラズマは１万度〜１万５千度
もの高温であり、当然に高輝度の強烈な光を発生する。
もの高温であり、当然に高輝度の強烈な光を発生する。
このプラズマの発生する光の輻射熱により、トーチの構
造部品（特にトーチの保持部材）を焼損させる。更に、
光に含まれる紫外線は石英管外周の空気をイオン化させ
、オゾンを発生させたり、イオン化された空気のために
ＲＦコイル２を放電（短絡）させてしまう。
造部品（特にトーチの保持部材）を焼損させる。更に、
光に含まれる紫外線は石英管外周の空気をイオン化させ
、オゾンを発生させたり、イオン化された空気のために
ＲＦコイル２を放電（短絡）させてしまう。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであって、
その目的は、トーチの構造部品の焼損とＲＦコイルの短
絡を防止して安定なプラズマを発生させることができる
誘導プラズマ発生装置を実現することにある。
その目的は、トーチの構造部品の焼損とＲＦコイルの短
絡を防止して安定なプラズマを発生させることができる
誘導プラズマ発生装置を実現することにある。
（問題点を解決するための手段）
前記した問題点を解決する本発明は、石英管の周囲に巻
回されたワークコイルに励磁電流を流して石英管内部に
誘導プラズマを発生さける誘導プラズマ発生装置におい
て、該石英管を２重化構成にしてその内部に冷却水を循
環させると共に、発生プラズマからの光を遮光するため
の円筒状遮光手段を設けたことを特徴とするものである
。
回されたワークコイルに励磁電流を流して石英管内部に
誘導プラズマを発生さける誘導プラズマ発生装置におい
て、該石英管を２重化構成にしてその内部に冷却水を循
環させると共に、発生プラズマからの光を遮光するため
の円筒状遮光手段を設けたことを特徴とするものである
。
（作用）
石英管の壁面に沿ってプラズマの発生する光を遮光する
ための遮光手段を設ける。
ための遮光手段を設ける。
（実施例）
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図である。
第４図と同一のものは同一の符号を付して示す。
第２図は第１図におけるに−に断面図である。図におい
て、１ｏがプラズマ２の発生する光が外部に出ないよう
に遮光する遮光手段である。この遮光手段１０は薄い部
材を円筒状に形成したもので、２重化された石英管１の
内部に配置される。遮光手段１ｏの材料としては、例え
ば光を通さない電気抵抗の少ない金属（例えば銀、銅、
アルミ等）或いはアルミナ等の絶縁物が用いられる。
て、１ｏがプラズマ２の発生する光が外部に出ないよう
に遮光する遮光手段である。この遮光手段１０は薄い部
材を円筒状に形成したもので、２重化された石英管１の
内部に配置される。遮光手段１ｏの材料としては、例え
ば光を通さない電気抵抗の少ない金属（例えば銀、銅、
アルミ等）或いはアルミナ等の絶縁物が用いられる。
遮光手段１０を銅等の金属で作る場合、位置的にＲＦコ
イル２の内側になる。従って、高周波電源３からＲＦコ
イル２に励磁電流を流すと、発生する磁界のために金属
円筒に渦電流が発生しエネルギーが奪われ、プラズマが
発生しなくなるおそれがある。そこで、第２図に示すよ
うに円筒の軸方向に少なくとも１個のスリット１０ａを
形成する。これにより、高周波抵抗が増え、渦電流の発
生を抑えることができる。尚、遮光手段１０を絶縁物で
構成した場合は、このようなスリットを形成する必要が
ないことはいうまでもない。
イル２の内側になる。従って、高周波電源３からＲＦコ
イル２に励磁電流を流すと、発生する磁界のために金属
円筒に渦電流が発生しエネルギーが奪われ、プラズマが
発生しなくなるおそれがある。そこで、第２図に示すよ
うに円筒の軸方向に少なくとも１個のスリット１０ａを
形成する。これにより、高周波抵抗が増え、渦電流の発
生を抑えることができる。尚、遮光手段１０を絶縁物で
構成した場合は、このようなスリットを形成する必要が
ないことはいうまでもない。
このように、２重化石英管１の円筒状の遮光手段１０を
設けることにより、石英管１の周囲に覆うことができる
ので、プラズマより発生した光が周囲にもれるのを防止
することができる。従って、光が外にもれないのでトー
チの構成部品を輻射熱により焼損することもなく、紫外
線ももれないので石英管周囲にオゾンを発生させること
もない。
設けることにより、石英管１の周囲に覆うことができる
ので、プラズマより発生した光が周囲にもれるのを防止
することができる。従って、光が外にもれないのでトー
チの構成部品を輻射熱により焼損することもなく、紫外
線ももれないので石英管周囲にオゾンを発生させること
もない。
この結果、ＲＦコイルが周囲のイオン化により短絡する
こともなくなる。尚、プラズマの発生するＷＡ射熱によ
り、遮光手段１０は加熱されるが２重化石英管１の内部
には図に示すように冷加水が環流しているので、温度上
昇することはない。
こともなくなる。尚、プラズマの発生するＷＡ射熱によ
り、遮光手段１０は加熱されるが２重化石英管１の内部
には図に示すように冷加水が環流しているので、温度上
昇することはない。
上記の説明では、遮光手段１０として金属円筒乃至は絶
縁円筒を用いた。しかしながら、必ずしも２重化石英管
の内部にこのような遮光円筒を設けなくてもよい。例え
ば石英管の壁面に光を通さない膜を蒸着する方法を用い
ることができる。このような方法を用いても、同様の効
果を上げることができる。尚、この場合でも、蒸着膜と
して金属膜を用いた場合には、渦電流発生防止用のスリ
ットを設ける必要がある。
縁円筒を用いた。しかしながら、必ずしも２重化石英管
の内部にこのような遮光円筒を設けなくてもよい。例え
ば石英管の壁面に光を通さない膜を蒸着する方法を用い
ることができる。このような方法を用いても、同様の効
果を上げることができる。尚、この場合でも、蒸着膜と
して金属膜を用いた場合には、渦電流発生防止用のスリ
ットを設ける必要がある。
（発明の効果）
以上詳細に説明したように、本発明によれば、２重化構
成の石英管の内部に遮光円筒を設けることにより・、ト
ーチの焼損とＲＦコイルの短絡を防止して安定なプラズ
マを発生させることができる誘導プラズマ発生装置を実
現することができる。
成の石英管の内部に遮光円筒を設けることにより・、ト
ーチの焼損とＲＦコイルの短絡を防止して安定なプラズ
マを発生させることができる誘導プラズマ発生装置を実
現することができる。
第１図、第２図は本発明の一実施例を示す構成図、第３
図、第４図は従来装置の桶成例を示す図である。 １・・・石英管 ２・・・ＲＦコイル３・・・
高周波電源 ４・・・内管１０・・・遮光手段
１０ａ・・・スリット特許出願人 日 本
電 子 株 式 会 礼式 理 人
弁 理 士 井 島 藤 冶外１名 第１５く 第２ 図
図、第４図は従来装置の桶成例を示す図である。 １・・・石英管 ２・・・ＲＦコイル３・・・
高周波電源 ４・・・内管１０・・・遮光手段
１０ａ・・・スリット特許出願人 日 本
電 子 株 式 会 礼式 理 人
弁 理 士 井 島 藤 冶外１名 第１５く 第２ 図
Claims (2)
- （１）石英管の周囲に巻回されたワークコイルに励磁電
流を流して石英管内部に誘導プラズマを発生させる誘導
プラズマ発生装置において、該石英管を２重化構成にし
てその内部に冷却水を循環させると共に、発生プラズマ
からの光を遮光するための円筒状遮光手段を設けたこと
を特徴とする誘導プラズマ発生装置。 - （２）前記円筒状遮光手段として鋼製の円筒を用いると
共に、円筒の軸方向に渦電流の発生を防止するための少
なくとも１個のスリットを形成したことを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の誘導プラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62299297A JPH01140600A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 誘導プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62299297A JPH01140600A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 誘導プラズマ発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01140600A true JPH01140600A (ja) | 1989-06-01 |
Family
ID=17870706
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62299297A Pending JPH01140600A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 誘導プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01140600A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008109155A (ja) * | 2007-12-19 | 2008-05-08 | Applied Materials Inc | プラズマ装置 |
| CN106954331A (zh) * | 2011-02-03 | 2017-07-14 | 泰克纳等离子系统公司 | 感应等离子体焰炬和管状焰炬体 |
-
1987
- 1987-11-26 JP JP62299297A patent/JPH01140600A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008109155A (ja) * | 2007-12-19 | 2008-05-08 | Applied Materials Inc | プラズマ装置 |
| CN106954331A (zh) * | 2011-02-03 | 2017-07-14 | 泰克纳等离子系统公司 | 感应等离子体焰炬和管状焰炬体 |
| CN106954331B (zh) * | 2011-02-03 | 2019-06-11 | 泰克纳等离子系统公司 | 感应等离子体焰炬和管状焰炬体 |
| US10893600B2 (en) | 2011-02-03 | 2021-01-12 | Tekna Plasma Systems Inc. | High performance induction plasma torch |
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