JPH01138751A - 光センサ−アレイ及び読み取り装置 - Google Patents

光センサ−アレイ及び読み取り装置

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JPH01138751A
JPH01138751A JP63029569A JP2956988A JPH01138751A JP H01138751 A JPH01138751 A JP H01138751A JP 63029569 A JP63029569 A JP 63029569A JP 2956988 A JP2956988 A JP 2956988A JP H01138751 A JPH01138751 A JP H01138751A
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JP
Japan
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electrode
light
substrate
semiconductor layer
optical sensor
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Pending
Application number
JP63029569A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoru Murakami
悟 村上
Akimine Hayashi
明峰 林
Yoshinori Yamaguchi
美則 山口
Takehisa Nakayama
中山 威久
Yoshihisa Owada
善久 太和田
Masataka Kondo
正隆 近藤
Jun Takada
純 高田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH01138751A publication Critical patent/JPH01138751A/ja
Priority to US07/611,385 priority patent/US5032718A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光センサーアレイ及び読み取り装置に関する。
さらに詳しくは、レンズ系やセルフォックスレンズが不
要となるばかりか、エツチング工程が不要となり、製品
の歩留りを向上させることができる光センサーアレイ及
び読み取り装置に関する。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課題]従来よ
り、ファクシミリ等の読み取り用センサーとしては、M
OSキャパシタを多数直線的に配列した構造をもつCO
D等の単結晶センサーや、非晶質半導体やCdSを用い
た密着型センサーが用いられている。しかしながら、単
結晶型センサーでは読み取り受光部が小さいものとなる
ため、読み取るべき原稿とセンサ一部との間に原稿から
の反射光を集光するためのレンズ等を含む光学的装置が
必要となり、そのために適当な光路長が必要となり、装
置が大型になるという問題がある。また、密着型センサ
ーは、セルフォックスレンズを用いて密着型にできるの
で装置の小型化が図れるものの、光センサーの上部にセ
ルフォックスレンズを設けなければならないという欠点
があった。
一方、最近、非晶質半導体を用いて、該半導体の一部を
エツチングにより除去し、その部分から光を入射させる
完全密着タイプのセンサーが提案されているが、このも
のは半導体層をエツチングするときに半導体層にピンホ
ールが発生し、歩留りを大幅に低下させるという問題が
ある。
本発明は、叙上の事情に鑑み、前記従来例の有する欠点
が解消された光センサーアレイ及び読み取り装置を提供
することを目的とする。即ち、本発明の目的は、レンズ
系やセルフォックスレンズが不要であり、半導体層にエ
ツチング等の処理を要しないため製品の歩留りを大幅に
向上させることのできる光センサーアレイ及び読み取り
装置を提供することである。
[課題を解決するための手段] 本発明の光センサーアレイは、透光性基板上に構成され
た光センサーアレイにおいて、感光部の光入射側透光性
基板内に光学ファイバー部が配置されてなることを特徴
としており、また、本発明の読み取り装置は、前記光セ
ンサーアレイと、発光部と、駆動用回路とから構成され
てなることを特徴としている。
[実施例] 次に図面に基づき本発明の光センサーアレイ及び読み取
り装置を説明する。
第1〜2図は本発明の第1の実施例に係る光センサーア
レイを示しており、同図において光センサーアレイはフ
ァイバーアレイ部(A)を構成する透光性基板(1)上
にセンサ一部(B)として透明な第1の電極(2)、半
導体層(3)及び第2の電極(4)がこの順序で形成さ
れてなる構造を有している。
透光性基板(1)としては、厚さが概ね0.5mm〜1
0amのガラス等を用いることができる。本発明の光セ
ンサーアレイの特徴は、ファイバーアレイ部(A)を構
成する前記透光性基板(1)が基板内に配置された光学
ファイバーから成る光学ファイバー部(5)を冑してい
ることである。したがって、透光性基板(1)自体がイ
メージ伝送プレートとなるため、イメージを光センサ一
部に伝送するためのレンズ系やセルフォックスレンズが
不要となる。
ファイバーアレイ部(A)の透光性基板(1)内に配置
された光学ファイバーの方向は、基板面に垂直である方
が好ましいが、第7b図(後述)に示される如く、45
°程度まで斜に傾いていても良く、その角度にとくに限
定はない。
光学ファイバー部(5)は第3図に示されるように一次
元配置としてもよいし、二次元配置(図示されず)とし
てもよい。光学ファイバーは、たとえば第4図に示され
るように六角形の束が連続するよう配列すればよい。こ
の束は、光センサーのセル1個あたり8個程度配列され
たユニットで、複数列構成される。1本の光学ファイバ
ーの断面積は、実質的な感光部の面積(第1の電極と第
2の電極が重なった部分の面積をいう。第1図参照)の
1/2以下、さらには174以下であるのが好ましい。
また1本の光学ファイバーの断゛面積は、0.1.ca
2以上であるのが好ましい。各ファイバーはコア部とク
ラッドで構成されたもの、あるいはその外側に吸収体で
被覆したものが用いられる。さらに、光学ファ畔バ一部
(5)の面積は実質的な感光部の面積よりも大であるの
が好ましい。なお、第3〜4図ではわかり易くするため
に一部の光学ファイバーのみ描かれている。
透明な第1の電極(2)としては、ITO、lnz 0
2.5n02、ZnO2等を用いることができ、スパッ
ター、蒸着、CVD法等により透光性基板(1)上に形
成される。この第1の電極(2)には、第1〜2図に示
されるようにボンディング用金属パッド(6)を蒸着等
により設けるようにしてもよい。
半導体層(3)は、非晶質半導体を含んでおり、Slを
主成分とするものを用いるのが好ましい。
半導体層(3)としては、実質的に1層から成るものや
p1構造、pin構造又はin構造を有するものや、前
記構造を繰り返した構造を有するもの等が用いられる。
具体的には、p型a−8IC/1型a−8f/n型a−
8l、p型a−8IC/I型Sl/n型a−8ICなる
構造を有するものが用いられる。半導体層(3)は、p
型を光入射側にしてもよいし、n型を光の入射側にする
よう形成してもよい。
前記半導体層(3)は、たとえば高周波プラズマCVD
 、光励起CVD 、熱CVD 、スパッター等により
第1の電極(′2)及び透光性基板(1)上に形成され
る。
第2の電極(4)としては、MsCr、旧、N1−Cr
、MO等の金属電極を用いることができ、これらは蒸着
やスパッター法により半導体層(3)及び透光性基板(
1)上に形成される。
前記第1の電極(2、半導体層(3)及び第2の電極(
4)の厚さは、使用する材料により異なるが、それぞれ
概ね300人〜1項、0.31s〜3刷、1000人〜
lA3Tlが目安である。
また、第1の電極(2)及び第2の電極(4)の構成と
して、第5a図に示されるように第1の電極(2をパタ
ーン化して分離し、第2の電極(4)を共通電極として
よいし、逆に、第5c図に示されるように第2の電極(
4)をパターン化して分離し、第1の電極(2)を共通
電極としてもよい。さらには、画電極ともにパターン化
して分離するようにしてもよい(第5b図参照)。
一方、半導体層(3)は、第5a〜50図に示されるよ
うに連続したものを用いてもよいし、第5d図に示され
るようにパターン化したものを用いてもよい。なお、半
導体層(3)にa−8ICから成るp層又はn層を用い
るときは、比較的高抵抗にできるためクロストークが少
ないので連続した半導体層とするのが好ましい。第1の
電極(2)と第2の電極(4)ともにパターン化する場
合、第1の電極(′2Jの面積と第2の電極(4)の面
積とは実質的に等しくするのが好ましい。なお、図示さ
れていないが、第5d図に示す場合において、第1の電
極(2)又は第2の電極(4)の一方を連続タイプにす
ることも可能である。
以上の説明において、半導体層(3)にp型又はn型半
導体を用いて、半導体層(3)を連続タイプにすること
ができるのは、パターン化された電極に接するp層又は
n層の導電率が1O−6(Ω・am) −’程度以下に
したときに限られる。
以上の説明ではファイバーアレイ部(A)の透光性基板
上にセンサ一部(B)として透明な第1の電極、半導体
層及び第2の電極をこの順序で形成させた場合であるが
、第6図に示される第2の実施例においては、センサ一
部(B)として第1の透光性基板上01)に第1の電極
02)、半導体層□□□及び透明な第2の電極04)が
この順序で形成されており、さらにセンサ一部(B)の
第1の透光性基板01)とファイバーアレイ部(A)を
構成する第2の透光性基板0θとは透光性の樹脂から成
る接着層圏で接着されている。
第1の透光性基板上)としては、厚さが概ね0 、5 
mo+〜2關のガラス等を用いることができる。
第1の電極0り、半導体層は、透明な第2の電極Q41
はそれぞれ前記第1の実施例の第2の電極(4)、半導
体層(3)、透明な第1の電極(′2Jに対応するもの
であり、形成方法等は前記第1の実施例と同じであり、
また前記第1の実施例において述べられた種々の実施態
様が可能なことはもちろんである。
接着層圏としては透光性を有し接若作用がある樹脂を用
いることができ、具体的にはアクリル樹脂、エポキシ樹
脂、シリコン樹脂等があげられるが、とくにこれらに限
定されるものではない。
接着層面は透光性を有するために第7b図(後述)に示
されるごとく光センサ一部背面の発光部(力からの光が
、光学ファイバー部(5)より受光可能となっている。
ファイバーアレイ部(A)を構成する第2の透光性基板
OQの光学ファイバー部(5)は前記第1の実施例と同
様基板面に対して垂直である方が好ましいが、斜に傾い
ていてもよいのはもちろんのことである。
以上の説明はサンドイッチ形に電極を配置する場合であ
るが、第10図に示されるように櫛形に電極を配置して
もよい。第1O図に示される第3の実施例では、透光性
基板(1)上に形成された半導体層(3)上に共通電極
(7)及び複数本の独立電極(31)とが設けられてい
る。複数本の独立電極(31)のそれぞれは、共通電極
■の櫛刃状電極の間に設けられている。電極■、(31
)は透明電極、金属製電極のいずれを用いてもよい。ま
た、電極■、(31)は、半導体層(3)上に設けても
よいしく第11a図及びfib図参照)、該半導体層(
3)と透光性基板(1)又は第1の透光性基板旧)との
間に設けるようにしてもよい(第11c図及びlid図
参照)。
半導体層(3)のp層又はn層としては、比較的高抵抗
の膜を作りやすい点及び光吸収ロスがないので感度が高
くなる点より、a−9IC、a−8INのドープ半導体
を用いるのが好ましい。
なお、半導体層((8)と第2の電極(4)との間に耐
熱性を向上させるために、C「、M o s旧等のシリ
サイドから成る層(図示せず)を形成するようにしても
よい。該層は、蒸着やスパッター法により形成すればよ
く、厚さは概ね20人〜300人が目安である。
次に、本発明の読み取り装置について説明する。本発明
の読み取り装置は、前記した光センサーアレイと、発光
部(7)と、駆動用回路(8)とから構成されている。
発光部としては可視光スペクトルを有する蛍光燈、LE
D等が用いられ、また駆動用回路としては一般にICが
用いられる。
この駆動用ICは、光センサーアレイと同一基板上に搭
載してもよいしく第7a図及びIb図ち照)、別の基板
に予め搭載しておき、その後に光センサーアレイとボン
ディングするようにしてもよい(第9図参照)。もちろ
ん光センサーアレイとしては第1、第2及び第3の実施
例のいずれのものを用いてもよく、第7a図及び9図が
第1の実施例の光センサーアレイを用いた場合を示して
おり、第7b図が第2の実施例の光センサーアレイを用
いた場合を示している。なお第7b図においては光学フ
ァイバー部(5)は前記したごとく基板面に対して約2
0〜30@傾けて配置された場合を示している。第7a
図及び7b図において(9)は光センサーアレイに読み
取られるべき原稿であり、また第7a図において(至)
は光センサーアレイ及び駆動用1cを保護するための、
光硬化性又は熱硬化性樹脂等から成る保護樹脂である。
光センサーアレイと駆動用ICを同一基板上に搭載する
場合、駆動用1cの数を減らすために基板−Lに第8図
に示されるようにマトリックス配線を行うようにしても
よい。第8図において、マトリックス配線部分(211
は感光性ポリイミド等でコーティングされており、(C
)で示される部分には孔が穿設されており、ここに光セ
ンサーからの信号線が横方向の信号処理線に結線される
[発明の効果] 本発明の光センサーアレイ及び読み取り装置によれば、
イメージを光センサ一部に伝送するためのレンズ系やセ
ルフォックスレンズが不要となり、装置が小型化される
ばかりでなく、半導体層をエツチングする必要がないの
で製品の歩留りを大幅に向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の光センサーアレイの第1の実施例の概
略断面説明図、第2図は第1図に示される光センサーア
レイの平面図、第3図は本発明における光学ファイバー
を有する透光性基板の一実施例の斜視図、第4図は第3
図に示される透光性基板の光学ファイバー部の一部拡大
平面図、第5a〜5d図は電極および半導体層の種々の
実施態様を表わす説明図、第6図は本発明の光センサー
アレイの第2の実施例の概略断面説明図、第7a〜7b
図は本発明の読み取り装置の一実施例の概略断面説明図
、第8図は透光性基板」二にマトリックス配線を行う場
合の説明図、第9図は本発明の読み取り装2置の他の実
施例の概略断面図、第1O図は本発明の光センサーアレ
イの第3の実施例の概略平面説明図、第11a〜ttd
図は電極の種々の実施態様を表わす概略断面説明図であ
る。 (図面の主要符号) (A):ファイバーアレイ部 (B):センサ一部 (1)、01)、Oe:透光性基板 (2)、02):第1の電極 (3)、Cr5I:半導体層 (4)、a4):第2の電極 (5):光学ファイバー部 (7)二発光部 (8):駆動用回路 特許出願人  鐘淵化学工業株式会社 代理人弁理士  朝日奈宗太 ほか1名第1回 1:み煎り、臘 2:第1の′11 6: ’I’導体層 3:’r樽体層 4:第2の′+1LIi訴 第5C[K       第5d図 才8図 C オ9図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、透光性基板上に構成された光センサーアレイにおい
    て、感光部の光入射側透光性基板内に光学ファイバー部
    が配置されてなることを特徴とする光センサーアレイ。 2、感光部の光入射側透光性基板内に光学ファイバー部
    が配置され、該透光性基板上に構成された光センサーア
    レイと、発光部と、駆動用回路とから成ることを特徴と
    する読み取り装置。
JP63029569A 1987-08-05 1988-02-10 光センサ−アレイ及び読み取り装置 Pending JPH01138751A (ja)

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JP63029569A JPH01138751A (ja) 1987-08-05 1988-02-10 光センサ−アレイ及び読み取り装置
DE68920448T DE68920448T2 (de) 1988-02-10 1989-02-04 Photodetektorenanordnung und Lesegerät.
EP89101974A EP0328011B1 (en) 1988-02-10 1989-02-04 Photo sensor array and reader
US07/611,385 US5032718A (en) 1988-02-10 1990-11-13 Photo sensor array and reader with hexagonal fiber bundles

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JP19711587 1987-08-05
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06121112A (ja) * 1992-10-02 1994-04-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 密着型イメージセンサの製造方法およびイメージセンサユニット
US8515291B2 (en) 2007-03-16 2013-08-20 Fujitsu Semiconductor Limited Light receiving device and light receiving method

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