JPH01136102A - 偏光フィルム - Google Patents
偏光フィルムInfo
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- JPH01136102A JPH01136102A JP29399687A JP29399687A JPH01136102A JP H01136102 A JPH01136102 A JP H01136102A JP 29399687 A JP29399687 A JP 29399687A JP 29399687 A JP29399687 A JP 29399687A JP H01136102 A JPH01136102 A JP H01136102A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は偏光フィルムに関する。
従来、偏光フィルムとしては、ヨウ素や二色性染料を吸
着させた一軸延伸ポリビニルアルコールフィルムや、染
色若しくは染料を混合溶融押出しした一軸延伸ポリエス
テルフィルムが知られている。
着させた一軸延伸ポリビニルアルコールフィルムや、染
色若しくは染料を混合溶融押出しした一軸延伸ポリエス
テルフィルムが知られている。
しかしながら、前者のヨウ素や二色性染料を吸着したポ
リビニルアルコールフィルムでは一軸方向に延伸された
ポリビニルアルコールフィルムであるためにフィルム自
体の機械的強度が不十分で、手で取り扱う場合にも容易
にフィルムが引裂ける現象あった。
リビニルアルコールフィルムでは一軸方向に延伸された
ポリビニルアルコールフィルムであるためにフィルム自
体の機械的強度が不十分で、手で取り扱う場合にも容易
にフィルムが引裂ける現象あった。
また、復音の染色もしくは染料混合溶融押出しした一軸
延伸ポリエステルフィルムでは、引裂強度は充分である
が偏光性が低く不満足なレベルである。
延伸ポリエステルフィルムでは、引裂強度は充分である
が偏光性が低く不満足なレベルである。
以上のように従来のものには、フィルムの機械的強度と
偏光性の両方の特性が共には満たされないという欠点が
あった。
偏光性の両方の特性が共には満たされないという欠点が
あった。
一方、延伸したポリエステルフィルムに、染料を真空蒸
着法により蒸着した偏光フィルムの製造方法も知られて
いるが、この方法による偏光フィルムは、高分子フィル
ムの光学異方性の軸と染料分子の配向軸を一致させなく
てならず作業性が悪いという欠点があった。
着法により蒸着した偏光フィルムの製造方法も知られて
いるが、この方法による偏光フィルムは、高分子フィル
ムの光学異方性の軸と染料分子の配向軸を一致させなく
てならず作業性が悪いという欠点があった。
また、いずれも−軸延伸′フィルムをベースとするもの
であるため熱時の収縮率に異方性があり光学的にも外観
的にも偏光フィルムの性能を損なうという欠点があった
。
であるため熱時の収縮率に異方性があり光学的にも外観
的にも偏光フィルムの性能を損なうという欠点があった
。
本発明者らは、光学的に等方性の非晶性高分子フィルム
またはシートを基体として採用し、この上に染料分子お
よび／または顔料分子をイオン化蒸着により蒸着するこ
とにより、これらの問題点を解決できることを見出し、
本発明を完成した。
またはシートを基体として採用し、この上に染料分子お
よび／または顔料分子をイオン化蒸着により蒸着するこ
とにより、これらの問題点を解決できることを見出し、
本発明を完成した。
本発明は、非晶性高分子からなるフィルムまたはシート
上に染料分子および／または顔料分子の層をイオン化蒸
着法で蒸着してなる偏光フィルム、を要旨とするもので
ある。
上に染料分子および／または顔料分子の層をイオン化蒸
着法で蒸着してなる偏光フィルム、を要旨とするもので
ある。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明は非晶性高分子からなるフィルムまたはシートを
基体として使用することを特徴とするが、本発明に使用
される非晶性高分子フィルムまたはシートとは、その光
学的要請から、少な（とも複屈折が位相差にして４０度
以内好ましくは２０度以内で光弾性常数が２．０ｍｍ／
Ｋｇ以下の光学的に等゛方性のものである。さらに、例
えば、６００ｎｍの波長における光線透過率が少なくと
も８０％以上、好ましくは８５％以上のものであれば、
何れでもよいが、具体的に好ましいフィルムの素材を、
例示すると、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ボ
リアリレート、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、エポキシ
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリ−４−メチル
−１−ペンテン、ポリアクリロニトリル等の重合体もし
くはその共重合体が挙げられる。フィルム／またはシー
トの厚みは１０μ煽〜５００μｍ程度が好ましい。
基体として使用することを特徴とするが、本発明に使用
される非晶性高分子フィルムまたはシートとは、その光
学的要請から、少な（とも複屈折が位相差にして４０度
以内好ましくは２０度以内で光弾性常数が２．０ｍｍ／
Ｋｇ以下の光学的に等゛方性のものである。さらに、例
えば、６００ｎｍの波長における光線透過率が少なくと
も８０％以上、好ましくは８５％以上のものであれば、
何れでもよいが、具体的に好ましいフィルムの素材を、
例示すると、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ボ
リアリレート、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、エポキシ
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリ−４−メチル
−１−ペンテン、ポリアクリロニトリル等の重合体もし
くはその共重合体が挙げられる。フィルム／またはシー
トの厚みは１０μ煽〜５００μｍ程度が好ましい。
本発明における染料分子は、特に限定されるのでもので
はなく、染めるという操作を経て繊維、プラスチックや
その他の被染体に色を与える化合物であれば何れでもよ
く、例えば以下、（１）〜（Ｖ）に示したような、アン
トラキノン系、アゾ系、スチルベン系等の分散染料、酸
性染料、塩基性染料、直接染料などが適合する。
はなく、染めるという操作を経て繊維、プラスチックや
その他の被染体に色を与える化合物であれば何れでもよ
く、例えば以下、（１）〜（Ｖ）に示したような、アン
トラキノン系、アゾ系、スチルベン系等の分散染料、酸
性染料、塩基性染料、直接染料などが適合する。
（ＩＩＩ）
（ＴＶ）
（Ｖ）
本発明における顔料分子とは、色素のうち、不溶性粉末
で水、油などに溶けないもので染料とは区別されるもの
である０例えば、以下、（Ｖｌ）〜（■）に示すような
、アゾ系、インダスレン系、インジゴ系、ニトロ系、ペ
リレン系の各顔料色素が挙げられる。
で水、油などに溶けないもので染料とは区別されるもの
である０例えば、以下、（Ｖｌ）〜（■）に示すような
、アゾ系、インダスレン系、インジゴ系、ニトロ系、ペ
リレン系の各顔料色素が挙げられる。
本発明は以上のごとき高分子フィルムまたはシート上に
染料分子および／または顔料分子を物理的方法、特にイ
オンプレーティング、イオンクラスタービーム、スパッ
タリング等のイオン化蒲′着法により蒸着するものであ
る。
染料分子および／または顔料分子を物理的方法、特にイ
オンプレーティング、イオンクラスタービーム、スパッ
タリング等のイオン化蒲′着法により蒸着するものであ
る。
染料分子および／または顔料分子を蒸着するには１０−
”ｍｍＨｇ以下、より好ましくは１０−” 〜１０−’
ｍｍＨｇの真空中で非晶性高分子フィルム上に蒸着する
ことが望ましい。
”ｍｍＨｇ以下、より好ましくは１０−” 〜１０−’
ｍｍＨｇの真空中で非晶性高分子フィルム上に蒸着する
ことが望ましい。
また、この場合、染料と顔料は別個にそれぞれ蒸着して
もよいし、同時に蒸着してもよい。
もよいし、同時に蒸着してもよい。
また一種類の染料もしくは顔料のみを蒸着してもよいし
、二種類以上の染料および／または顔料を蒸着してもよ
い。
、二種類以上の染料および／または顔料を蒸着してもよ
い。
（Ｖｌ）
（■ ）
（■）
なお、蒸着は、染料分子および／または顔料の昇華温度
以下（好ましくは″１００度以下）に保ち、染料、顔料
の蒸着を行うことが好ましい。
以下（好ましくは″１００度以下）に保ち、染料、顔料
の蒸着を行うことが好ましい。
また、′本発明においては、染料分子および／または顔
料分子の配向性を向上させるため蒸着前に、予めフィル
ム等の表面を同一方向にラビング処理することも可能で
ある。
料分子の配向性を向上させるため蒸着前に、予めフィル
ム等の表面を同一方向にラビング処理することも可能で
ある。
蒸着する染料等の量は、染料、顔料の色調にもよるが、
最大吸収波長域での透過率が１０〜９０％の範囲に入る
ように調整する。なお染料、顔料の蒸着厚みはＩＯλ〜
１０μｍが好ましい範囲で゛ある。
最大吸収波長域での透過率が１０〜９０％の範囲に入る
ように調整する。なお染料、顔料の蒸着厚みはＩＯλ〜
１０μｍが好ましい範囲で゛ある。
蒸着後、積層された染料、顔料層の上から１〜１００μ
ｍ厚の保護フィルムを貼り合わせたり、保護コーティン
グすることにより表面を被覆し、染料、顔料の脱落を防
止することが望ましい。
ｍ厚の保護フィルムを貼り合わせたり、保護コーティン
グすることにより表面を被覆し、染料、顔料の脱落を防
止することが望ましい。
なお、フィルムの片面だけでなく、両面に蒸着したり、
斯くして形成した蒸着フィルムを二枚以上貼り合せて可
視波長域全域で吸収のある黒色の偏光フィルムを得るこ
とも可能である。
斯くして形成した蒸着フィルムを二枚以上貼り合せて可
視波長域全域で吸収のある黒色の偏光フィルムを得るこ
とも可能である。
〔発明を実施するための好ましい形態〕本発明を実施す
るための好ましい形態としては、複屈折が位相差にして
２０度以内で光弾性常数が２．０ｍ、ｍ／Ｋｇ以下、６
００ ｎｍの波長における光線透過率が８５％以上の無
延伸の高分子フィルムの表面を同一方向にラビング処理
した後、染料分子および／または顔料分子を１０−’〜
１０−”ｍｍＨｇの真空中で高分子フィルム上にイオン
化蒸着することが望ましい。
るための好ましい形態としては、複屈折が位相差にして
２０度以内で光弾性常数が２．０ｍ、ｍ／Ｋｇ以下、６
００ ｎｍの波長における光線透過率が８５％以上の無
延伸の高分子フィルムの表面を同一方向にラビング処理
した後、染料分子および／または顔料分子を１０−’〜
１０−”ｍｍＨｇの真空中で高分子フィルム上にイオン
化蒸着することが望ましい。
以下、実施例における特性の測定方法、評価基準は、次
の通りである。
の通りである。
（１）偏光性（偏光度）
日立分光光度計υ−３４００型で可視域（４００〜８５
０ｎｍの波長）の光線透過スペクトルを二枚重ねた偏光
フィルムについて測定する。この際−軸配向した高分子
フィルムの配向方向に合わせて二枚のフィルムを重ねて
測定の透過率の最大吸収波長での値をＴ、配向方向を互
いに直角になるように合わせて二枚のフィルムを重ねて
測定の透過°率の最大吸収波長での値をＴ、とするとき
Ｄ＝ （（’ｒｅ −ＴＩ ）／（ＴＯ＋ＴＩ
） ） ”’傘１ｏ。
０ｎｍの波長）の光線透過スペクトルを二枚重ねた偏光
フィルムについて測定する。この際−軸配向した高分子
フィルムの配向方向に合わせて二枚のフィルムを重ねて
測定の透過率の最大吸収波長での値をＴ、配向方向を互
いに直角になるように合わせて二枚のフィルムを重ねて
測定の透過°率の最大吸収波長での値をＴ、とするとき
Ｄ＝ （（’ｒｅ −ＴＩ ）／（ＴＯ＋ＴＩ
） ） ”’傘１ｏ。
の式で表わされるＤを偏光度とした。
（２）フィ、ルム強度（フィルムの引き裂き強度）両手
でフィルムの端部を把み１８０°方向に引き裂く時の抵
抗で以下の３ランクに分は引き裂き強度の程度を評価す
る。
でフィルムの端部を把み１８０°方向に引き裂く時の抵
抗で以下の３ランクに分は引き裂き強度の程度を評価す
る。
ランクＡ：簡単に引き裂ける。
ランクＢ：やや力を加えると引き裂ける。
ランクＣ：引き裂けない。
実施例１
複屈折が位相差にして２０度であり、光弾性常数１．８
ｍｍ／Ｋｇである厚さ５０μｍのポリエーテルスルホン
フィルムの片面に、（■）の構造式のキノン系分散染料
を以下の方法により、高周波イオンプレーティング法に
より蒸着し、第１表に示す偏光度９５％、引き裂き強度
Ｃランクの性能の優れた偏光フィルム得た。
ｍｍ／Ｋｇである厚さ５０μｍのポリエーテルスルホン
フィルムの片面に、（■）の構造式のキノン系分散染料
を以下の方法により、高周波イオンプレーティング法に
より蒸着し、第１表に示す偏光度９５％、引き裂き強度
Ｃランクの性能の優れた偏光フィルム得た。
蒸着加工は、染料を蒸着器に装填し１０−”ｍｍＨｇ以
下の真空度まで排気し、Ａｒガスを３１０−’ｍｍＨｇ
まで導入し、高周波出力を５０Ｗ印加し、Ａｒガスのグ
ロー放電により染料をイオン化し蒸着した。なお、染料
と高分子フィルムとの間には５００．Ｖの直流電界を印
加した。
下の真空度まで排気し、Ａｒガスを３１０−’ｍｍＨｇ
まで導入し、高周波出力を５０Ｗ印加し、Ａｒガスのグ
ロー放電により染料をイオン化し蒸着した。なお、染料
と高分子フィルムとの間には５００．Ｖの直流電界を印
加した。
比較例１
１００μｍの厚みの未延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルムを８０℃に加熱し、１分間に、２０００％の速
度で５倍に一軸延伸し、６０００ｍの波長の可視光透過
率が８８％の透明な２５μｍ厚みの一軸延伸フィルム（
−軸配向フィルム）を準備した。このフィルム片面に、
実施例１と同様に蒸着した。得られたフィルムの特性は
第１表に示したとおり、偏光度は９０％であるが、引裂
強度Ａランクの脆弱な偏光フィルムしか得られなかった
。
フィルムを８０℃に加熱し、１分間に、２０００％の速
度で５倍に一軸延伸し、６０００ｍの波長の可視光透過
率が８８％の透明な２５μｍ厚みの一軸延伸フィルム（
−軸配向フィルム）を準備した。このフィルム片面に、
実施例１と同様に蒸着した。得られたフィルムの特性は
第１表に示したとおり、偏光度は９０％であるが、引裂
強度Ａランクの脆弱な偏光フィルムしか得られなかった
。
実施例２
実施例１で使用のフィルムの片面を、ガーゼを持いてラ
ビング処理したこと以外は、実施例１と同様の方法で染
料を蒸着した。得られたフィルムは、偏光度が９８．７
％まで向上した。
ビング処理したこと以外は、実施例１と同様の方法で染
料を蒸着した。得られたフィルムは、偏光度が９８．７
％まで向上した。
実施例３
複屈折が位相差にして１０度であり、光弾性常数１．９
ｍｍ／Ｋｇである、厚さ５０ｕｍのポリカーボネートフ
ィルムの片面に、（Ｉ）の構造式のキノン系分散染料を
３＊１０−’ｍ ｍ Ｈｇの真空度、３ＫＶの加速電圧
を印加し、イオンクラスタービーム法により蒸着し、第
１表の特性のフィルムを得た。
ｍｍ／Ｋｇである、厚さ５０ｕｍのポリカーボネートフ
ィルムの片面に、（Ｉ）の構造式のキノン系分散染料を
３＊１０−’ｍ ｍ Ｈｇの真空度、３ＫＶの加速電圧
を印加し、イオンクラスタービーム法により蒸着し、第
１表の特性のフィルムを得た。
比較例２
実施例３で使用したフィルムの片面に、実施例３で使用
した染料を４ ＊ｌＯ−’ｍｍＨｇの真空度で真空蒸着
し、第１表の特性のフィルムを得た。引き裂き強度はラ
ンクＣであるが、偏光度の点で極めて不満足のものしか
得られなかった。
した染料を４ ＊ｌＯ−’ｍｍＨｇの真空度で真空蒸着
し、第１表の特性のフィルムを得た。引き裂き強度はラ
ンクＣであるが、偏光度の点で極めて不満足のものしか
得られなかった。
本発明の偏光フィルムは上述のように非晶性の高分子フ
ィルムの界面に染料、顔料分子をイオン蒸着法で蒸着し
たものであるが、イオン蒸着法によれば、単なる真空蒸
着と異なり、フィルム表面上に同一方向に平行に配向積
層できるので、偏光性、フィルムの機械的強度等の物性
を共に向上させることが可能なのである。
ィルムの界面に染料、顔料分子をイオン蒸着法で蒸着し
たものであるが、イオン蒸着法によれば、単なる真空蒸
着と異なり、フィルム表面上に同一方向に平行に配向積
層できるので、偏光性、フィルムの機械的強度等の物性
を共に向上させることが可能なのである。
また、本発明の偏光フィルムは、イオンプレーティング
、イオンクラスタービーム等の物理的蒸着法により、染
料、顔料の分子を配列させて得られるので、優れた偏光
性を存するのである。
、イオンクラスタービーム等の物理的蒸着法により、染
料、顔料の分子を配列させて得られるので、優れた偏光
性を存するのである。
本発明で得られる偏光フィルムは液晶デイスプレィ、色
相可変フィルター、可変透過サングラス、写真フィルタ
ー、ブラウン管、測定器数値表示部等の反射防止フィル
ターに好適に使用され、特に液晶デイスプレィ用に適し
ている。
相可変フィルター、可変透過サングラス、写真フィルタ
ー、ブラウン管、測定器数値表示部等の反射防止フィル
ターに好適に使用され、特に液晶デイスプレィ用に適し
ている。
特許出願人 三井東圧化学株式会社
Claims (2)
- （１）非晶性高分子からなるフィルムまたはシート上に
染料分子および／または顔料分子の層をイオン化蒸着法
で蒸着してなる偏光フィルム。 - （２）イオン化蒸着法がイオンプレーティングもしくは
イオンクラスタービームである特許請求の範囲第１項記
載のフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29399687A JPH01136102A (ja) | 1987-11-24 | 1987-11-24 | 偏光フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29399687A JPH01136102A (ja) | 1987-11-24 | 1987-11-24 | 偏光フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01136102A true JPH01136102A (ja) | 1989-05-29 |
Family
ID=17801893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29399687A Pending JPH01136102A (ja) | 1987-11-24 | 1987-11-24 | 偏光フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01136102A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04107260A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-04-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 透明着色方法 |
| US6797339B2 (en) | 1994-09-06 | 2004-09-28 | Research Development Corporation Of Japan | Method for forming thin film with a gas cluster ion beam |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4888946A (ja) * | 1972-02-23 | 1973-11-21 | ||
| JPS5670501A (en) * | 1979-11-15 | 1981-06-12 | Seiko Epson Corp | Manufacture of material with function of polarization |
| JPS57168204A (en) * | 1981-04-09 | 1982-10-16 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of polarizing film |
| JPS6046506A (ja) * | 1983-08-24 | 1985-03-13 | Toray Ind Inc | 偏光フイルムおよびその製造方法 |
| JPS6195304A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-14 | Toray Ind Inc | 偏光フイルムの製造法 |
| JPS6195303A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-14 | Toray Ind Inc | 偏光フイルムの製法 |
| JPS6243603A (ja) * | 1985-08-13 | 1987-02-25 | コ−ニング グラス ワ−クス | 透明積層偏光ガラスおよびその製造方法 |
| JPS6263418A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-20 | Sharp Corp | 有機薄膜の製造方法 |
-
1987
- 1987-11-24 JP JP29399687A patent/JPH01136102A/ja active Pending
Patent Citations (8)
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| US6797339B2 (en) | 1994-09-06 | 2004-09-28 | Research Development Corporation Of Japan | Method for forming thin film with a gas cluster ion beam |
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