JP3629082B2 - 光学異方素子を用いた液晶素子 - Google Patents

光学異方素子を用いた液晶素子 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示コントラスト及び表示色の視角特性が改良され、高速表示に優れた液晶素子に関する。
【0002】
【従来の技術】
日本語ワードプロセッサやディスクトップパソコン等のOA機器の表示装置の主流であるCRTは、薄型軽量、低消費電力という大きな利点をもった液晶素子に変換されてきている。現在普及している液晶素子(以下LCDと称す)の多くは、ねじれネマティック液晶を用いている。このような液晶を用いた表示方式としては、複屈折モードと旋光モードとの2つの方式に大別できる。
【0003】
複屈折モードを用いたLCDは、液晶分子配列のねじれ角90°以上ねじれたもので、急崚な電気光学特性をもつ為、能動素子(薄膜トランジスタやダイオード)が無くても単純なマトリクス状の電極構造でも時分割駆動により大容量の表示が得られる。しかし、応答速度が遅く(数百ミリ秒)、諧調表示が困難という欠点を持ち、能動素子を用いた液晶素子(TFT−LCDやMIM−LCDなど)の表示性能を越えるまでにはいたらない。
【0004】
TFT−LCDやMIM−LCDには、液晶分子の配列状態が90°ねじれた旋光モードの表示方式(TN型液晶素子)が用いられている。この表示方式は、応答速度が数+ミリ秒程度であり、高い表示コントラストを示すことから他の方式のLCDと比較して最も有力な方式である。しかし、ねじれネマティック液晶を用いている為に、表示方式の原理上、見る方向によって表示色や表示コントラストが変化するといった視角特性上の問題があり、CRTの表示性能を越えるまでにはいたらない。
【0005】
TN型LCDに対して、SID’92 Digest p.798などに見られるように、画素を分割し、それぞれ電圧印加時のチルト方向を逆向きにして、視角特性を補償する方法が提案されている。この方法によると、上下方向の階調反転に関する視角特性は改善されるが、コントラストの視角特性はほとんど改善されない。
【0006】
更に、特開平6−75116号、EP0576304A1、および特開平6−214116号公報において、光学的に負の一軸性を示し、その光学軸が傾斜している位相差板を用いることにより、TN型LCDの視角特性を改良する方法が提案されている。
これらの方法によれば視野角は従来のものと比べ、改善はされるが、それでもCRT代替を検討するほどの広い視野角は実現困難であった。
【0007】
従来の液晶モード以外に広視野角、高速応答という特徴を有するベンド配向液晶セル(=πセル)がSID‘93 Digest p.273、p.277、US5、410、422などに見られるように提案された。また、’95第42回春の応用物理学会29a−SZC−20などに見られるように、この考え方を反射型LCDに応用したHAN(Hybrid−Aligned Nematic)型液晶セルが提案されている。これらの液晶モードでは、光学軸がフィルム法線方向にある負の一軸性の光学異方素子、または、二軸性光学異方素子を用いることによって、広視野角を実現しているが、それでも視野角特性の改善は十分ではなかった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、正面コントラストを低下させずに、表示コントラスト及び表示色の視角特性が改善され、高速表示に優れた液晶素子を提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、以下の手段により達成された。
(1)2枚の電極基板間に液晶を挟持してなる液晶セルと、その両側に配置された2枚の偏光素子と、該液晶セルと該偏光素子の間に少なくとも1枚の光学異方素子を配置した液晶素子において、該光学異方素子が透明支持体及びその上に設けられた光学異方層からなり、該光学異方層が、ディスコティック構造単位を有する化合物を溶媒に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、ディスコティックネマチック相形成温度まで加熱した後、重合させることにより得られた層であり、そして、該ディスコティック構造単位の円盤面が、透明支持体面に対して傾いており、かつ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角が、光学異方層の深さ方向において変化しており、該透明支持体が、下記の条件を満足し、
100≦{(nx+ny)/2−nz}×d2≦1000 … (1)
0≦|(nx−ny)×d2|≦200 … (2)
(但し、nx及びnyは支持体の面内の主屈折率を表し、nzは厚み方向の主屈折率を表し、d2は支持体の厚さを表し、そして上記式の単位はnmである)
該液晶セルがセル中央部にねじれ配向が存在する液晶セルを含むベンド配向液晶セル、または、HAN型液晶セルであることを特徴とする液晶素子。
(2)該角度が、光学異方層の深さ方向において、光学異方層の底面からの距離の増加とともに増加している(1)に記載の液晶素子。
(3)液晶の複屈折率をΔn1とし、液晶セルのセルギャップをd1としたときに、Δn1とd1との積が300nm以上、3000nm以下である(1)に記載の液晶素子。
(4)該透明支持体の複屈折率Δn2の、下記式で表される波長分散値αが1.0以上、1.3以下である(1)に記載の液晶素子。
α=Δn2(450nm)/Δn2(600nm) … (3)
(但し、Δn2(450nm)は波長が450nmにおけるΔn2を表し、Δn2(600nm)は波長が600nmにおけるΔn2を表わす)
(5)該光学異方層の複屈折率をΔn3とし、厚みをd3としたときに、Δn3とd3との積の絶対値が50nm以上1000nm以下である(1)に記載の液晶素子。
(6)光学異方層と透明支持体との間に、配向膜が形成されている(1)に記載の液晶素子。
(7)配向膜がポリマーの硬化膜からなる(6)に記載の液晶素子。
(8)ノーマリーホワイトモードであることを特徴とする(1)に記載の液晶素子。
(9)2枚の電極基板間に液晶を挟持してなる液晶セルと、その両側に配置された2枚の偏光素子と、該液晶セルと該偏光素子の間に少なくとも1枚の光学異方素子を配置した液晶素子において、該光学異方素子が透明支持体及びその上に設けられた光学異方層からなり、該光学異方層が、ディスコティック構造単位を有する化合物を含む層であり、そして、該ディスコティック構造単位の円盤面が、透明支持体面に対して傾いており、かつ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角が、光学異方層の深さ方向において変化しており、該透明支持体が、下記の条件を満足し、
100≦{(nx+ny)/2−nz}×d2≦1000 (1)
0≦|(nx−ny)×d2|≦200 (2)
(但し、nx及びnyは支持体の面内の主屈折率を表し、nzは厚み方向の主屈折率を表し、d2は支持体の厚さを表し、そして上記式の単位はnmである)該液晶セルがセル中央部にねじれ配向が存在する液晶セルを含むベンド配向液晶セル、または、HAN型液晶セルである液晶素子の製造方法であって、ディスコティック構造単位を有する化合物を溶媒に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、ディスコティックネマチック相形成温度まで加熱した後、重合させることにより該光学異方層を製造することを特徴とする液晶素子の製造方法。
【0010】
【発明の実施の形態】
TN−LCDやSTN−LCDの視野角が狭い原因の一つは、見る方向によってレターデーションが異なるというものである。図1に示したように、方向14は液晶の複屈折の比較的大きい方向であるため、レターデーションが大きい。また、方向15は液晶の複屈折が比較的小さい方向であるため、レターデーションが小さい。
【0011】
これに対して、図2に示したベンド配向液晶セルにおいては、見る方向によるレターデーションの違いが比較的小さい。図2に示したように、方向24は下基板23付近では液晶の複屈折が小さく、上基板21付近では液晶の複屈折が大きい。方向25はこの逆であり、方向24と25でレターデーションは等しい。したがって、液晶セルの厚み方向中央部に対して対称となるために自己補償型のセルだということができる。これらの特徴を有するために、ベンド配向液晶セルでは視野角は原理的に広い。反射型LCDとして用いられるHAN型液晶セルの例を図3に示すが、HAN型液晶セルについても同様なことが言える。
【0012】
しかしながら、ベンド配向液晶セル、HAN型反射型LCDにおいても、視角を大きくすることに伴って、黒表示部からの光の透過率が著しく増大し、結果としてコントラストの急激な低下を招いていることになる。本発明は、この様な斜方入射におけるコントラストの低下を防ぎ、視角特性を改善し、同時に、正面のコントラストを改善しようとするものである。
【0013】
もし、黒表示において液晶セルが正の一軸性の光学異方体だとするならば、これを光学的に補償するには、図4に示したように、負の一軸性の光学異方体を用いればよい。そうすることによって、斜めから見た場合の液晶セルによって生じるレターデーションは、負の一軸性の光学異方体によってキャンセルされ、光漏れを抑えることができる。
【0014】
しかし、実際の液晶セルを正の一軸性の光学異方体とし、負の一軸性の光学異方体によって補償するのには限界がある。本発明者らは、鋭意検討した結果、更に大幅な視野角改善をし、CRT代替の可能性を切り開くためには、図5や図6に示したように、黒表示におけるベンド配向液晶セルやHAN型液晶セルと同様な配向状態を負の一軸性の化合物で実現した光学異方素子が必要であることを見出した。
【0015】
本発明における液晶素子とは、表示のために用いられる直視型、投写型の素子、光変調素子として用いられる素子などを含む。
本発明における光学異方素子は、透明支持体及びその上に設けられた光学異方層からなり、該光学異方層がディスコティック構造単位を有する化合物を含む層である。ディスコティック構造単位を有する化合物の例としては、モノマー等の低分子量のディスコティック液晶性化合物または重合性ディスコティック液晶性化合物の重合により得られるポリマーを挙げることができる。
【0016】
ディスコティック構造単位を有する化合物は、一般に、ディスコティック液晶相(すなわち、ディスコティックネマチック相)を有する化合物とディスコティック液晶層を持たない化合物に大別することができる。ディスコティック構造単位を有する化合物は一般に負の複屈折を有する。本発明は、この負の複屈折性を利用して、そして、ディスコティック構造単位を、該ディスコティック構造単位の面(以下、単に「面」とも言う)と透明支持体面との角度が光学異方層の深さ方向に変化するように傾けては位置することにより達成したものである。
【0017】
本発明における光学異方素子は、透明支持体及びその上に設けられたディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方層からなり、さらに配向膜を透明支持体と光学異方層に設けることが好ましい。配向膜は、光学異方層を複数設ける場合は、光学異方層上に設けても良い。また、下塗層(接着層)を透明基板と配向膜との間に設けることが好ましい。保護層を光学異方層上と基板の裏面に設けても良い。
【0018】
本発明における透明支持体の材料としては、透明である限りどのような材料でも使用することができる。光透過率が80%以上を有する材料が好ましい。
このような材料としては、ゼオネックス(日本ゼオン(株)製)、ARTON(日本合成ゴム(株)製)及びフジタック(富士写真フイルム(株)製)などの市販品を使用することができる。本発明においては、透明支持体の複屈折率Δn2のαが1.0以上1.3以下であることが好ましく、そのような材料としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルフォン及びポリエーテルスルホンなども使用することが好ましい。
【0019】
透明支持体(フィルム)面内の主屈折率をnx、ny、厚み方向の主屈折率をnz、フィルムの厚さをdとしたとき、三軸の主屈折率の中でnzが一番小さく、式(1)において{(nx+ny)/2―nz}×d2で表されるレターデーションが、100〜1000nmであることが好ましい。100〜800nmであることが好ましく、更に、100〜500nmであることが好ましい。
また、式(2)における透明支持体の法線方向のレターデーションの絶対値|(nx−ny)×d2|は、0〜200nmであることが好ましい。0〜150nmであることが好ましく、更に、0〜100nmであることが好ましい。
【0020】
下塗層を、透明支持体上に、透明支持体と配向膜との接着強度を増大させるために設けることが好ましい。
下塗層の形成は、一般に表面処理した透明支持体の表面に塗布により形成する。
表面処理としては、化学処理、機械処理、コロナ放電処理、火炎処理、UV処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、及びオゾン酸化処理を挙げることができる。
下塗層の構成としても種々の工夫が行われており、第1層として高分子フィルムに良く密着する層(以下、下塗第1層と略す)を設け、その上に、第2層として配向膜と良く密着する親水性の樹脂層(以下、下塗第2層と略す)を塗布するいわゆる重層法と、疎水性基と親水性基との両方を含有する樹脂層を一層のみ塗布する単層法とがある。
【0021】
重層法における下塗第1層では、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中から選ばれた単量体を出発材料とする共重合体、ポリエチレンイミン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニトロセルロース、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ポリエチレン、塩化ポリプロピレン、臭化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン−アクリル酸エステル共重合体、クロロエチルビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合体及びポリクロロプレンなどの含ハロゲン合成樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリ−3−メチルブテン及びポリ−1,2−ブタジエンなどのα−オレフィン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ビニルエーテル共重合体、エチレン−プロピレン−1,4−ヘキサジエン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ブテン−1−プロピレン共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、及びこれらの共重合体とハロゲン含有樹脂とのブレンド物、アクリル酸メチルエステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エチルエステル−スチレン共重合体、メタクリル酸メチルエステル−アクリロニトリル共重合体、ポリメタクリル酸メチルエステル、メタクリル酸メチルエステル−アクリロニトリル共重合体、ポリメタクリル酸メチルエステル、メタクリル酸メチルエステル−スチレン共重合体、メタクリル酸ブチルエステル−スチレン共重合体、ポリアクリル酸メチル、ポリ−α−クロルアクリル酸メチル、ポリアクリル酸メトキシエチルエステル、ポリアクリル酸グリシジルエステル、ポリアクリル酸ブリツエステル、ポリアクリル酸メチルエステル、ポリアクリル酸エチルエステル、アクリル酸−アクリル酸ブチル共重合体、アクリル酸エステル−ブタジエン−スチレン共重合体及びメタクリル酸エステル−ブタジエン−スチレン共重合体などのアクリル樹脂、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、スチレン−フマル酸ジメチル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体及びスチレン−ブタジエン−アクリルニトリル共重合体等のスチレン系樹脂、ポリ−2,6−ジメチルフェニレンオキサイド、ポリビニルカルバゾール、ポリ−p−キシリレン、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフタレート、3酢酸セルロース、酪酸セルロース、酪酢酸セルロース、セルロースフタレート、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、メトキシメチル−6−ナイロン、ナイロン−6、10−ポリカプラミド、ポリ−N−ブチル−ナイロン−6−ポリエチレンセバケート、ポリブチレングルタレート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリブチレンイソフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンアジペート、ポリエチレンアジペートテレフタレート、ポリエチレン−2.6−ナフタレート、ポリジエチレングリコールテレフタレート、ポリエチレンオキシベンゾエート、ビスフェノールA−イソフタレート、ポリアクリロニトリル、ビスフェノールA−アジペート、ポリヘキサメチレン−m−ベンゼンジスルホンアミド、ポリテトラメチレンヘキサメチレンカーボネート、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレンメチレンビス−4−フェニレンカーボネート、及びビスフェノールA−ポリカーボネート等を挙げることができる。これらのオリゴマーもしくはポリマーについては、E.H.Immergut“Polymer Handbook”、IV、187−231、Intersciense Pub.New York、1966に詳しく記載されている。
下塗第2層での材料としては、ゼラチンを挙げることができる。
【0022】
単層法においては、高分子フィルムを膨張させ、親水性下塗ポリマーと界面混合させることによって良好な密着性が得られるように下塗層が形成される。本発明に使用する親水性下塗ポリマーとしては、水溶性ポリマー、セルロースエステル、ラテックスポリマー、水溶性ポリエステルなどを使用することができる。水溶性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体及び無水マレイン酸共重合体などを挙げることができる。セルロースエステルとしては、カルボキシメチルセルロース及びヒドロキシエチルセルロースを挙げることができる。ラテックスポリマーとしては、塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合体及びブタジエン含有共重合体を挙げることができる。この中でも最も好ましいのはゼラチンである。ゼラチンとしては、いわゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼラチン、ゼラチン誘導体及び変成ゼラチンなどの、一般に用いられているものを使用することができる。これらのゼラチンのうち、最も好ましく用いられるのは石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンである。これらのゼラチンは、その作製工程における種々の不純物、例えば0.11〜20000ppmの金属類(Na、K、Li、Rb、Ca、Mg、Ba、Ce、Fe、Sn、Pb、Al、Si、Ti、Au、Ag、Zn、Niなどの金属、及びそのイオンなど)、イオン(フッソイオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、アンモニウムイオンなど)を含有していても良い。特に、石灰処理ゼラチンにおいては、CaやMgのイオンを含有するのが一般的であり、その含有量は10〜3000ppmが一般的であり、下塗の塗布性能の点から1000ppm以下が好ましく、更に好ましくは500ppm以下である。
本発明の密着改良層に用いられる化合物の具体例を下記に挙げる。
【0023】
【化1】
Figure 0003629082
【0024】
x:y:z=25:60:25
【0025】
【化2】
Figure 0003629082
【0026】
x:y=70:30
平均分子量:45000
【0027】
【化3】
Figure 0003629082
【0028】
x:y=50:50
平均分子量:12000
【0029】
【化4】
Figure 0003629082
【0030】
x:y=70:30
状態:ラテックス
【0031】
【化5】
Figure 0003629082
【0032】
平均分子量:10000
その他、下塗層形成用塗布液は、必要に応じて各種の添加剤を含有させることができる。例えば界面活性剤、帯電防止剤、顔料、塗布助剤などを挙げることができる。また、本発明の下塗層には、公知の種々のゼラチン硬化剤を用いることができる。
ゼラチン硬化剤としては、クロム塩(クロム明ばんなど)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒドなど)、イソシアネート類、エピクロルヒドリン樹脂及びポリアマイド−エピクロルヒドリン樹脂、シアヌルクロリド系化合物、ビニルスルホンあるいはスルホニル系化合物、カルバモイルアンモニウム塩系化合物、アミジニウム塩系化合物、カルボジイミド化合物及びピリジニウム塩系化合物などを挙げることができる。
【0033】
本発明の下塗層には、透明性を実質的に損なわない程度に無機または有機の微粒子をマット剤として含有させることができる。
無機微粒子のマット剤としては、シリカ(SiO2)、二酸化チタン(TiO2)、炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウムなどを使用することができる。
有機の微粒子マット剤としては、ポリメチルメタクリレート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリスチレン及び米国特許第4142894号に記載されているポリマーなどを用いることができる。
これらの微粒子マット剤の平均粒径は0.01〜10μmのものが好ましい。より好ましくは、0.05〜5μmである。また、その含有量は、0.5〜600mg/mが好ましく、更に1〜400mg/mが好ましい。
【0034】
配向膜は、一般に透明支持体上または上記下塗層上に設けられる。配向膜は、その上に設けられるディスコティック構造単位を有する化合物の配向方向を規定するように機能する。
配向膜は、光学異方層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でも良い。配向膜の好ましい例としては、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、及びマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及びステアリル酸メチルなどのラングミュア・ブロジェット法(LB膜)により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘導体を配向させた層を挙げることができる。
【0035】
配向膜用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ(n−メチロールアクリルアミド)、スチレン/ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネートなどのポリマー及びシランカップリング剤などの化合物を挙げることができる。
好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビニルアルコール及びアルキル基(炭素原子数6以上が好ましい)を有するアルキル変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。これらのポリマーの層を配向処理することにより得られる配向膜は、ディスコティック構造単位を有する化合物を斜めに配向させることができる。
【0036】
中でもアルキル変性のポリビニルアルコールは特に好ましく、ディスコティック構造単位を有する化合物を均一に配向させる能力に優れている。これは配向膜表面のアルキル鎖とディスコティック液晶のアルキル側鎖との強い相互作用のためだと推察される。また、アルキル基は、炭素原子数6〜14が好ましく、更に、−S―、―(CH3)C(CN)−、または、−(C2H5)N−CS−S−を介してポリビニルアルコールに結合していることが好ましい。
上記アルキル変性ポリビニルアルコールは、末端にアルキル基を有するものであり、けん化度80%以上、重合度200以上が好ましい。また、上記側鎖にアルキル基を有するポリビニルアルコールは、クラレ(株)製のMP103、MP203、R1130などの市販品を利用することができる。
【0037】
また、LCDの配向膜として広く用いられているポリイミド膜(好ましくはフッ素原子含有ポリイミド)も有機配向膜として好ましい。これはポリアミック酸(例えば、日立化成(株)製のLQ/LXシリーズ、日産化学(株)製のSEシリーズ等)を支持体面に塗布し、100〜300℃で0.5〜1時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
更に、本発明の配向膜は、上記ポリマーに反応性基を導入することにより、あるいは上記ポリマーをイソシアネート化合物及びエポキシ化合物などの架橋剤とともに使用して、これらのポリマーを硬化させることにより得られる硬化膜であることが好ましい。
【0038】
また、前記ラビング処理は、LCDの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。すなわち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【0039】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、SiOを代表とし、TiO2、ZnO2等の金属酸化物、あるいはMgF2等のフッ化物、さらにAu、Al等の金属が挙げられる。なお、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。
無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム(支持体)を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。
【0040】
本発明の光学異方層は、透明支持体または配向膜上に形成される。本発明の光学異方層は、ディスコティック構造単位を有する化合物を含む層である。すなわち、光学異方層は、モノマー等の低分子量のディスコティック構造単位を有する化合物の層または重合性のディスコティック構造単位を有する化合物の重合(硬化)により得られるポリマーの層である。
【0041】
本発明のディスコティック(円盤状)構造単位を有する化合物の例としては、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年)に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.122巻、141頁(1985年)、Physics lett、A、78巻、82頁(1990年)に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年)に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Commun.、1794頁(1985年)、J.Zhangらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年)に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。
【0042】
上記ディスコティック(円盤状)化合物は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶と呼ばれるものが含まれる。但し、分子自身が負の一軸性を示し、一定の配向を付与できるものであれば、上記記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したときは、最終的にできたものが前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【0043】
上記ディスコティック構造単位を有する化合物の好ましい例を下記に示す。
【0044】
【化6】
Figure 0003629082
【0045】
【化7】
Figure 0003629082
【0046】
【化8】
Figure 0003629082
【0047】
【化9】
Figure 0003629082
【0048】
本発明の光学異方素子は、前述のように、透明支持体上に配向膜を設け、次いで配向膜上に光学異方層を形成することにより作製されることが好ましい。
【0049】
本発明の光学異方層は、ディスコティック構造単位を有する化合物を含む層であって、そしてディスコティック構造単位の面が、透明支持体面に対して傾き、かつ該ディスコティック構造単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向に変化している。
【0050】
上記ディスコティック構造単位の面の角度(傾斜角)は、一般に、光学異方層の深さ方向でかつ光学異方層の底面からの距離の増加とともに増加または減少している。上記傾斜角は、距離の増加とともに増加することが好ましい。更に、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。更に、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
【0051】
本発明の光学異方層の断面の代表的な例を、模式的に図7に示す。
光学異方層73は、透明支持体71上に形成された配向膜72上に設けられている。光学異方層73を構成するディスコティック構造単位を有する化合物73a、73b、73cは、ディスコティック構造単位Pa、Pb、Pcが透明支持体71の面に平行な面71a、71b、71cから傾斜し、そしてそれらの傾斜角θa、θb、θc(ディスコティック構造単位の面と透明支持体の面とのなす角)が、光学異方層の底面からの深さ(厚さ)方向の距離の増加とともに、順に増加している。74は透明支持体の法線を表す。
上記ディスコティック構造単位を有する化合物は平面分子であり、それ故分子中にはただ一個の平面、すなわち円盤面(例、71a、71b、71c)を持つ。
矢印75は、光学異方層のレターデーションの絶対値の最小の方向を透明支持体上に正射影した方向を表す。
【0052】
上記傾斜角(角度)は、5〜85度の範囲(特に10〜80度の範囲)で変化していることが好ましい。上記傾斜角の最小値は、0〜85度の範囲(特に5〜40度)にあり、またその最大値が5〜90度の範囲(特に30〜85度)にあることが好ましい。図7において、支持体側のディスコティック構造単位の傾斜角(例、θa)が、ほぼ最小値に対応し、そしてディスコティック構造単位の傾斜角(例、θc)が、ほぼ最大値に対応している。更に、傾斜角の最小値と最大値との差が、5〜70度の範囲(特に10〜60度)にあることが好ましい。
【0053】
上記光学異方層は、一般にディスコティック構造単位を有する化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、その後配向状態(ディスコティックネマチック相)を維持して冷却することにより得られる。あるいは、上記光学異方層は、ディスコティック構造単位を有する化合物及び他の化合物(更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤)を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱した後重合させ(UV光の照射等により)、更に冷却することにより得られる。本発明に用いるディスコティック構造単位を有する化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度としては、70〜300℃が好ましく、特に、70〜170℃が好ましい。
【0054】
例えば、支持体側のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック構造単位を有する化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側(空気側)のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック構造単位を有する化合物あるいはディスコティック構造単位を有する化合物とともに使用する他の化合物(例、可塑剤、界面活性剤、重合成モノマー及びポリマー)を選択することにより調整することができる。更に、傾斜角の変化の程度も上記選択により調整することができる。
【0055】
上記可塑剤、界面活性剤及び重合成モノマーとしては、ディスコティック構造単位を有する化合物と相溶性を有し、ディスコティック構造単位を有する化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合成モノマー(例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物)が好ましい。上記化合物は、ディスコティック構造単位を有する化合物に対して一般に1〜50重量%(好ましくは5〜30重量%)の量にて使用される。
【0056】
上記ポリマーとしては、ディスコティック構造単位を有する化合物と相溶性を有し、ディスコティック構造単位を有する化合物に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマーでも使用することができる。ポリマー例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、アルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。上記ポリマーは、ディスコティック構造単位を有する化合物の配向を阻害しないように、ディスコティック構造単位を有する化合物に対して一般に0.1〜10重量%(好ましくは0.1〜8重量%、特に0.1〜5重量%)の量にて使用される。
【0057】
セルロースアセテートブチレート(酢酸酪酸セルロース)のブチリル化度は、30%以上、特に30〜80%の範囲が好ましい。セルロースアセテートブチレートの粘度(ASTM D−817−72に従う測定により得られる値)は、0.01〜20秒の範囲が好ましい。
【0058】
上記図7に示される変化する傾斜角を有する光学異方層(光学異方素子)を備えた液晶素子は、極めて拡大された視野角を有し、そして画像の反転、あるいは表示画像の諧調あるいは着色の発生がほとんどないものである。
【0059】
光学異方層の形成条件は、ディスコティック構造単位を有する化合物を含む組成(ディスコティック構造単位を有する化合物の組合せや、併用する他の化合物の種類や量)により適宜選択される。その条件としては、ディスコティックネマチック層を形成するための加熱温度あるいは加熱時間、加熱後の冷却速度、層厚そして塗布方法等を挙げることができる。
【0060】
ディスコティック構造単位を有する化合物は、該化合物の性質、熟成条件等により、複数の異なるドメインを形成する場合があり、これが層内部の不均一性に起因するヘイズとなる。ヘイズは液晶素子のコントラストの低下をもたらし、表示に悪影響を及ぼす。このようなヘイズの低減には、ディスコティック構造単位を有する化合物をモノドメインとすること、あるいは複数のドメインを形成しても、その1つ1つのドメインサイズを0.1μm以下、好ましくは、0.08μm以下とすることにより、可視光に影響を及ぼさなくすることができる。
【0061】
本発明における光学異方素子は、法線方向から傾いた方向に、0以外のレターデーションの絶対値の最小値を有し、光学軸を持たない。光学異方層の複屈折率をΔn3とし、厚みをd3とする。ディスコティック構造単位を有する化合物は負の複屈折性を持っているためにΔn3は負となる。Δn3とd3との積の絶対値で表される光学異方層のレターデーションが50nm〜1000nmであることが好ましい。50〜800nmであることが好ましく、更に、100〜500nmであることが好ましい。
【0062】
光学異方層のレターデーションの絶対値の最小値を示す方向が、光学異方層の法線から5〜80度傾斜していることが好ましく、更に10〜70度が好ましく、特に20〜60度が好ましい。
【0063】
光学異方層を形成するための溶液は、ディスコティック構造単位を有する化合物及び前述の他の化合物を溶剤に溶解することにより作製することができる。
上記溶剤の例としては、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルフォキシド(DMSO)及びピリジン等の極性溶剤、ベンゼン及びヘキサン等の無極性溶剤、クロロホルム及びジクロロメタン等のアルキルハライド類、酢酸メチル及び酢酸ブチル等のエステル類、アセトン及びメチルエチルケトン等のケトン類、及びテトラヒドロフラン及び1,2−ジメトキシエタン等のエーテル類、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類を挙げることができる。アルキルハライド類及びケトン類が好ましい。溶剤は単独でも、組み合わせて使用しても良い。
【0064】
上記溶液の塗布方法としては、カーテンコーティング、押し出しコーティング、ロールコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、印刷コーティング、スプレーコーティング及びスライドコーティングを挙げることができる。
本発明では、ディスコティック構造単位を有する化合物のみの混合物の場合は、蒸着法も使用することができる。本発明では、連続塗布が好ましい。したがって、カーテンコーティング、押し出しコーティング、ロールコーティング及びスライドコーティングが好ましい。
上記光学異方層は、前述したように、上記塗布溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでガラス転移温度以上に加熱し(その後所望により硬化させ)、冷却することにより得られる。
【0065】
本発明における光学異方素子は、液晶素子において、液晶セルによる複屈折を補償するものであるから、光学異方層の波長分散は、液晶セルと等しいことが好ましい。光学異方層の450nm、600nmの光によるレターデーションをそれぞれR(450nm)、R(600nm)とすれば、式(3)における波長分散を表すR(450nm)/R(600nm)値は、1.0以上であることが好ましく、更に、1.0〜1.3であることが好ましい。
【0066】
本発明の液晶素子の代表的構成例を図8に示す。図8において、透明電極を備えた一対の基板とその基板間に封入されたベンド配向液晶セルとからなる液晶セルPIC、液晶セルの両側に設けられた一対の偏光板A、B、液晶セルと偏光板との間に配置された光学異方素子OC1、OC2及びバックライトBLが組み合わされて液晶素子を構成している。光学異方素子は一方のみ配置しても良い(すなわち、OC1またはOC2)。R1、R2の矢印は図7における矢印75に相当する方向である。図8の場合、光学異方素子OC1、OC2の光学異方層側が液晶セル側となっている。光学異方素子OC1、OC2の光学異方層側を偏光板側に向けても構わない。但し、この場合は、R1、R2の矢印の方向は図8とは逆の方向となる。
液晶セルPICの矢印RP1、RP2は、液晶セル基板のラビング方向を表す。PA及びPBは、それぞれ偏光板A、Bの偏光の透過軸を表す。
【0067】
本発明においては、光学異方素子の光学異方層側が液晶セル側となるように配置することが好ましい。この場合、図8において、R1とRP1、R2とRP2のなす角は、―45゜〜45゜の範囲が好ましい。−20゜〜20゜の範囲がより好ましく、−10゜〜10゜が特に好ましい。また、2枚の光学異方素子を液晶を挟むように配置することが好ましい。PAとPBは直交または平行であることが好ましい。ここでは、実質的に、直交または平行であればよく、10゜以下であれば、ずれていても構わない。RP1とPAのなす角は、10゜〜80゜が好ましく、20゜〜70゜が更に好ましく、35゜〜55゜が特に好ましい。
【0068】
本発明の液晶素子の他の構成例を図9に示す。図9において、91は偏光板、92は本発明における光学異方素子、93は透明電極を備えた一対の基板とその基板間に封入されたHAN型液晶セル、94は反射板である。また、拡散板を備えていても構わない。
95は偏光板の光の透過軸、96の矢印は図7における矢印75に相当する方向、97は液晶セル93の上基板のラビング方向、98は垂直配向膜を示す。
【0069】
図9においても、光学異方素子の光学異方層側が液晶セル側となるように配置することが好ましい。この場合、96と97のなす角は、―45゜〜45゜の範囲が好ましい。−20゜〜20゜の範囲がより好ましく、−10゜〜10゜が特に好ましい。95と97のなす角は、10゜〜80゜が好ましく、20゜〜70゜が更に好ましく、35゜〜55゜が特に好ましい。
【0070】
本発明においては、セル中央部にねじれ配向が存在する液晶セルを含むベンド配向液晶セル、または、HAN型液晶セルを用いる。液晶の屈折率異方性Δnと、液晶セルにおける液晶層の厚みdとの積Δn・dは、輝度と視野角を両立させるために、300nm〜3000nmであることが好ましい。ベンド配向液晶セルにおいては、700nm〜2000nmであることが更に好ましく、800nm〜1800nmであることが特に好ましい。HAN型液晶セルにおいては、350nm〜1000nmであることが更に好ましく、400nm〜900nmであることが特に好ましい。
【0071】
本発明における液晶素子は、ノーマリーホワイトモード(以下、NWモード)とノーマリーブラックモード(以下、NBモード)で用いることができる。NBモードにおいては、視角が大きくなるにしたがって、色味変化が大きくなることから、NWモードで用いることが好ましい。
【0072】
【実施例】
(ベンド配向液晶セルの作製)
ITO電極付きのガラス基板にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行う。このような2枚のガラス基板をパラレルの配置で向き合わせ、セルギャップd1を8μmに設定し、メルク社製液晶ZLI1132(Δn1=0.1396)を注入し、ベンド配向液晶セルを作製する。Δn1とd1との積が1117nmである。
【0073】
(HAN型液晶セルの作製)
ITO電極付きのガラス基板にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行う。ITO電極付きのガラス基板をもう一枚用意し、SiO蒸着膜を配向膜として設けた。この2枚のガラス基板を向き合わせ、セルギャップd1を4μmに設定し、メルク社製液晶ZLI1132(Δn1=0.1396)を注入し、HAN型液晶セルを作製する。Δn1とd1との積が558nmである。
【0074】
(光学異方素子1の作製)
ホスゲンとビスフェノールAの縮合により得られた分子量12万のポリカーボネートを二塩化メチレンに溶解し、18%溶液とした。これをスチールドラム上に流延し、連続的にはぎ取り、二軸延伸しながら乾燥し、厚さd2が60μmのフィルムを得た。このフィルムをエリプソメーターAEP−100によってレターデーション値を測定し、屈折率に換算したところ、nx=1.540、ny=1.540、nz=1.536であった。nx、nyは面内にあり、nzは法線方向であった。{(nx+ny)/2−nz}×d2=240nmであり、式(1)の条件を満たしていた。|(nx−ny)×d2|=0であり、式(2)の条件を満たしていた。また、Δn2(450nm)/Δn2(600nm)は、1.1であり、式(3)の条件を満たしていた。
【0075】
この配向膜上に下記ディスコティック液晶1.8g(TE−8(8、m=4))、トリメチロールプロバンEO変成トリアクリレート(V#360 大阪有機化学) 0.2g、セルロースアセテートブチレート(CAB551−0.2イーストマンケミカル) 0.04g、光重合開始剤(イルガキュアー907チバガイギー)0.06g、増感剤(カヤキュアーDETX 日本化薬)0.02gを3.43gのメチルエチルケトンに溶解した塗布液を調液する。この塗布液を#10のワイヤーバーで塗布し、金属の枠に貼り付けて140℃の高温槽中で3分間加熱し、ディスコティック液晶を配向させた後、140℃のまま120W/cm高圧水銀灯を用いて1分間UV照射し架橋した。その後、室温まで放冷した。このようにして本発明における光学異方素子を作製した。
【0076】
ディスコティック液晶層の厚みは、およそ5.0μmであった。ディスコティック液晶層のみのレターデーション値をラビング軸に沿って測定したところ、レターデーションが0となる方向は存在しなかった。この値をシミュレーションによってフィッティングしたところ、負の一軸性が厚み方向に4゜から68゜連続的に変化したハイブリッド配向を示していることがわかった。光学軸の平均傾斜角は36゜、光学異方層であるディスコティック液晶層の複屈折率Δn3と厚みd3との積は160nmであった。
【0077】
また、得られた本発明の光学異方素子をミクロトームを用いてラビング方向で深さに沿って切断し、極めて薄いフィルム(サンプル)を作製した。このサンプルをOsO4の雰囲気中に48時間放置して、染色した。得られた染色フィルムを、透過型電子顕微鏡(TEM)によって観察し、その顕微鏡写真を得た。染色フィルムでは、ディスコティック構造単位を有する化合物TE−8(8、m=4)のアクリロイル基が染色され、写真の像として認められた。
この写真から、光学異方層のディスコティック構造単位を有する化合物は透明支持体の表面から傾いており、かつその傾斜角が、光学異方層の底部から深さ方向の距離の増加とともに、連続的に増加していることが認められた。
【0078】
(光学異方素子2の作製)
ホスゲンとビスフェノールAの縮合により得られた分子量12万のポリカーボネートを二塩化メチレンに溶解し、18%溶液とした。これをスチールドラム上に流延し、連続的にはぎ取り、アンバランス二軸延伸しながら乾燥し、厚さ70μmのフィルムを得た。このフィルムをエリプソメーターAEP−100によってレターデーション値を測定し、屈折率に換算したところ、nx=1.549、ny=1.544、nz=1.540であった。nx、nyは面内にあり、nzは法線方向であった。{(nx+ny)/2−nz}×d2=455nmであり、|(nx−ny)×d2|=350nmであった。また、Δn2(450nm)/Δn2(600nm)は、1.1であった。
【0079】
実施例1
作製したベンド配向液晶セルに、光学異方素子1をセルを挟むように2枚、ディスコティック液晶層側がセルに近くなるように配置した。ベンド配向液晶セルのラビング方向と光学異方素子1のラビング方向は反平行になるように配置した。その外側に全体を挟むように偏光板をクロスニコルに配置した。
この液晶セルに対して、55Hz矩形波で電圧を印加した。白表示2V、黒表示6VのNWモードとし、透過率の比(白表示)/(黒表示)をコントラスト比として、上下、左右からのコントラスト比測定を大塚電子製LCD−5000にて行った。コントラスト比10の等コントラスト曲線を図10に示す。この曲線の内側がコントラスト比10以上となる。
【0080】
比較例1
作製したベンド配向液晶セルに、光学異方素子2を手前側に1枚、ベンド配向液晶セルのラビング方向と光学異方素子2のnyの方向とが一致するように配置した。その外側に全体を挟むように偏光板をクロスニコルに配置した。この液晶セルに対して、55Hz矩形波で電圧を印加した。白表示6V、黒表示2VのNBモードとし、透過率の比(白表示)/(黒表示)をコントラスト比として、上下、左右からのコントラスト比測定を大塚電子製LCD−5000にて行った。コントラスト比10の等コントラスト曲線を図11に示す。この曲線の内側がコントラスト比10以上となる。
【0081】
実施例2
作製したHAN型液晶セルに、光学異方素子1を手前側に1枚、ディスコティック液晶層側がセルに近くなるように配置した。HAN型液晶セルのラビング方向と光学異方素子1のラビング方向は反平行になるように配置した。手前側には偏光板を透過軸と液晶セルのラビング方向とのなす角が45゜となるように配置し、偏光板の更に手前側には拡散板を配置した。その反対の面には、ガラス基板の外側にミラーを用い、反射型液晶素子とした。
この反射型液晶素子に法線方向から20゜傾けた方向に光源を置き、光を照射した。液晶セルには55Hz矩形波で電圧を印加した。白表示2V、黒表示6VのNWモードとし、透過率の比(白表示)/(黒表示)をコントラスト比として、上下、左右からのコントラスト比測定をTOPCON製bm−7にて行った。コントラスト比10の等コントラスト曲線を図12に示す。この曲線の内側がコントラスト比10以上となる。
【0082】
比較例2
作製したHAN型液晶セルに、光学異方素子を手前側に1枚、HAN型液晶セルのラビング方向と光学異方素子のnyの方向とが一致するように配置した。手前側には偏光板を透過軸と液晶セルのラビング方向とのなす角が45゜となるように配置し、奥側にはTiO2粉末を含む白色板を拡散板として用い、反射型液晶素子とした。この液晶セルに55Hz矩形波で電圧を印加し、白表示6V、黒表示2VのNBモードとし、実施例2と同様にコントラスト比測定を行った。コントラスト比10の等コントラスト曲線を図13に示す。この曲線の内側がコントラスト比10以上となる。
【0083】
本発明である実施例1〜2は、比較例1〜2に比べて、大幅に視野角特性が改善されていることがわかる。
【0084】
【発明の効果】
本発明によれば、視角特性が改善され、視認性にすぐれ、高速表示が可能な高品位表示の液晶素子を提供することができる。また、本発明をTFTやMIMなどの3端子、2端子素子を用いたアクティブマトリクス液晶素子に応用しても優れた効果が得られることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のTN型液晶セルの配向状態を模式的に示した図である。
【図2】ベンド配向液晶セルの配向状態を模式的に示した図である。
【図3】HAN型液晶セルの配向状態を模式的に示した図である。
【図4】正の一軸性を仮定した場合の液晶セルが、負の一軸性光学異方体によって視角特性が改善される原理を示した模式図である。
【図5】本発明のベンド配向液晶セルの光学補償を模式的に示した図である。
【図6】本発明のHAN型液晶セルの光学補償を模式的に示した図である。
【図7】本発明に用いられる光学異方素子の断面図である。
【図8】本発明のベンド配向液晶素子の構成を示した図である。
【図9】本発明の反射型HAN型液晶素子の構成を示した図である。
【図10】実施例1の等コントラスト曲線(コントラスト比10)を説明する図である。
【図11】比較例1の等コントラスト曲線(コントラスト比10)を説明する図である。
【図12】実施例2の等コントラスト曲線(コントラスト比10)を説明する図である。
【図13】比較例2の等コントラスト曲線(コントラスト比10)を説明する図である。
【符号の説明】
11−−−−−−−−液晶セルの上基板
12−−−−−−−−TN液晶
13−−−−−−−−液晶セルの下基板
14、15−−−−−光の進む方向
21−−−−−−−−液晶セルの上基板
22−−−−−−−−ベンド配向液晶
23−−−−−−−−液晶セルの下基板
24、25−−−−−光の進む方向
31−−−−−−−−液晶セルの上基板
32−−−−−−−−HAN型液晶
33−−−−−−−−液晶セルの下基板
34−−−−−−−−入射光
35−−−−−−−−反射光
41−−−−−−−−負の一軸性の光学異方素子の屈折率楕円体
42−−−−−−−−負の一軸性の光学異方素子
43−−−−−−−−正の一軸性の液晶セル
44−−−−−−−−正の一軸性の液晶セルの屈折率楕円体
51−−−−−−−−負の一軸性を積層した光学異方素子
52−−−−−−−−ベンド配向液晶セル
61―――−−−−−負の一軸性を積層した光学異方素子
62−−−−−−−−HAN型液晶セル
71――――――――透明支持体
72――――――――配向膜
73――――――――光学異方層
73a、73b、73c――ディスコティック構造単位を有する化合物
Pa、Pb、Pc―――――ディスコティック構造単位の面
71a、71b、71c――透明支持体21の面に平行な面
θa、θb、θc―――――傾斜角
74――――――――透明支持体の法線
75――――――――ラビング方向
PIC―――――――ベンド配向液晶セル
A、B―――――――偏光板
OC1、OC2―――光学異方素子
BL――――――――バックライト
R1、R2―――――図7における矢印75の方向
RP1、RP2―――液晶セル基板のラビング方向
PA――――――――偏光板Aの偏光の透過軸
PB――――――――偏光板Bの偏光の透過軸
91――――――――偏光板
92――――――――光学異方素子
93――――――――透明電極を備えた一対の基板とその基板間に封入されたHAN型液晶セル
94――――――――反射板
95――――――――偏光板の光の透過軸
96――――――――図7における矢印75に相当する方向
97――――――――液晶セル93の上基板のラビング方向
98――――――――垂直配向膜

Claims (9)

  1. 2枚の電極基板間に液晶を挟持してなる液晶セルと、その両側に配置された2枚の偏光素子と、該液晶セルと該偏光素子の間に少なくとも1枚の光学異方素子を配置した液晶素子において、該光学異方素子が透明支持体及びその上に設けられた光学異方層からなり、該光学異方層が、ディスコティック構造単位を有する化合物を溶媒に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、ディスコティックネマチック相形成温度まで加熱した後、重合させることにより得られた層であり、そして、該ディスコティック構造単位の円盤面が、透明支持体面に対して傾いており、かつ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角が、光学異方層の深さ方向において変化しており、該透明支持体が、下記の条件を満足し、
    100≦{(nx+ny)/2−nz}×d2≦1000 … (1)
    0≦|(nx−ny)×d2|≦200 … (2)
    (但し、nx及びnyは支持体の面内の主屈折率を表し、nzは厚み方向の主屈折率を表し、d2は支持体の厚さを表し、そして上記式の単位はnmである)該液晶セルがセル中央部にねじれ配向が存在する液晶セルを含むベンド配向液晶セル、または、HAN型液晶セルであることを特徴とする液晶素子。
  2. 該角度が、光学異方層の深さ方向において、光学異方層の底面からの距離の増加とともに増加している請求項1に記載の液晶素子。
  3. 液晶の複屈折率をΔn1とし、液晶セルのセルギャップをd1としたときに、Δn1とd1との積が300nm、以上3000nm以下である請求項1に記載の液晶素子。
  4. 該透明支持体の複屈折率Δn2の、下記式で表される波長分散値αが1.0以上、1.3以下である請求項1に記載の液晶素子。
    α=Δn2(450nm)/Δn2(600nm) … (3)
    (但し、Δn2(450nm)は波長が450nmにおけるΔn2を表し、Δn2(600nm)は波長が600nmにおけるΔn2を表わす)
  5. 該光学異方層の複屈折率をΔn3とし、厚みをd3としたときに、Δn3とd3との積の絶対値が50nm以上、1000nm以下である請求項1に記載の液晶素子。
  6. 光学異方層と透明支持体との間に、配向膜が形成されている請求項1に記載の液晶素子。
  7. 配向膜がポリマーの硬化膜からなる請求項6に記載の液晶素子。
  8. ノーマリーホワイトモードであることを特徴とする請求項1に記載の液晶素子。
  9. 2枚の電極基板間に液晶を挟持してなる液晶セルと、その両側に配置された2枚の偏光素子と、該液晶セルと該偏光素子の間に少なくとも1枚の光学異方素子を配置した液晶素子において、該光学異方素子が透明支持体及びその上に設けられた光学異方層からなり、該光学異方層が、ディスコティック構造単位を有する化合物を含む層であり、そして、該ディスコティック構造単位の円盤面が、透明支持体面に対して傾いており、かつ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角が、光学異方層の深さ方向において変化しており、該透明支持体が、下記の条件を満足し、
    100≦{(nx+ny)/2−nz}×d2≦1000 (1)
    0≦|(nx−ny)×d2|≦200 (2)
    (但し、nx及びnyは支持体の面内の主屈折率を表し、nzは厚み方向の主屈折率を表し、d2は支持体の厚さを表し、そして上記式の単位はnmである)該液晶セルがセル中央部にねじれ配向が存在する液晶セルを含むベンド配向液晶セル、または、HAN型液晶セルである液晶素子の製造方法であって、ディスコティック構造単位を有する化合物を溶媒に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、ディスコティックネマチック相形成温度まで加熱した後、重合させることにより該光学異方層を製造することを特徴とする液晶素子の製造方法。
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JP7107756B2 (ja) * 2018-06-05 2022-07-27 ポリプラ・エボニック株式会社 シート及びシートの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7787084B2 (en) 2006-03-31 2010-08-31 Fujifilm Corporation Optical compensation film, polarizing plate and liquid crystal display device

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