JPH01132784A - バフ研磨洗浄剤 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02825—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine containing hydrogen
- C23G5/02829—Ethanes
- C23G5/02838—C2HCl2F3
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分身]
本発明はバフ研磨剤を用いて研磨した金属部品等に付着
した研磨剤類を除去するために用いるバフ研磨洗浄剤に
関するものである。
した研磨剤類を除去するために用いるバフ研磨洗浄剤に
関するものである。
[従来の技術]
精密金属部品、装飾部品等のバフ研磨工程で研磨剤類が
使われるが、これらが付着したままでは製品とはならな
い場合が多い。従って、このような部品の仕上げ工程で
は有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種類と
しては1、1. i トリクロルエタンが広く使われて
いる。
使われるが、これらが付着したままでは製品とはならな
い場合が多い。従って、このような部品の仕上げ工程で
は有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種類と
しては1、1. i トリクロルエタンが広く使われて
いる。
[発明の解決しようとする問題点]
本発明は従来使用されていたI、 1. l−トリクロ
ルエタンは地下水汚染の点から好ましくないため、その
使用量を抑えるべ(+、1.iトリクロルエタンにかわ
る新規のバフ研磨洗浄剤を提供することを目的とするも
のである。
ルエタンは地下水汚染の点から好ましくないため、その
使用量を抑えるべ(+、1.iトリクロルエタンにかわ
る新規のバフ研磨洗浄剤を提供することを目的とするも
のである。
[問題点を解決するための手段]
本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
ジクロロトリフルオロエタンを有効成分として含イ■す
るバフ研磨洗浄剤を提供するものである。
ジクロロトリフルオロエタンを有効成分として含イ■す
るバフ研磨洗浄剤を提供するものである。
本発明のバフ研磨洗浄剤の有効成分であるジクロロトリ
フルオロエタンは、不燃性で適度な溶解力がある等の利
点を右する優れた溶剤である。ジクロロトリフルオロエ
タンには1.1−ジクロロ−2,2,2−1−リフルオ
ロエタン(以下R123という) 、 1.2−ジクロ
ロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以’l;’ R
123aという)、1.1−ジクロロ−+:z、z−ト
リフルオロエタン(以下R123bという)の3種類の
異性体が知られているが、これらを「1i独であるいは
これら2種以上の混合物として用いることができる。
フルオロエタンは、不燃性で適度な溶解力がある等の利
点を右する優れた溶剤である。ジクロロトリフルオロエ
タンには1.1−ジクロロ−2,2,2−1−リフルオ
ロエタン(以下R123という) 、 1.2−ジクロ
ロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以’l;’ R
123aという)、1.1−ジクロロ−+:z、z−ト
リフルオロエタン(以下R123bという)の3種類の
異性体が知られているが、これらを「1i独であるいは
これら2種以上の混合物として用いることができる。
本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
剤の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも1種を含有させることが
できる。これらの41機溶剤のバフ研磨洗浄剤中の含有
割合は、0〜50川id%、好ましくはIQ〜40qj
r、1%、さらに好ましくは20〜30重量%である。
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
剤の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも1種を含有させることが
できる。これらの41機溶剤のバフ研磨洗浄剤中の含有
割合は、0〜50川id%、好ましくはIQ〜40qj
r、1%、さらに好ましくは20〜30重量%である。
ジクロロトリフルオロエタンと有機溶剤との混合物に共
沸組成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好
ましい。
沸組成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好
ましい。
炭化水素類としては炭素数1〜15の直鎖又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、イ
ソペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、2−メチル
ペンタン、2.2−ジメチルブタン、2.3−ジメチル
ブタン、n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキ
サン、2.4−ジメチルペンタン、n−オクタン、2−
メチルへブタン、3−メチルへブタン、4−メチルへブ
タン、2.2−ジメチルヘキサン、2.5−ジメチルヘ
キサン、3.3−ジメチルヘキサン、2−メチル−3−
エチルペンタン、3−メチル−3−エチルペンタン、2
、3.3−1−ジメチルペンタン、2.3.4−1−ジ
メチルペンタン、2.2.3−1−ジメチルペンタン、
イソオクタン、ノナン、2.2.5− トリメチルヘキ
サン、デカン、ドデンカン、1−ベンゾン、2−ペンテ
ン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、1−デ
セン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサ
ン、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン°、a−ピネン
、ジペンテン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミ
ルナフタレン等から選ばれるものである。より好ましく
は、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−へブタン等であ
る。
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、イ
ソペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、2−メチル
ペンタン、2.2−ジメチルブタン、2.3−ジメチル
ブタン、n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキ
サン、2.4−ジメチルペンタン、n−オクタン、2−
メチルへブタン、3−メチルへブタン、4−メチルへブ
タン、2.2−ジメチルヘキサン、2.5−ジメチルヘ
キサン、3.3−ジメチルヘキサン、2−メチル−3−
エチルペンタン、3−メチル−3−エチルペンタン、2
、3.3−1−ジメチルペンタン、2.3.4−1−ジ
メチルペンタン、2.2.3−1−ジメチルペンタン、
イソオクタン、ノナン、2.2.5− トリメチルヘキ
サン、デカン、ドデンカン、1−ベンゾン、2−ペンテ
ン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、1−デ
セン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサ
ン、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン°、a−ピネン
、ジペンテン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミ
ルナフタレン等から選ばれるものである。より好ましく
は、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−へブタン等であ
る。
゛アルコール類としては、炭素数1〜17の鎖状又は環
状の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、5ec−ブチル
アルコール、イソブチルアルコール、tcr L−ブチ
ルアルコール。
状の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、5ec−ブチル
アルコール、イソブチルアルコール、tcr L−ブチ
ルアルコール。
ペンチルアルコール、5ec−アミルアルコール、1−
エチル−1−プロパツール、2−メチル−1−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、LerL−ペンデルアル
コール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルア
ルコール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペンタ
ノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−
1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−ヘプタツール
、3−ヘプタツール、1−オクタツール、2−オクタノ
ール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール
、 3,5.5−トリメチル−1−ヘキサノール、l−
デカノール%l−ウンデカノール、トドデカノール、ア
リルアルコール、プロパルギルアルコール、ベンジルア
ルコール、シクロヘキサノール、I−メチルシクロヘキ
サノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチル
シクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール、
α−テルピネオール、アビニチノール、2.6−シメチ
ルー4−ヘプタツール、トリメチルノニルアルコール、
テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアルコール簀か
ら選ばれるものである。より好ましくはメタノール、エ
タノール。
エチル−1−プロパツール、2−メチル−1−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、LerL−ペンデルアル
コール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルア
ルコール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペンタ
ノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−
1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−ヘプタツール
、3−ヘプタツール、1−オクタツール、2−オクタノ
ール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール
、 3,5.5−トリメチル−1−ヘキサノール、l−
デカノール%l−ウンデカノール、トドデカノール、ア
リルアルコール、プロパルギルアルコール、ベンジルア
ルコール、シクロヘキサノール、I−メチルシクロヘキ
サノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチル
シクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール、
α−テルピネオール、アビニチノール、2.6−シメチ
ルー4−ヘプタツール、トリメチルノニルアルコール、
テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアルコール簀か
ら選ばれるものである。より好ましくはメタノール、エ
タノール。
イソプロピルアルコール等である。
ケトン類としては、R−CO−R’ 、 R−CD、
R−CO−R’ −rコアC1121 CO−R”、R−Co−R’、 R−CO−R’ (こ
こで、R,R″、R′′は炭素数l〜9の飽和又は不飽
和炭化水素基)のいずれかの一般式で示されるものが好
ましく、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノ
ン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチル−ロープ
チルケトン、メチルブチルケトン、2−ヘプタノン、4
−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセト
ン、メシチルオキシド、ホロン、メチル−〇−アミルケ
トン、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シ
クロヘキサノソ、メチルシクロヘキサノン、イソホロン
、2.4−ベンタンジオン、ジアセトンアルコール、ア
セトフェノン、フエンヂョン等から選ばれるものである
。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等であ
る。
R−CO−R’ −rコアC1121 CO−R”、R−Co−R’、 R−CO−R’ (こ
こで、R,R″、R′′は炭素数l〜9の飽和又は不飽
和炭化水素基)のいずれかの一般式で示されるものが好
ましく、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノ
ン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチル−ロープ
チルケトン、メチルブチルケトン、2−ヘプタノン、4
−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセト
ン、メシチルオキシド、ホロン、メチル−〇−アミルケ
トン、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シ
クロヘキサノソ、メチルシクロヘキサノン、イソホロン
、2.4−ベンタンジオン、ジアセトンアルコール、ア
セトフェノン、フエンヂョン等から選ばれるものである
。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等であ
る。
塩素化炭化水素類としては、炭素数1〜2の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1.1−ジクロルエタン、1.2−ジクロロ
エタン、 1.1.lトリクロルエタン、 1.1.2
−トリクロルエタン、1.1.1.2−テトラクロルエ
タン、1,1,2.2−テトラクロルエタン、ペンタク
ロルエタン、1,1−ジクロルエチレン、1,2−ジク
ロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メ
チレン、1、 l、 I−トリクロルエタン、トリクロ
ルエチレン、テトラクロルエチレン等である。
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1.1−ジクロルエタン、1.2−ジクロロ
エタン、 1.1.lトリクロルエタン、 1.1.2
−トリクロルエタン、1.1.1.2−テトラクロルエ
タン、1,1,2.2−テトラクロルエタン、ペンタク
ロルエタン、1,1−ジクロルエチレン、1,2−ジク
ロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メ
チレン、1、 l、 I−トリクロルエタン、トリクロ
ルエチレン、テトラクロルエチレン等である。
エステル類としては、次の一般式で示される6口0R4
(ここでり、 L、 Rs、 R4,Rs、 R−は1
1又は旧1又は炭素数1〜19の飽和ないし、不飽和結
合を有する炭化水素基。) 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸5ec−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、3−メトキシブチルアセ
テート、酢酸5ec−ヘキシル、2−エチルブチルアセ
テート、2−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル°、プロピオン酸イソ
ペンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸
イソペンチル、イソ酪酸イソブチル、2−ヒドロキシ−
2−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、
ステアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチ
ル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソ
ペンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−2−エチルヘキ
シル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジベンチル、マロン酸ジエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブチル、セバシン酸ビス−2−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル。
1又は旧1又は炭素数1〜19の飽和ないし、不飽和結
合を有する炭化水素基。) 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸5ec−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、3−メトキシブチルアセ
テート、酢酸5ec−ヘキシル、2−エチルブチルアセ
テート、2−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル°、プロピオン酸イソ
ペンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸
イソペンチル、イソ酪酸イソブチル、2−ヒドロキシ−
2−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、
ステアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチ
ル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソ
ペンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−2−エチルヘキ
シル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジベンチル、マロン酸ジエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブチル、セバシン酸ビス−2−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル。
フタル酸ビス−2−エチルヘキシル、フタル酸ジオクチ
ル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メチル
、酢酸エチル等である。
ル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メチル
、酢酸エチル等である。
本発明のバフ研磨洗浄剤には5各種の洗浄助剤、水、界
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混
合してもよい。洗浄方法としては1手拭き、浸漬、スプ
レー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用
することができる。
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混
合してもよい。洗浄方法としては1手拭き、浸漬、スプ
レー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用
することができる。
[実施例]
実施例1〜8
丁記第1表に示すバフ研磨洗浄剤を用いて研磨剤の除去
試験を行なった。
試験を行なった。
腕時計のフレームをバフ研磨剤(GS−1,創ω1工業
■製)で研磨後、バフ研磨洗浄剤に浸漬し、3分間超音
波をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を観察
した。その結果を第1表に示す。
■製)で研磨後、バフ研磨洗浄剤に浸漬し、3分間超音
波をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を観察
した。その結果を第1表に示す。
第1表
()内は混合比[巾M%]
○:良好に除去できる Δ:少hり残存X:かなり残佇
[発明の効果]
本発明のバフ研磨洗浄剤は実施例から明らかなように研
磨剤の除去効果の優れたものである。
磨剤の除去効果の優れたものである。
又、従来使用されていたI、 l、 i トリクロルエ
タンに比べ、金属、プラスチック及びエラストマー等か
ら成る研磨剤を除去すべき物品に悪影響を与えることが
少ない点で有利である。
タンに比べ、金属、プラスチック及びエラストマー等か
ら成る研磨剤を除去すべき物品に悪影響を与えることが
少ない点で有利である。
Claims (2)
- (1)ジクロロトリフルオロエタンを有効成分として含
有するバフ研磨洗浄剤。 - (2)バフ研磨洗浄剤中には、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
ばれる少なくとも1種が含まれている特許請求の範囲第
1項記載のバフ研磨洗浄剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28958087A JPH01132784A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | バフ研磨洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28958087A JPH01132784A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | バフ研磨洗浄剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01132784A true JPH01132784A (ja) | 1989-05-25 |
Family
ID=17745073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28958087A Pending JPH01132784A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | バフ研磨洗浄剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01132784A (ja) |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP28958087A patent/JPH01132784A/ja active Pending
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