JPH01132236U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01132236U JPH01132236U JP2797988U JP2797988U JPH01132236U JP H01132236 U JPH01132236 U JP H01132236U JP 2797988 U JP2797988 U JP 2797988U JP 2797988 U JP2797988 U JP 2797988U JP H01132236 U JPH01132236 U JP H01132236U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microwaves
- applicator
- distribution circuit
- circuit
- generate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
第1図は、本考案に係るプラズマ発生反応装置
の一実施例を示すブロツク図である。第2図Aは
同実施例における分配回路の横断面図で、第2図
Bはその分配回路の縦断面図である。第3図Aは
同分配回路のスロツトを示す概略図、第3図Bは
同分配回路の本管の寸法関係を示す図で、第3図
Cは同スロツト部分の等価回路図である。第4図
Aは、同実施例における遮断回路の横断面図で、
第4図Bはその遮断回路の側面図である。第5図
は、従来のプラズマ発生反応装置の一例を示す構
成図である。 主要符号の説明、20……マイクロ波発振器、
25,41……アイソレータ、30……分配回路
、31……本管、32〜36……分岐管、32a
〜36a……スロツト、A〜E……分岐系、42
……遮断回路、42d……シヤツタ板、42h,
42……1/4チヨーク、43……パワーコント
ロール用スタブ、44……パワーモニタ、45…
…スリースタブチユーナ、46……アプリケータ
、47……可変短絡器。
の一実施例を示すブロツク図である。第2図Aは
同実施例における分配回路の横断面図で、第2図
Bはその分配回路の縦断面図である。第3図Aは
同分配回路のスロツトを示す概略図、第3図Bは
同分配回路の本管の寸法関係を示す図で、第3図
Cは同スロツト部分の等価回路図である。第4図
Aは、同実施例における遮断回路の横断面図で、
第4図Bはその遮断回路の側面図である。第5図
は、従来のプラズマ発生反応装置の一例を示す構
成図である。 主要符号の説明、20……マイクロ波発振器、
25,41……アイソレータ、30……分配回路
、31……本管、32〜36……分岐管、32a
〜36a……スロツト、A〜E……分岐系、42
……遮断回路、42d……シヤツタ板、42h,
42……1/4チヨーク、43……パワーコント
ロール用スタブ、44……パワーモニタ、45…
…スリースタブチユーナ、46……アプリケータ
、47……可変短絡器。
Claims (1)
- マイクロ波によりアプリケータ内でプラズマを
発生させ、物体表面に薄膜、結晶等を生成させる
装置であつて、マイクロ波を発生する単一のマイ
クロ波発振器と、そのマイクロ波を導入してアプ
リケータを具えた複数の分岐系に対し所定電力の
マイクロ波を分配する分配回路とを有することを
特徴とするプラズマ発生反応装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988027979U JPH0623569Y2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | プラズマ発生反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988027979U JPH0623569Y2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | プラズマ発生反応装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01132236U true JPH01132236U (ja) | 1989-09-07 |
JPH0623569Y2 JPH0623569Y2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=31250949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1988027979U Expired - Lifetime JPH0623569Y2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | プラズマ発生反応装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0623569Y2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005310478A (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-04 | Naohisa Goto | プラズマ処理装置および処理方法、並びに、フラットパネルディスプレイの製造方法 |
WO2006009281A1 (ja) * | 2004-07-23 | 2006-01-26 | National University Corporation Tohoku University | プラズマ処理装置および方法、並びにフラットパネルディスプレイ装置の製造方法 |
JP2011249106A (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-08 | Hitachi Ltd | マイクロ波加熱装置 |
JP4982022B2 (ja) * | 1999-09-13 | 2012-07-25 | サントル ナショナル ドゥ ラ ルシュルシュ シャンティフィク(セ・エヌ・エル・エス) | マイクロ波システム |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58104633A (ja) * | 1981-12-04 | 1983-06-22 | ポリプラズマ インコーポレイテッド | 素材処理用のマイクロ波プラズマ発生装置 |
JPS59189130A (ja) * | 1983-04-13 | 1984-10-26 | Toyota Motor Corp | プラズマ処理方法 |
JPS637376A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-13 | Shimadzu Corp | Ecr−cvd装置 |
-
1988
- 1988-03-02 JP JP1988027979U patent/JPH0623569Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58104633A (ja) * | 1981-12-04 | 1983-06-22 | ポリプラズマ インコーポレイテッド | 素材処理用のマイクロ波プラズマ発生装置 |
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JP4982022B2 (ja) * | 1999-09-13 | 2012-07-25 | サントル ナショナル ドゥ ラ ルシュルシュ シャンティフィク(セ・エヌ・エル・エス) | マイクロ波システム |
JP2005310478A (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-04 | Naohisa Goto | プラズマ処理装置および処理方法、並びに、フラットパネルディスプレイの製造方法 |
WO2006009281A1 (ja) * | 2004-07-23 | 2006-01-26 | National University Corporation Tohoku University | プラズマ処理装置および方法、並びにフラットパネルディスプレイ装置の製造方法 |
JP2006040609A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Naohisa Goto | プラズマ処理装置および方法、並びにフラットパネルディスプレイ装置の製造方法 |
JP2011249106A (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-08 | Hitachi Ltd | マイクロ波加熱装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0623569Y2 (ja) | 1994-06-22 |
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