JPH01129144A - 異物有無検査装置 - Google Patents
異物有無検査装置Info
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- JPH01129144A JPH01129144A JP62287650A JP28765087A JPH01129144A JP H01129144 A JPH01129144 A JP H01129144A JP 62287650 A JP62287650 A JP 62287650A JP 28765087 A JP28765087 A JP 28765087A JP H01129144 A JPH01129144 A JP H01129144A
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- 239000000126 substance Substances 0.000 title description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
- G01N21/8901—Optical details; Scanning details
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、主としてＬＳＩ製造プロセスにおいて、半導
体ウェハーに回路パターンを焼付けるために用いられる
レティクルとかマスク、または、回路パターンが形成さ
れた製品ウェハー、更には、液晶用基板などの検査対象
基板の表面に、異物が付着しているか否かを検査するた
めの装置に係り、より詳しくは、表面に回路パターンが
描かれている検査対象基板の該表面に対してレーザービ
ームを走査照射するように構成すると共に、その検査対
象基板の表面からの反射散乱光に対する検出光学系を設
け、その検出光学系による反射散乱光の検出結果に基い
て前記検査対象基板の表面における異物の有無を判別す
るように構成されている異物有無検査装置に関する。
体ウェハーに回路パターンを焼付けるために用いられる
レティクルとかマスク、または、回路パターンが形成さ
れた製品ウェハー、更には、液晶用基板などの検査対象
基板の表面に、異物が付着しているか否かを検査するた
めの装置に係り、より詳しくは、表面に回路パターンが
描かれている検査対象基板の該表面に対してレーザービ
ームを走査照射するように構成すると共に、その検査対
象基板の表面からの反射散乱光に対する検出光学系を設
け、その検出光学系による反射散乱光の検出結果に基い
て前記検査対象基板の表面における異物の有無を判別す
るように構成されている異物有無検査装置に関する。
かかる異物有無検査装置は、従来一般に、下記のように
構成されていた。
構成されていた。
即ち、第３図に示すように、表面に回路パターン（図示
せず）が描かれた検査対象基板０（その表面には、図示
しているように、ペリクル枠１が形成されているのが普
通である）を載置したステージ（図示せず）を水平面上
で一方向（Ｘ方向）。
せず）が描かれた検査対象基板０（その表面には、図示
しているように、ペリクル枠１が形成されているのが普
通である）を載置したステージ（図示せず）を水平面上
で一方向（Ｘ方向）。
に直線移動走査させると共に、例えばＨｅ−Ｎａレーザ
ーを発振するレーザー発振器２．ビームエキスパンダー
３．スキャニング用のガルバノミラ−４，集光レンズ５
等から成る入射光学系Ａにより、前記検査対象基板０の
所定角度斜め上方向から、その検査対象基板０の検査表
面に所定の振動面を有する直線偏光レーザービームＬを
、前記Ｘ方向に直交するｙ方向における所定範囲内で往
復直線走査させながら照射し、その照射レーザービーム
Ｌの検査表面からの反射散乱光Ｒを、検査対象基板０の
ｙ方向における両側方斜め上方に配置した検出光学系Ｂ
、Ｂで検出するように構成されている。つまり、検査対
象基板Ｏの表面に異物が存在する場合には、照射レーザ
ービームＬがその異物により全方向にアットランダムに
散乱するため、その反射散乱光Ｒが側方に位置する検出
光学系Ｂ、Ｂに検出されることになり、これによって、
前記検査対象基板０の表面における異物の存在が検知さ
れるのである。
ーを発振するレーザー発振器２．ビームエキスパンダー
３．スキャニング用のガルバノミラ−４，集光レンズ５
等から成る入射光学系Ａにより、前記検査対象基板０の
所定角度斜め上方向から、その検査対象基板０の検査表
面に所定の振動面を有する直線偏光レーザービームＬを
、前記Ｘ方向に直交するｙ方向における所定範囲内で往
復直線走査させながら照射し、その照射レーザービーム
Ｌの検査表面からの反射散乱光Ｒを、検査対象基板０の
ｙ方向における両側方斜め上方に配置した検出光学系Ｂ
、Ｂで検出するように構成されている。つまり、検査対
象基板Ｏの表面に異物が存在する場合には、照射レーザ
ービームＬがその異物により全方向にアットランダムに
散乱するため、その反射散乱光Ｒが側方に位置する検出
光学系Ｂ、Ｂに検出されることになり、これによって、
前記検査対象基板０の表面における異物の存在が検知さ
れるのである。
前記各検出光学系Ｂは、第４図にもその具体的構成を示
しているように、基本的には、集光レンズ６、反射散乱
光に対する入射光制限用スリット７を有する固定スリッ
ト板８２例えば光電子倍増管から成る光検出器９等を筒
状ケーシング１０内にその順に並設して組み合わせたユ
ニント構成とされている。
しているように、基本的には、集光レンズ６、反射散乱
光に対する入射光制限用スリット７を有する固定スリッ
ト板８２例えば光電子倍増管から成る光検出器９等を筒
状ケーシング１０内にその順に並設して組み合わせたユ
ニント構成とされている。
しかしながら、上記した従来構成の異物有無検査装置に
おいては、次のような欠点があった。
おいては、次のような欠点があった。
即ち、前記検出光学系Ｂは、迷光の影響を少なくするた
めに、光検出器９の前方に、反射散乱光Ｒに対する入射
光制限用スリット７を有する固定スリット板８を設ける
、という手段を採用して構成されていたが、かかる固定
スリット方式では、常に確実に迷光の影響を除去するこ
とは不可能であった。
めに、光検出器９の前方に、反射散乱光Ｒに対する入射
光制限用スリット７を有する固定スリット板８を設ける
、という手段を採用して構成されていたが、かかる固定
スリット方式では、常に確実に迷光の影響を除去するこ
とは不可能であった。
それは、検査対象とされる基板Ｏおよびその表面上に形
成されるペリクル枠１の大きさが千差万別であるため、
その検査対象基板０およびペリクル枠１の大きさによっ
ては、第５図に例示しているように、前記固定スリット
板８のスリット７の投影像がペリクル枠１に重複してし
まうことが往々にして生じ易い、このような場合には、
ペリクル枠ｌからの反射散乱光Ｒが検出光学系Ｂへ迷光
として入射して、異物が存在するものとして誤検出され
てしまうことになる。つまり、上記従来構成の異物有無
検査装置では、ペリクル枠１に近い箇所については迷光
の影響が大きくて異物検出性能に限界があり、従って、
異物検出可能領域にも制限があった（具体的には、ペリ
クル枠ｌから２〜３ＩＩｌｌＩｉ１れた領域までしか検
査できなかった）。
成されるペリクル枠１の大きさが千差万別であるため、
その検査対象基板０およびペリクル枠１の大きさによっ
ては、第５図に例示しているように、前記固定スリット
板８のスリット７の投影像がペリクル枠１に重複してし
まうことが往々にして生じ易い、このような場合には、
ペリクル枠ｌからの反射散乱光Ｒが検出光学系Ｂへ迷光
として入射して、異物が存在するものとして誤検出され
てしまうことになる。つまり、上記従来構成の異物有無
検査装置では、ペリクル枠１に近い箇所については迷光
の影響が大きくて異物検出性能に限界があり、従って、
異物検出可能領域にも制限があった（具体的には、ペリ
クル枠ｌから２〜３ＩＩｌｌＩｉ１れた領域までしか検
査できなかった）。
本発明の目的は、かかる従来問題を解消せんとすること
にある。
にある。
上記目的を達成するために、本発明は、冒頭に記載した
ような基本的構成を有する異物有無検査装置において、
検出光学系を構成するに、光検出器の前方に、反射散乱
光に対する入射光制限用の第１スリットを有する固定ス
リット板を配置するのみならず、その固定スリット板の
直前または直後に、前記レーザービームの走査位置の変
化に応じて回転変位して、前記固定スリット板の第１ス
リットを更に適宜に制限可能な第２スリットを備えた回
転スリット板を設ける、という手段を採用した点に特徴
がある。
ような基本的構成を有する異物有無検査装置において、
検出光学系を構成するに、光検出器の前方に、反射散乱
光に対する入射光制限用の第１スリットを有する固定ス
リット板を配置するのみならず、その固定スリット板の
直前または直後に、前記レーザービームの走査位置の変
化に応じて回転変位して、前記固定スリット板の第１ス
リットを更に適宜に制限可能な第２スリットを備えた回
転スリット板を設ける、という手段を採用した点に特徴
がある。
かかる特徴構成により発揮される作用は次の通りである
。
。
即ち、上記本発明に係る異物有無検査装置においては、
検出光学系を、反射散乱光に対する入射光制限用の第１
スリットを有する固定スリット板のみならず、その固定
スリット板の直前または直後に、レーザービームの走査
位置の変化に応じて回転変位して、前記固定スリット板
の第１スリットを更に適宜に制限可能な第２スリットを
備えた回転スリット板を設けであるから、後述する実施
例の記載から一層明らかになるように、前記第１および
第２スリットの共通間隙によって規定されるより小さな
投影像（散乱光検出可能領域）が、常にレーザービーム
の照射位置に過不足なく対応するように変位することに
なるため、従来のよう、にレーザービーム照射位置以外
の不要な箇所からの迷光が光検出器へ到達することがな
く、従って、異物検出性能を大幅に高感度化でき、また
、ペリクル枠の極く近い領域まで迷光の影響を受けるこ
となく確実に検査できるようになった。
検出光学系を、反射散乱光に対する入射光制限用の第１
スリットを有する固定スリット板のみならず、その固定
スリット板の直前または直後に、レーザービームの走査
位置の変化に応じて回転変位して、前記固定スリット板
の第１スリットを更に適宜に制限可能な第２スリットを
備えた回転スリット板を設けであるから、後述する実施
例の記載から一層明らかになるように、前記第１および
第２スリットの共通間隙によって規定されるより小さな
投影像（散乱光検出可能領域）が、常にレーザービーム
の照射位置に過不足なく対応するように変位することに
なるため、従来のよう、にレーザービーム照射位置以外
の不要な箇所からの迷光が光検出器へ到達することがな
く、従って、異物検出性能を大幅に高感度化でき、また
、ペリクル枠の極く近い領域まで迷光の影響を受けるこ
となく確実に検査できるようになった。
以下、本発明の具体的実施例を図面（第１図ないし第２
図）に基いて説明する。
図）に基いて説明する。
第１図（イ）は、本発明実施例に係る異物有無検査装置
の要部（検出光学系Ｂ）の原理的構成を示しており、こ
の検出光学系Ｂ以外の構成は先に説明した第４図のもの
と同様である。
の要部（検出光学系Ｂ）の原理的構成を示しており、こ
の検出光学系Ｂ以外の構成は先に説明した第４図のもの
と同様である。
さて、この第１図（イ）に示しているように、検出光学
系Ｂは、集光レンズ６、反射散乱光に対する入射光制限
用の第１スリット７を有する固定スリット板８１例えば
光電子倍増管から成る光検出器９等を筒状ケーシング１
０内にその順に並設して組み合わせた基本構成に加えて
、前記固定スリット板８の直後（直前でも可）に、下記
のような構成を有する回転スリット板１２を設けである
。
系Ｂは、集光レンズ６、反射散乱光に対する入射光制限
用の第１スリット７を有する固定スリット板８１例えば
光電子倍増管から成る光検出器９等を筒状ケーシング１
０内にその順に並設して組み合わせた基本構成に加えて
、前記固定スリット板８の直後（直前でも可）に、下記
のような構成を有する回転スリット板１２を設けである
。
即ち、前記回転スリット板１２は、第１図（ロ）にその
−例を示しているように、その回転変位に伴ワて、前記
固定スリット板８の第１スリット７を更に適宜に制限可
能な形状の第２スリット１１を備えており、検査対象基
板の表面上に照射されるレーザービームの走査位置の変
化に応じて（つまり走査周期と同期するように）回転変
位させるべく構、成されている（図では、回転駆動機構
は省略している）。
−例を示しているように、その回転変位に伴ワて、前記
固定スリット板８の第１スリット７を更に適宜に制限可
能な形状の第２スリット１１を備えており、検査対象基
板の表面上に照射されるレーザービームの走査位置の変
化に応じて（つまり走査周期と同期するように）回転変
位させるべく構、成されている（図では、回転駆動機構
は省略している）。
上記構成によれば、固定スリット板８のスリット７と回
転スリット板１２の第２スリット１１とのふたつのスリ
ットの共通間隙によって規定されるより小さな投影像（
散乱光検出可能領域）が、常にレーザービームの照射位
置に過不足なく対応するように変位することになるため
、従来のように、レーザービーム照射位置以外の不要な
箇所からの迷光が光検出器９へ到達することがない、従
って、異物検出性能を大幅に高感度化でき、また、ペリ
クル枠ｌの掻く近い領域まで迷光の影響を受けることな
（確実に検査することができるのである。
転スリット板１２の第２スリット１１とのふたつのスリ
ットの共通間隙によって規定されるより小さな投影像（
散乱光検出可能領域）が、常にレーザービームの照射位
置に過不足なく対応するように変位することになるため
、従来のように、レーザービーム照射位置以外の不要な
箇所からの迷光が光検出器９へ到達することがない、従
って、異物検出性能を大幅に高感度化でき、また、ペリ
クル枠ｌの掻く近い領域まで迷光の影響を受けることな
（確実に検査することができるのである。
第２図は更に発展的な実施例の要部構成を示している。
即ち、１５は、前記固定スリット板８の前面側または後
面側に設けられるスリット長さ可変機構であって、一対
のレール部材１３．１３とその間に摺動自在に設けられ
た一対のドア板部材１４゜１４とから構成されている。
面側に設けられるスリット長さ可変機構であって、一対
のレール部材１３．１３とその間に摺動自在に設けられ
た一対のドア板部材１４゜１４とから構成されている。
このスリット長さ可変機ｖ１１５によれば、例えばペリ
クル枠の大きさによって定まるところの検査対象基板上
の必要検査領域の大きさに応じて、前記ドア板部材１４
．１４の位置調節を行うことによって、前記固定スリッ
ト板８の第１スリンドアの有効長さを適宜に設定できる
ため、検出光学系のより一層の高感度化および汎用性の
向上を図ることができる。
クル枠の大きさによって定まるところの検査対象基板上
の必要検査領域の大きさに応じて、前記ドア板部材１４
．１４の位置調節を行うことによって、前記固定スリッ
ト板８の第１スリンドアの有効長さを適宜に設定できる
ため、検出光学系のより一層の高感度化および汎用性の
向上を図ることができる。
以上詳述したところから明らかなように、本発明に係る
異物有無検査装置によれば、検出光学系における入射光
制限用の第１スリットを有する固定スリット板の直前ま
たは直後に、レーザービームの走査位置の変化に応じて
回転変位して、前記固定スリット板の第１スリットを更
に適宜に制限可能な第２スリットを備えた回転スリット
板を設けるという掻く簡素な改良手段を施すのみであり
ながら、前記両スリットの共通間隙によって規定される
より小さな投影像（散乱光検出可能領域）を、常にレー
ザービームの照射位置に過不足なく対応するように変位
させることができ、これによって、従来のようにレーザ
ービーム照射位置以外の不要な箇所からの迷光が光検出
器へ到達することを確実に防止できるようになり、以っ
て、従来のものに比べて格段に優れた異物検出性能を有
すると共に、ペリクル枠に極く近接したより広い領域ま
で迷光の影響を受けることなく確実に検査できる、とい
う顕著な効果が奏されるのである。
異物有無検査装置によれば、検出光学系における入射光
制限用の第１スリットを有する固定スリット板の直前ま
たは直後に、レーザービームの走査位置の変化に応じて
回転変位して、前記固定スリット板の第１スリットを更
に適宜に制限可能な第２スリットを備えた回転スリット
板を設けるという掻く簡素な改良手段を施すのみであり
ながら、前記両スリットの共通間隙によって規定される
より小さな投影像（散乱光検出可能領域）を、常にレー
ザービームの照射位置に過不足なく対応するように変位
させることができ、これによって、従来のようにレーザ
ービーム照射位置以外の不要な箇所からの迷光が光検出
器へ到達することを確実に防止できるようになり、以っ
て、従来のものに比べて格段に優れた異物検出性能を有
すると共に、ペリクル枠に極く近接したより広い領域ま
で迷光の影響を受けることなく確実に検査できる、とい
う顕著な効果が奏されるのである。
第１図および第２図は、本発明に係る異物有無検査装置
の具体的実施例を示し、第１図（イ）は検出光学系の概
略構成図、第１図（ロ）はその要部の構成および作用の
説明図であり、第２図は別の実施例に係る要部の概略構
成および作用の説明図である。 第３図ないし第５図は、本発明の技奇的背景ならびに従
来問題を説明するためのものであって、第３図は従来一
般の異物有無検査装置の全体構成図、第４図その要部の
概略構成図、第５図はその作用の説明図である。 ０・・・検査対象基板、Ｂ・・・検出光学系、Ｌ・・・
レーザービーム、Ｒ・・・反射散乱光、７・・・第１ス
リツ斗、８・・・固定スリット板、９・・・光検出器、
１１・・・第２スリット、１２・・・回転スリット板。 出願人 株式会社 堀 場 製 作 所代理人 弁理士
藤 本 英 失 望１図 （口〕
の具体的実施例を示し、第１図（イ）は検出光学系の概
略構成図、第１図（ロ）はその要部の構成および作用の
説明図であり、第２図は別の実施例に係る要部の概略構
成および作用の説明図である。 第３図ないし第５図は、本発明の技奇的背景ならびに従
来問題を説明するためのものであって、第３図は従来一
般の異物有無検査装置の全体構成図、第４図その要部の
概略構成図、第５図はその作用の説明図である。 ０・・・検査対象基板、Ｂ・・・検出光学系、Ｌ・・・
レーザービーム、Ｒ・・・反射散乱光、７・・・第１ス
リツ斗、８・・・固定スリット板、９・・・光検出器、
１１・・・第２スリット、１２・・・回転スリット板。 出願人 株式会社 堀 場 製 作 所代理人 弁理士
藤 本 英 失 望１図 （口〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 表面に回路パターンが描かれている検査対象基板の該
表面に対してレーザービームを走査照射するように構成
すると共に、その検査対象基板の表面からの反射散乱光
に対する検出光学系を設け、その検出光学系による反射
散乱光の検出結果に基いて前記検査対象基板の表面にお
ける異物の有無を判別するように構成されている異物有
無検査装置において、 前記検出光学系を構成するに、光検出器の前方に、前記
反射散乱光に対する入射光制限用の第１スリットを有す
る固定スリット板を配置すると共に、その固定スリット
板の直前または直後に、前記レーザービームの走査位置
の変化に応じて回転変位して、前記固定スリット板の第
１スリットを更に適宜に制限可能な第２スリットを備え
た回転スリット板を設けてあることを特徴とする異物有
無検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62287650A JPH0621879B2 (ja) | 1987-11-14 | 1987-11-14 | 異物有無検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62287650A JPH0621879B2 (ja) | 1987-11-14 | 1987-11-14 | 異物有無検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01129144A true JPH01129144A (ja) | 1989-05-22 |
| JPH0621879B2 JPH0621879B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=17719953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62287650A Expired - Lifetime JPH0621879B2 (ja) | 1987-11-14 | 1987-11-14 | 異物有無検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621879B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007292770A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Siemens Ag | 平滑面における点状、線状又は面状の欠陥の検出のための光センサ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59152626A (ja) * | 1983-02-21 | 1984-08-31 | Hitachi Ltd | 異物検出装置 |
| JPS6211144A (ja) * | 1985-07-01 | 1987-01-20 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査装置 |
-
1987
- 1987-11-14 JP JP62287650A patent/JPH0621879B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59152626A (ja) * | 1983-02-21 | 1984-08-31 | Hitachi Ltd | 異物検出装置 |
| JPS6211144A (ja) * | 1985-07-01 | 1987-01-20 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007292770A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Siemens Ag | 平滑面における点状、線状又は面状の欠陥の検出のための光センサ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0621879B2 (ja) | 1994-03-23 |
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