JPH01120505A - ビーム変換装置 - Google Patents

ビーム変換装置

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JPH01120505A
JPH01120505A JP62279964A JP27996487A JPH01120505A JP H01120505 A JPH01120505 A JP H01120505A JP 62279964 A JP62279964 A JP 62279964A JP 27996487 A JP27996487 A JP 27996487A JP H01120505 A JPH01120505 A JP H01120505A
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JP
Japan
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prism
incident
laser light
angle
light
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Pending
Application number
JP62279964A
Other languages
English (en)
Inventor
Kaoru Yasukawa
薫 安川
Osamu Ueno
修 上野
Hironori Goto
後藤 広則
Hiroyuki Hotta
宏之 堀田
Nobuo Nishimura
伸郎 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ディスク等の光学的情報記録再生装置に使
用されるビーム変換装置に関する。
〔従来の技術〕
光ディスク等の光学的情報記録再生装置においては、そ
の情報記録媒体に光学的情報としてビット状の凹凸或い
は濃淡を設け、これらのビットにレーザ光を照射し、そ
の反射光の強度変化から光学的情報の読み取りを行なっ
ている。
−船釣な光学的情報記録再生装置の構造を第4図に示す
図において、半導体レーザ1を出た発散光は、コリメー
トレンズ2で平行光に変換され、このコリメートレンズ
2を出た光は、偏光ビームスプリッタ3及び174波長
板4を通過した後に対物レンズ5により光デイスク6上
に微小なスポットとして収束される。この光デイスク6
上で反射した光は、174波長板4及び偏光ビームスプ
リッタ3により分離され、光検出器7上に収束され、情
報信号として使用される。
上述の光学的情報記録再生装置における読み取りの光源
には、一般にダブル・ヘテロ接合レーザ等の半導体レー
ザが使用されているが、第5図に示すように、この半導
体レーザ1は、通常そのファーフィールドパターン、す
なわち、ビーム断面の光強度分布8が楕円形であるため
、コリメートレンズ2で平行光に変換された後も、その
ビーム断面の光強度分布8は楕円形を維持し、そのため
、対物レンズ5の収束スポットの光強度分布8も真円形
にならず、正確に情報を記録再生できないという欠点が
あった。
従来、この問題を解決するために、第6図に示されるよ
うに1個の三角プリズム9の一面を入射面とし他面を出
射面として使用したビーム変換装置が提案されている。
このビーム変換装置によれば、レーザ光に対して紙面に
平行な面内のみの倍率を与えることができるので、ビー
ム断面の光強度分布8を楕円形から真円に変換すること
ができる。このプリズムを1個使う光学系では、光強度
分布の変換は可能であるが、光軸が折れ曲がり、入射軸
と出射軸が一致しない。しかし、ビーム変換装置を光学
的情報記録再生装置の光ヘッド等に使用する場合には、
光軸の方向が一致していないと、光学系の設計が困難と
なったり部品の配置の制限が多くなり不都合である。
そこで、第7図に示されるように、2個の三角プリズム
9a、 9bを逆向きに配置し、各三角プリズム9a、
 9bにより光路を互いに反対側に折り曲げるようにし
たビーム変換装置も提案されている。このビーム変換装
置によれば、光路が二回折り曲げられるため入射軸と出
射軸は平行になる。但し、入射軸と出射軸は一致しない
更に、第8図に示されるように、2個のシリンドリカル
レンズ10a、 10bを直交して配置し、各シリンド
リカルレンズlQa、 10bの倍率を変えることによ
りビーム断面の光強度分布8を任意に制御できるように
したビーム変換装置も提案されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
第7図のプリズムを2個使う光学系では光軸は平行とな
るが、依然、入射軸と出射軸は一致しない。また、第7
図に示す例では、プリズムが2個必要となるため、装置
が大型化し重量も重くなる。
このため、光学的情報記録再生装置の光ヘッド等に適用
することが困難であった。
このような、光ヘッド等に使用する場合、光軸が折れ曲
がったり、ずれたりしない第8図の光学系が最も適して
いるが、このようにシリンドリカルレンズ10a、 1
0bを2枚用いた光学系では、光学的情報記録再生用の
スポットを小さく収束させるために、波面収差を小さく
しなければならず、この収差を押さえるための調整が非
常に厳しくなるという不都合が生じる。これは、シリン
ドリカルレンズを使用した場合、光軸とレンズの中心ず
れやレンズの傾きによる影響が、球面レンズに比べて大
きいためである。
また、調整が容易な第6図、第7図に示されるビーム変
換装置では、上述のように光軸が折れ曲がったり、ずれ
たりして光ヘッド等には適さない。
本発明は、上述の問題点を解決するために案出されたも
のであって、プリズムでの屈折と反射を利用することに
より、調整が容易で、しかも光軸の折れ曲がりやずれを
生じないビーム変換装置を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明のビーム変換装置は、その目的を達成するために
、レーザ光が入射して屈折する入射面と、屈折後のレー
ザ光を反射する反射面と、反射後のレーザ光を屈折して
出射する出射面とを有し、前記レーザ光の断面の光強度
分布を変換するプリズムを備えたことを特徴とする。
〔作用〕
本発明においては、プリズムに入射したビーム光は、プ
リズムの入射面で屈折した後、プリズム内の反射面で反
射され、最後に出射面から屈折して出射する。このとき
、プリズムの屈折率、レーデ光の入射点、入射角1反射
点、出射点、出射角。
入射面と出射面とのなす角、入射面と反射面とのなす角
を一定の条件を満たすように設定することにより、入射
光と反射光の光軸が一致したものとなる。また、反射面
としては、プリズム内の全反射を使用すれば、光量の損
失を防止することもできる。
〔実施例〕
以下、図面を参照しながら実施例に基づいて本発明の特
徴を具体的に説明する。
第1図は、本発明実施例のビーム変換装置の構成図であ
る。
図において、11は屈折率nの三角プリズムを示してお
り、このプリズム11は、レーザ光aが入射して屈折す
るプリズム面11a、屈折後のレーザ光すを反射するプ
リズム面11b及び反射後のレーザ光Cを屈折してレー
ザ光dとして出射するプリズム面11Cを備えている。
プリズム11において、プリズム面11aとllcのな
す角をα、プリズム面11aとllbのなす角をβとす
れば、入射光となるレーザ光aはプリズム面11a上の
点Aに入射角θ目で入射し、屈折角θl、で屈折したレ
ーザ光すはプリズム面1111上の点已に入射角θ2で
入射し、反射角θ2で反射したレーザ光Cはプリズム面
11c上の点Cに入射角θ5.で入射して屈折し、レー
ザ光dは出射角θ31の出射光となる。
次に、入射光と出射光とが平行になる条件を第1図を参
照して説明する。
図において、スネルの法則より(nは屈折率)sin 
 θ++=nS!nθ+r””(1)sin  θ3□
=nsln03r・・・(2)故に、 θ+r =sin−’  (sin   θ、、/n)
   ・・−(3)θ3r =sin−’ (sin 
 θ3./n)・・・(4)また、 θ2=β+θ1r        ・・・〔5)π−(
α+β)=02−03r  ・・・(6)であるから式
(5)と(6)よりθ2を消去してα+2β+(θ1r
−θ3.)=π・・・(7)ところで θ31=α−θ、1       ・・・(8)である
から、式(7)へ式(3)、 (41,(8)を代入す
るととなる。
すなわち、第1図のプリズム11において、パラメータ
α、β、nと入射光の入射角θ、Iを与えたとき、この
式(9)を満たすことが、入射光と出射光が平行になる
条件である。
次に、入射光と出射光の光軸が一致するための条件を求
める。
点A、Cの座標をそれぞれ、A (0,0>、 C(L
、0)とし、点Bの座標(xo、ya)を求める。
レーザ光すとCの方程式は、それぞれ y=tan(θ1.−θIr)X       ・・・
α1y =−tan(θ31−θ3r)(X−L)・・
・ODであり、これより点B(Xo、yo)は・・・α
の 但し、 θ3I:α−θ目 となり、この点B (xo、yo)  がプリズム面1
1b上に存在することが、入射光と出射光の光軸が一致
して、ずれないための条件である。
また、第2図に示されるように、プリズム面11aに入
射した幅がWI のビーム光Pは、プリズム11により
幅方向に拡大され、プリズム面11Cから出射するビー
ム光Pの幅はW2 となる。
このときのビーム変換の倍率は、次のようになる。
COSθ、、’cosθ31 CO2O3,・CO5θ目 ・ ・ ・Oつ 次に、第1図における実施例を示す。
図において、プリズム11の屈折率n=1.5.プリズ
ム面11aとllcのなす角α=105°、同11a 
六llbのなす角β=27.2°、レーザ光aがプリズ
ム面11a上の点Aにθ、1=75°で入射したとすれ
ば、θ、r=40.1”で屈折した後、プリズム面11
b上の点Bにθ、 =67.3’で入射し、ここで反射
した後、プリズム面11c上の点Cに、θ、、=19.
5°で入射し、θ3+=30°でレーザ光dは、入射光
と平行な出射光となり出射していく。
ここで、 5irr’(1/n)   −5in−’(1/1.5
)=41.8° <67.3゜であるので、プリズム面
11a上の点Bでは全反射をする。
また、点へと点Cとの距離りを86.2(相対値)とす
ると、式(2)より、点Bと直線ACまでの距離は12
.6となる。
この実施例では一方向のみビームを拡大するが、その倍
率は式[F]より2.72倍であり、また光の逆行の原
理より、光路を逆にとればその倍率は0.393倍であ
る。
すなわち、上記のように、本実施例にふいては一方向の
みビームを拡大、縮小してビーム形状を円形に変換でき
るので、光ヘッドのみならず、レーザビームプリンタ、
スキャナ等のビーム変換装置にも用いることができる。
また、反射面を二つ以上持たせることによって、ビーム
変換装置の性能を大幅に向上させることもできる。
第3図は反射を二回利用した六角プリズムの一例であり
、コリメートレンズ2(第4図参照)で平行光に変換さ
れたレーザ光eは、プリズム12上の点りで入射した後
、点E、Fで反射し、点Gでレーザ光fは入射光と光軸
が一致する出射光となり出射していく。
このように、反射面を二つ以上とした場合、設計の自由
度が高くなるため、拡大、縮小の倍率を大きくとること
ができる。
〔発明の効果〕
以上に説明したように、本発明においては、1個のプリ
ズムによりビーム光の屈折及び反射を行わせている。そ
して、このプリズムにおける光学条件を所定のものとす
ることにより、入射光と平行でかつ、軸ずれのない出射
光を簡単な構成で得ることができる。したがって、本発
明のビーム変換装置を使用して光学的情報記録再生用の
スポットを小さく収束させるための波面収差を小さ(す
る調整を行うとき、対物レンズに入射する光束の軸の調
整を正確且つ容易に行うことができる。しかも、プリズ
ムは1個のみであるので、小型軽量化、低コスト化も実
現できる。
また、プリズムにおける反射として全反射を利用すれば
、別途反射膜等を形成することなく能率よく光を反射さ
せることができる。
【図面の簡単な説明】
軍1図は本発明実施例のビーム変換装置を示す図であり
、第2図はビーム変換の状態を示す説明図、第3図は本
発明の他の実施例である反射を二回利用したビーム変換
装置を示す図、第4図は一般的な光学的情報記録再生装
置の構成図、第5図は半導体レーザのファーフィールド
パターンを示す図、第6図から第8図までは従来のビー
ム変換装置の構成図である。 ■=半導体レーザ     2;コリメートレンズ3:
偏光ビームスプリッタ 4:l/4波長板5:対物レン
ズ      6二光ディスク7:光検出器     
  8:光強度分布9、9a、 9b、 11.12 
ニブリズムlQa、 101] ’シリンドリカルレン
ズa−f:レーザ光 特許出願人    富士ゼロックス株式会社代  理 
 人      小  堀   益 (ほか2名)第1
図 第3図 N4図 第 5 図 第 6 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、レーザ光が入射して屈折する入射面と、屈折後のレ
    ーザ光を反射する反射面と、反射後のレーザ光を屈折し
    て出射する出射面とを有し、前記レーザ光の断面の光強
    度分布を変換するプリズムを備えたことを特徴とするビ
    ーム変換装置。 2、前記プリズムが三角プリズムであり、次式を満足す
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のビー
    ム変換装置。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、 θ_1_i:入射角 θ_3_i:出射角 n:プリズムの屈折率 ▲数式、化学式、表等があります▼ α:入射面と出射面とのなす角 β:入射面と反射面とのなす角 x_0:反射点のx成分 y_0:反射点のy成分 3、前記プリズムにおける反射として、全反射を利用し
    たことを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項に
    記載のビーム変換装置。
JP62279964A 1987-11-04 1987-11-04 ビーム変換装置 Pending JPH01120505A (ja)

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JP62279964A JPH01120505A (ja) 1987-11-04 1987-11-04 ビーム変換装置

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JP62279964A JPH01120505A (ja) 1987-11-04 1987-11-04 ビーム変換装置

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JPH01120505A true JPH01120505A (ja) 1989-05-12

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ID=17618386

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JP62279964A Pending JPH01120505A (ja) 1987-11-04 1987-11-04 ビーム変換装置

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JP (1) JPH01120505A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5324012A (en) * 1991-07-16 1994-06-28 Nikon Corporation Holding apparatus for holding an article such as a semiconductor wafer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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