JPH01115941A - 合成高分子用安定剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、特定のピペリジン化合物、硫黄系酸化防止剤
及び高級脂肪酸のアルカリ土類金属塩を含有する合成高
分子用安定剤に関するものである。

〈従来の技術〉 下記式（Ｉａ）乃至（Ｉｆ）を有する２、２，６゜６−
チトラメチルピペリジン化合物がポリオレフィン等の合
成高分子化合物の優れた光安定剤であることは、よく知
られている。

〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、これらピペリジン化合物は下記式（ＩＩ
ａ）乃至（ＩＩａ）を有する硫黄系酸化防止剤との組み
合わせでは、合成高分子の耐熱安定性を向上させること
はできるが、光安定性は添加したピペリジン化合物から
予想するほど向上せず、むしろ低下する。合成高分子の
適用範囲を拡大する意味においても、硫黄系酸化防止剤
の優れた耐熱作用を活かし、ピペリジン化合物の優れた
光安定効果を保持させる問題につき、長年に亘って鋭意
研究した結果、ピペリジン化合物と硫黄系酸化防止剤の
組み合わせに対し、さらに下記式（ＩＩＩ）を有する高
級脂肪酸のアルカリ土類金属塩を添加することにより、
合成高分子の光安定性を保持し、長期間熱安定化の目的
を達成できることを見出し、本願発明を完成した。

〈発明の構成〉 本発明の高分子安定剤は、下記一般式（Ｉａ）乃至（Ｉ
ｆ）を有するピペリジン化合物の少なくとも一種と、下
記一般式（ＩＩａ）乃至（ＩＩｃ）を有する硫黄系酸化
防止剤の少なくとも一種及び下記一般式（ＩＩＩ）を有
する高級脂肪酸のアルカリ土類金属塩の少なくとも一種
を含有することを特徴とする。

７、・′ ／ ／″ ７／ ・ご七を駐〈、・１ 、、、；−〈、−：ｉ／ ［上記式中、Ｒ１は水素原子、メチル基、ベンジル基、
アセチル基又は ＼ ±−Ｃ４Ｈ（：１ を有する基を示す。

ｎは１乃至４の整数を示す。

ｎが１のとき、Ｒ′２は脂肪族、脂環族叉は芳香族モノ
アシル基を示し、特に式−ＣＯＲ５を有する基［Ｒ５は
炭素数１乃至１７個のアルキル基、炭素数２乃至４個の
アルケニル基、フェニル基、を有する基又は （Ｒ１は前述したものと同意義を示し、Ｒ６は炭素数１
乃至８個のアルキル基を示す）を示す。］を示す。また
該モノアシル基には、脂肪族、脂環放反は芳香族ジアシ
ル基のうち１個のアシル基が式−ＯＲ３（Ｒ３は後述す
るものと同意義を示す。）を有する基でふさがれたもの
を含む。

ｎが２のとき、Ｒ２は脂肪族、脂環放反は芳香族ジアシ
ル基を示し、特に 式−Ｃｏ−Ｒ７−ＣＯ−を有する基（Ｒ７は炭素数１乃
至２０個のアルキレン基、炭素数５乃至７個のシクロア
ルキレン基、フェニレン基、基を示す。）を示す。また
該ジアシル基には脂肪放反は芳香族トリアジル基のうち
１個のアシル基が式−ＯＲ３を有する基（Ｒ３は後述す
るものと同意義を示す。）でふさがれたもの、叉は脂肪
放反は芳香族テトラアシル基のうち２個のアシル基が式
−０Ｒ３を有する基（Ｒ３は後述するものと同意義を示
す。）でふさがれたものを含む。

ｎが３のとき、Ｒ＝は脂肪放反は芳香族トリアジル基を
示す。該トリアジル基には脂肪放反は芳香族テトラアシ
ル基のうち１個のアシル基が式−ＯＲ３を有する基（Ｒ
３は後述するものと同意義を示す。）でふさがれたもの
を含む。

ｎが４のとき、Ｒ′Ｌは脂肪放反は芳香族テトラアシル
基を示す。

Ｒ３は、炭素数１乃至１８個のアルキル基を示す。

Ｒ４は、 を有する基（Ｒ１及びＲ３は前述したものと同意義を示
す。）を示す。

Ｙは、モルホリノ基又は式−ＮＨＲ８を有する基（Ｒ８
は炭素数１乃至１８個のアルキル基を示す。）を示す。

ｍは２乃至２０の整数を示す。

Ｐは、１乃至８の整数を示し、ｒは２乃至５０の整数を
示す。］ Ｒ’−０−ＣＯ−ＣＨ：　−Ｃｈ　５−ＣＨｚ−ＣＨ２
−Ｃｏ−０−Ｒ９（ＩＩａ）（Ｒ’−３−ＣＨｚ−ＣＨ
２−Ｃｏ−０−）　ｔ　−Ｚ　　　　　　　　（ＩＩｂ
）［上記式中、Ｒ９は、炭素数４乃至１８個のアルキル
基を示す。

ｔは２乃至４の整数を示す。

ｔが２のとき、Ｚはエチレン基を示す。

ｔが３のとき、Ｚは式−ＣＨ２ＣＨ−Ｃｌｂ−又は弐　
　　　ＣＨ２ＣＨ３ 暑 −ＣＨ２−Ｃ−ＣＨ，２− ＣＨ，−を示す。

ｔが４のとき、Ｚは 弐　　　　ＣＨ２− −ＣＨ２−ＣＣｈ− ＣＨ，−を示す。］ （Ｒ１０ＣＯＯ）２Ｍ　　　　　（ＩＩＩ）［上記式中
、Ｒ”は炭素数１１個乃至１７個のアルキル基を示し、
Ｍはアルカリ土類金属を示す。］Ｒ５が示す炭素数１乃
至１７個のアルキル基は、直鎖叉は分枝鎖でもよく、例
えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、ｎ　−ヘキシル、ｎ−オクチル、２−エチル
ヘキシル、ｎ−デシル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル、ｎ
−オクタデシルであり得、好適には炭素数４乃至８個の
アルキル基である。

Ｒ５が示す炭素数１乃至１７個のアルケニル基は、例え
ばビニル、アリル、２−メチルアリル、１−プロペニル
、１−ブテニルであり得、好適にはビニル、アリルであ
る。又、式−ＣＯＲ５を有する基は、好適にはオクタデ
カノイル基、ベンゾイル基、 ある。

Ｒ６が示す炭素数１乃至８個のアルキル基は、前記Ｒ５
で示したアルキル基と同様の炭素数１乃至８個のアルキ
ル基であり得、好適には炭素数３乃至６個のアルキル基
である。

Ｒ７が示す炭素数１乃至２０個のアルキレン基は、直鎖
叉は分枝鎖でもよく、例えばメチレン、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメ
チレン、ヘプタメチレン。

オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレン、ドデカ
メチレン、テトラデカメチレン、ヘキサデカメチレン、
オクタデカメチレン、エイコサメチレンであり得、好適
には炭素数４乃至１０個のアルキレン基である。

Ｒ７が示す炭素数５乃至７個のシクロアル停しン基は、
例えば１，３−シクロペンチレン、１゜２−シクロヘキ
シレン、１，３−シクロへブチレン、■、４−シクロヘ
キシレン、１，３−シクロヘキシレンであり得、好適に
はシクロヘキシレンである。

式−〇〇−Ｒ７−Ｃｏ−を有する基は、好適には式　−
Ｃｏ−（Ｃ）ｂ）４−Ｃｏ−。

−ＣＯ−（Ｃｈ）　５−Ｃｏ−。

−Ｃｏ−（ＣＨ，）　６−Ｃｏ−。

−Ｃｏ−（ＣＨ：）　？−Ｃｏ−。

−Ｃｏ−（ＣＨ２）　８−ｃｏ−。

−ＣＯ−（ＣＨす９−ＣＯ−。

を有する基である。

Ｒ２が示す脂肪族若しくは芳香族トリアジル基は、例え
ばプロパン−１，２，３−トリカルボニル、ブタン−１
，２，３−トリカルボニル、ブテン−１，２，３−トリ
カルボニル、トリアミン−トリカルボニルであり得、好
適にはプロパン−１゜２．３−トリカルボニル、ブタン
−１，２，３−トリ力ルポニＪし、ブテン−１，２，３
−トリカルボニルである。

Ｒ２が示す脂肪族若しくは芳香族テトラアシル基は、例
えばブタン−１，２，３，４−テトラカルボニル、エチ
レンジアミン−テトラカルボニル、ベンゼン−１，２，
４，５−テトラカルボニルであり得、好適にはブタン−
１，２，３，４−テトラカルボニルである。

Ｒ３が示す炭素数１乃至１８個のアルキル基は、前記Ｒ
５の炭素数１乃至１７個のアルキル基と同様の基及びオ
クタデシル基であり得、好適には炭素数８乃至１４個の
アルキル基である。

Ｒ８が示す炭素数１乃至１８個のアルキル基は、前記Ｒ
２のアルキル基と同様の基であり得、好適には炭素数４
乃至８個のアルキル基であり、特に好適にはｔ−オクチ
ルである。

整数ｐは好適には２乃至４個である。

Ｒ９が示す炭素数４乃至１８個のアルキル基は、前記Ｒ
３で示したアルキル基のうち、炭素数４乃至１８個のア
ルキル基と同様の基であり得、好適には炭素数１０乃至
１８個のアルキル基である。

Ｒ１０が示す炭素数９乃至１７個のアルキル基は、前記
Ｒ５で示したアルキル基のうち、炭素数９乃至１７個の
アルキル基と同様の基であり得、好適には炭素数１１乃
至１７個のアルキル基である。

Ｍが示すアルカリ土類金属は、好適にはカルシウム、マ
グネシウム、バリウムである。

式（Ｉａ）乃至（Ｉｆ）を有するピペリジン化合物とし
ては、例えば次の化合物を具体的にあげることができる
。

／ ／ ／ ／ 明細書の浄書 １　　　　１　　　　　　Ｈ−ＣＯＣＩｉ３３　　　１
−ＣＨ３−ＣＯＣ，Ｈ。

４１　　　　　　Ｅ　　　　　　　　−ＣＯＣ，Ｅ、５
５　　　１　　　　　Ｈ−ｃｏｃ、ａ”３ｙ６　　　　
１−ＣＨ５−ＣＯＣ１８Ｂ。

７　　１　　　　Ｅ　　　　　−Ｃｏ＠／′　　　　　
　　　　　　　　　明細書の浄書化合物番号　　ｏ　　
　　Ｒ＋　　　　　　　　　Ｒ２ｂ １０　　　　２　　　　Ｈ−ＣＯ（ＣＨ２）２ＣＯ−１
１２Ｈ−ＣＯ（ＣＨ３２）４ＣＯ− １２２Ｈ−ＣＯ（Ｃ１（２）８ＣＯ− １３２−Ｃａｌｌ、　　　−ＣＯ（ｃｕ２）８ｃｏ−Ｃ
Ｏ− 明細書の浄書 化合物番号　　ｎ　　　　Ｂ＋　　　　　　　　Ｒ２化
合物　　　　　Ｒ’　　　　　　　Ｒ”番号 ２７　　　　　　　Ｈ−Ｃ８ＨＩ７ ２８　　　　　−ＣＨ３−Ｃ，Ｈ，７ ３０Ｈ−ｃｘ：）ｌ：ｒ； ３］　　　　　　　−ｃ）ｂ　　　　　　　−Ｃ１２Ｈ
２ｓ３２−ＣＯＣＨ３−Ｃ，□Ｈ二５ 化合物　　　　ＲＩ　　　　　　　Ｒ３番号 ３３　　　　　　　Ｈ−Ｃ４Ｈ９ ３８−ＣＨ３−Ｃ４Ｈ９ ３５Ｈ−Ｃ４Ｈ９ ３８−ＣＨ３−Ｃ８Ｈｔ７ 化合物番号　　ＲＩ　　　　　　　Ｒ＝。

３７　　　　　　　　　Ｈ−Ｃ４Ｈ９ ３８−ＣＨ３−Ｃ４Ｈ９ ３９Ｈ−ＣｓＨ１＝。

４０　　　　　　　　　Ｈ−Ｃｘ：Ｈ：ｓ明細書の浄書 Ｙ （Ｉｆ） 化合物番号　　　　ｐ　　　　　　　　ｒ４５　　　　
　　　　２　　　　　　３５〜４０４６　　　　　　　
　２　　　　　　４０〜４５４７　　　　　　　　４　
　　　　　３５〜４０４８　　　　　　　４　　　　　
４０〜４５式（Ｔａ）乃至（Ｉｆ）を有する化合物のう
ち、好適しこは式（Ｉａ）を有する化合物であり、特に
好適には２，２，６，６−テトラメチル−４−ベンゾイ
ルオキシピペリジン、ビス（２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）セバケート、１−　［２−
（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニルオキシ）エチル］−４−（３，５−ジー第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ）
　−２，２，６゜６−テ１−ラメチルピペリジンである
。

式（ＩＩａ）乃至（ＩＩｃ）を有する硫黄系酸化防止剤
として、例えば次の化合物を具体的にあげることができ
る。

４７　　ジ−ラウリル　チオ−ジ−プロピオネート４８
　　ジ−ミリスチル　チオ−ジ−プロピオネート４９　
　ジ−ステアリル　チオ−ジ−プロピオネート５０　　
グリセロール　トリス（３−ドデシルチオプロピオネー
ト） ５１トリメチロールプロパン　トリス（３−オクタデシ
ルチオプロピオネート） ５２　　ペンタエリスリトール　テトラキス（３−オク
タデシルチオプロピオネート） ５３３．９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４
，８，１０−テトラオキサ−スピロ［５，５］ウンデカ
ン 硫黄系酸化防止剤のうち、好適には式（ＩＩａ）を有す
る化合物であり、特に好適にはＲ５が炭素数１０乃至１
８個の化合物である。

式（ＩＩＩ）を有する高級脂肪酸のアルカリ土類金属塩
の好適な化合物として、次の化合物を具体的にあげるこ
とができる。

５４　　カルシウム　　ステアレート ５５　　カルシウム　　ラウレー１− ５６　　マグネシウム　ステアレート ５７　　マグネシウム　ラウレート この方法で安定化される合成高分子には次のものが含ま
れる。

オレフィン　びジエンボｊマー オレフィン及びジエンのホモポリマー（例えば、低密度
、直鎖状低密度、高密度及び架橋ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリイソプレン、ポリメチルブテン−１、ポ
リメチルペンテン−１、ポリイソプレン及びポリブタジ
ェン）、そのようなホモポリマーの混合物（例えば、ポ
リプロピレンとポリエチレン、ポリプロピレンとポリブ
テン−１、又はポリプロピレンとポリイソブチレンの混
合物）、オレフィンのコポリマー（例えば、エチレン−
プロピレンのコポリマー、プロピレン−ブテン−１のコ
ポリマー、エチレン−ブテン−１のコポリマー）、及び
オレフィンとジエンのコポリマー（例えば、エチレン及
びプロピレンとブタジェン、ヘキサジエン、ジシクロペ
ンタジェン又はエチリデンノルボルネンのようなジエン
とのターポリマー）： スチレンポリマー ポリスチレン、スチレン又はα−メチルスチレンのコポ
リマー（例えば、スチレン−無水マレイン酸コポリマー
、スチレン−ブタジェンのコポリマー、スチレン−アク
リロニトリル−メチルメタクリレートのコポリマー、ス
チレン−アクリロニトリル−アクリル酸エステルのコポ
リマー、衝撃強度を与えるためにアクリル酸エステルポ
リマーで変性されたスチレン−アクリロニトリルのコポ
リマー、及び衝撃強度を与えるためにＥＰＤＭで変性さ
れたスチレンポリマー）、及びスチレンのグラフトコポ
リマー（例えば、ポリブタジェンに対するスチレンのグ
ラフトポリマー、通常アクリロニＩ−リルーブタジエン
ースチレン又はＡＢＳプラスチックと言われるポリブタ
ジェンに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフ
トポリマー及び上記スチレンのコポリマーとこれとの混
合物）ハロゲン化ビニル及びビニリデンポリマーポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポ
リクロロプレン、塩素化ビニル−塩化ビニリデンのコポ
リマー、塩化ビニル−酢酸ビニルのコポリマー塩化ビニ
ル−エチレンコポリマー、塩化ビニリデン−酢酸ビニル
のコポリマー：α、　−びその　１　のポリマー ポリアクリ）ＩＪＷｍエステル及びポリメタクリル酸エ
ステル、ポリアクリルアミド及びポリアクリロ二１〜リ
ル： ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリ
ン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレ、イン酸ビ
ニル、ポリビニルブチラール、ポリフタル酸アリル、ポ
リメラミンアリル及び前記単量体と他種のビニル化合物
とのコポリマー（例えば、エチレン−酢酸ビニルのコポ
リマー）：エポキシポリマー エポキシ化合物のホモポリマー及びコポリマー（例えば
、ポリエチレンオキシド）及びビスグリシジルエーテル
化合物のポリマー： ポリオキシメチレン、オキシメチレン−エチレンオキシ
ドのコポリマー、ポリオキシエチレン、ポリプロピレン
オキシド、ポリイソブチレンオキシド及びポリフェニレ
ンオキシド： ポＴウレタン　びポリウレア ジアミンと脂肪酸又は芳香族ジカルボン酸から誘導され
る及び／又はアミノカルボン酸又はそれに対応するラク
タムから誘導されるポリアミド及びコポリアミド：例え
ば、ナイロン−６、ナイロン−６／６、ナイロン６／１
０、ナイロン１１、ナイロン１２： ポリエーテル ジカルボン酸とジアルコールとから及び／又はオキシ酸
又はそれに対応するラクトンから誘導されるポリエテル
：例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−シクロヘキサン−１，４−ジメ
チレンテレフタレート： 架橋ポリマー 一方がアルデヒド、他方がフェノール、尿素又はメラミ
ンとから誘導される架橋ポリマー：例えば、フェノール
−ホルムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂
、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂及びジアリールフタ
レート樹脂：アルキド樹脂 例えば、グリセロール−フタル酸樹脂、及びこれとメラ
ミン−ホルムアルデヒド樹脂との混合物・　　ボ「エス
テル 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポ
リエステルから誘導され、架橋剤としてビニル化合物を
用いて得られた不飽和ポリエステル樹脂、及びそれを塩
素化して難燃化変性を施したもの。

高分子の効果的安定化に必要な本発明のピペリジン化合
物（Ｉａ）乃至（Ｉｆ）　、硫黄系酸化防止剤（ＩＩａ
）乃至（ＩＩｃ）及び高級脂肪酸のアルカリ土類金属塩
（ＩＩＩ）の量は、種々の要因、例えば対象となるポリ
マーの種類及び性質、その使用目的、及び他の安定剤の
存在等に依存する。通常、高分子の重量を基準にして本
発明のピペリジン化合物（Ｉ　Ｉ　ａ）乃至（Ｉｆ）　
、硫黄系酸化防止剤（ＩＩａ）乃至（ＩＩｃ）及び高級
脂肪酸のアルカリ土類金属塩（ＩＩＩ’）をそれぞれ０
．０１乃至５重量％用いると充分であるが、最も有効な
範囲はポリマーの種類により変わる：即ち、オレフィン
、ジエン及びスチレンポリマーについては０．０１乃至
２゜０重量％、好ましくは０．０２乃至１．０重量％：
塩化ビニル及び塩化ビニリデンポリマーについては０．
０１乃至１．０重量％、好ましくは０゜０２乃至０．５
重量％：そして、ポリウレタン及びポリアミドについて
は０．０１乃至５．０重量％、好ましくは０．０２乃至
２．０重量％である。

所望により、本発明のピペリジン化合物、硫黄系酸化防
止剤及び高級脂肪酸のアルカリ土類金属塩のそれぞれの
２種又はそれ以上を一諸に用いることが出来る。本発明
のピペリジン化合物、硫黄系酸化防止剤及び高級脂肪酸
のアルカリ土類金属塩は通常の技術により、成型物品を
製造する前の都合のよいあらゆる段階で高分子に容易に
混入できる。

本発明の高分子用安定剤は、高分子技術の分野で種々の
慣用の添加剤を適宜含ませることができ、例えばそのよ
うな添加剤として次のものがあげられる。。

フェノールで　　　− ２，６−ジーし一ブチルーＰ−クレゾール；ステアリル
−β−（４−ヒドロキシ−３，５−ジーし一ブチルフェ
ニル）プロピオネート；ジステアリル（４−ヒドロキシ
−３−メチル−５−ｔ−ブチル）ベンジルマロネート；
２ｙ２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）；４，４’−メチレンビス（２，６−ジー
ｔ−ブチルフェノール）：２，２’−メチレンビス［６
−（１−メチルシクロヘキシル〕ｐ−クレゾールコニビ
ス［３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフ
ェニル）ブチリックアシッドコグリコールエステル；４
，４’−ブチリデンビス（６−ｔ−ブチルーｍ−クレゾ
ール）；１，１．３−１〜リス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン；１，３，５
−トリス（３゜５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）−２，４，６−ドリメチルベンゼン；３，９−
ビス［１，１−ジメチル−２−（３，５−ジーを一ブチ
ルー４−ヒドロキシフェニル）エチル］−２゜４．８．
１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン：テト
ラキス［メチレン−３−（３，５−ジーし一ブチルー４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネートコメタン；１，
３，５−トリス（３゜５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）イソシアヌレート及び１，３，５−トリ
ス［３゜５−ジーし−ブチルー４−ヒドロキシフェニル
）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート；ビス
［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニル］オキサミド。

ホスファ　　ｆ″ トリス（２，４−ジーｔ−プチルフエニ、ル）ホスファ
イト；トリフェニルホスファイト；トリス（ノニルフェ
ニル）ホスファイト；ジステアリルペンタエリスリトー
ル　ジホスファイト；４，４−ブチリデンビス（３−メ
チル−６−ｔ−プチルフェニル−ジ−トリデシル）ホス
ファイト；ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペ
ンタエリスリトール　ジホスファイト。

紫外線吸収前 ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン；２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン；２，４
−ジヒドロキシベンゾフェノン；２−（２′−ヒドロキ
シ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール：２　　（２ｔ−ヒドロキシ
−３’　、５’−ジーも一ブチルフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾール；２−（２’−ヒドロキシ−５′
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール；２−＜２’　
−ヒドロキシ−３’　、５’−ジ−ｔ−アミルフェニル
）ベンゾトリアゾール；フェニルサリシレート；２゜４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジーを一ブチルー
４−ヒドロキシベンゾエート。

＝Ｚ欠ル糸支定珂 Ｎｉ−モノエチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルホスフォネート；ブチルアミン−Ｎｊ−
２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェルレート）
錯体；Ｎｉ−ジブチルージチオカルバメー１〜；　Ｎ　
ｘ　　３　ｙ　５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート。

その他必要に応じ、重金属不活性剤、造核剤、有機錫化
合物、可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤
、帯電防止剤、滑剤、加工助剤等と併用することができ
る。

この様にして安定化されたプラスチックは、非常に広範
な形態で、例えばフィルム、繊維、テープ、圧縮成形材
料、塗料組成物又はペイントとして使用できる。

〈発明の効果〉 本発明のピペリジン化合物（Ｉａ）〜（Ｉｆ）と、硫黄
系酸化防止剤（ＩＩａ）〜（ＩＩｃ）と高級脂肪酸のア
ルカリ土類金属塩（Ｉ工Ｉ）の３種を合成高分子に併用
することにより、光安定性を保持しながら、熱安定性が
著しく向上する。

本発明を更に次の実施例で説明するが、これら実施例に
おいて、全ての部及びパーセントは重量単位である。

実施例よ− 未安定化ポリプロピレン粉末（ＭＦＲ−４，○）１００
部、酸化防止剤としてテトラキス［メチレン−３−（３
，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネートコメタン０．１部及び表１に示す本発明の安定
剤をブラベンダー・プラスチコーダー中、２００℃で１
０分間混練して均質にした。得られた塊を実験用プレス
機で２−３　ｍ　ｍ厚のシートに圧延し、た。このシー
トの一部を油圧プレス機で２６０　’Ｃで６分間加圧し
、次いで直ちに冷水中に投入して０．５ｍｍ厚、１．０
ｍｍ厚のシートをそれぞれ得た。同様の方法により、０
．５ｍｍ厚のシートから０．１ｍｍ厚のフィルムを成形
した。このフィルムを５０　Ｘ　１２０　ｍｍの試験片
に切断した。

この試験片をサンシャインカーボンウェザ−・メータ中
黒板温度６３±３℃で光に曝した。露光された試料を周
期的に引張試験を行ない、各試料について伸びが初期の
５０％に低下する時間を劣化時間とした。

また−ヒ記の１．０ｍｍ厚のシートから、５０Ｘ１００
ｍｍの試験片を作成し、１５０℃のオーブン中に経時し
、脆化により白化するまでの日数を調べた。

これらの結果を表１に示した。なお、化合物番号は前述
の化合物例に示した化合物を表わす。

／ ７／ ／ 手続補正書（方式） 昭和６３年２月２日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）、下記一般式（ I ａ）乃至（ I ｆ）を有するピペ
   リジン化合物の少なくとも一種と、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｃ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｄ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｅ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｆ） ［上記式中、Ｒ＾１は水素原子、メチル基、ベンジル基
   、アセチル基叉は 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する基を示す。 ｎは１乃至４の整数を示す。 ｎが１のとき、Ｒ＾２は脂肪族、脂環族叉は芳香族モノ
   アシル基を示す。 ｎが２のとき、Ｒ＾２は脂肪族、脂環族叉は芳香族ジア
   シル基を示す。 ｎが３のとき、Ｒ＾２は脂肪族叉は芳香族トリアシル基
   を示す。 ｎが４のとき、Ｒ＾２は脂肪族叉は芳香族テトラアシル
   基を示す。 Ｒ＾３は、炭素数１乃至１８個のアルキル基を示す。 Ｒ＾４は、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する基（Ｒ＾１及びＲ＾３は前述したものと同意義
   を示す。）を示す。 Ｙは、モルホリノ基又は式−ＮＨＲ＾８を有する基（Ｒ
   ＾８は炭素数１乃至１８個のアルキル基を示す。）を示
   す。 ｍは２乃至２０の整数を示す。 ｐは、１乃至８の整数を示し、ｒは２乃至５０の整数を
   示す。］ ２）、下記一般式（IIａ）乃至（IIｃ）を有する硫黄系
   酸化防止剤の少なくとも一種、 Ｒ＾９−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−Ｓ−ＣＨ＿２
   −ＣＨ＿２−ＣＯ−Ｏ−Ｒ＾９（IIａ）（Ｒ＾９−Ｓ−
   ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−ＣＯ−Ｏ−）＿ｔ−Ｚ（IIｂ）▲
   数式、化学式、表等があります▼（IIｃ） ［上記式中、Ｒ＾９は、炭素数４乃至１８個のアルキル
   基を示す。 ｔは２乃至４の整数を示す。 ｔが２のとき、Ｚはエチレン基を示す。 ｔが３のとき、Ｚは式−ＣＨ＿２−ＣＨ−ＣＨ＿２−又
   は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。 ｔが４のとき、Ｚは 式　 ▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。］ ３）、及び下記一般式（III）を有する高級脂肪酸のア
   ルカリ土類金属塩の少なくとも一種、 （Ｒ＾１＾０ＣＯＯ）＿２Ｍ（III） ［上記式中、Ｒ＾１＾０は炭素数１１個乃至１７個のア
   ルキル基を示し、Ｍはアルカリ土類金属を示す。 ］を含有する合成高分子用安定剤。