JPH01111885A - 真空蒸着装置用るつぼ - Google Patents

真空蒸着装置用るつぼ

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Publication number
JPH01111885A
JPH01111885A JP26827387A JP26827387A JPH01111885A JP H01111885 A JPH01111885 A JP H01111885A JP 26827387 A JP26827387 A JP 26827387A JP 26827387 A JP26827387 A JP 26827387A JP H01111885 A JPH01111885 A JP H01111885A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hearth liner
crucible
molten metal
rectangular plates
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26827387A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuyuki Hiroe
広江 哲幸
Takahiro Matsumoto
隆博 松本
Ritsuo Hashimoto
律男 橋本
Mitsuo Tani
谷 光夫
Nobuyoshi Nakaishi
中石 信義
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP26827387A priority Critical patent/JPH01111885A/ja
Publication of JPH01111885A publication Critical patent/JPH01111885A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は真空蒸着装置用゛るつぼに関し、特に該るつぼ
の構成材であるハースライナが高温の蒸着用溶融金属に
接する際の熱変形と、これに伴なう破損トラブルを効果
的に防止することのできる上記るつほに関する。
〔従来の技術〕
るつぼの形状は、一般に、半球形あるいは半箱形をして
おシ、従来の構造の横断面の一例を第2因に示す。
図示のとお夛、従来のるつぼでは、熱効率をよくする友
めに水冷るつぼ本体2′(2I&は水冷孔4′を構成す
る壁面)と蒸着用溶融金属3・(Aは蒸着用金属を溶解
するための熱源、8は蒸着用溶融金属5′の対流の状況
、T、 、 T2は対流している蒸着用溶融金属3′の
温度を表わし、?、)T2の関係にある)の間に一体形
のハースライナ1′が設けられている。
ハースライナ1′の材料としては、金属、セラミックス
及びグラファイト等が用いられている。
上記の従来の構造のるつぼにおける蒸着中の温度分布の
屏析例を第5図に示す。
図示のとお9、高温T、の蒸着用溶融金属5Iの対流8
がハースライナ1′の側面部1′!Ltで達し、この側
面部12が他の7ランジ部13や底面部1’bK対しか
なり高温に加熱されることが判る。
このような従来の構造のるつぼは、100鵬幅X200
m+11長X1X100l深程度の寸法のものが最大で
ちゃ、この最大のものでも第3図のような条件で長時間
使用した実績はない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
(1)  一体形のハースライナ1′は、第3図に示し
九とおり、溶融金属3Iからの熱によシ長さ方向、高さ
方向及び幅方向に大きな温度分布が生じ、これによシ大
きな熱応力が作用する定め、高温の蒸着用金属を溶解す
ると破損トラブルが多発し、実用上問題を生じてい友。
(2)更に、大形になると、長さ方向に温度差による大
きな曲がCyR形が生じ、るつぼ本体2′からハースラ
イナ1′の一部が分離して浮き上が9、ハースライナ1
′の温度の異常上昇が起)、破損トラブルを加速するこ
とになる。
本発明は、上記111、+21の問題点を解消する真空
蒸着装置用るつぼを提供するものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、高温の蒸着用溶融金属を保持するハースライ
ナと該ハースライナを保持かつ冷却する水冷るつぼ本体
から構成される真空蒸着装置用るつぼにおいて、 (1)  ハースライナをタイル型の複数の矩形板で形
成し、 (2)  複数の矩形板を水冷るつぼ本体で保持し、(
3)複数の各矩形板間に溶融金属の浸透するすき間を設
け、このすき間に前記蒸着用溶融金属が浸透して固化す
ることを利用して各矩形板間のめしを形成させてなる ことを特徴とする真空蒸着装置用るつぼに関する。
また、本発明では、タイル型の複数の矩形板のI!に側
(るつぼ本体@)に水冷るつぼ本体又はスペーサ等を利
用して仕切夛を設け、溶融金属によるめじのできる範囲
を限定することもできる。
〔作用〕
本発明では、ハースライナをタイル型の複数の矩形板で
形成し、これによル熱変形や熱応力を大幅に低減して、
ハースライナの破損トラブルの発生を防止する。
また、本発明では、溶融金属で各矩形板間にめじを形成
し、このめしによシ溶融金属がるつぼ本体外へ流出する
ことはない。
更に、めしの幅″fr逼当に選定することにょシ、ろる
いはめじのできる範囲全限定することにより、めしを通
じての熱伝導を調節することができ、これにニジハース
ライナの温度を適正に下げることができ、かつ温度分布
のコントロールを行うことができる。
〔実施例〕
本発明の一実施例t−41図に示す。
図において、1はタイル型の複数の矩形板10で形成さ
れ友ハースライナ、2は水冷るつぼ本体(調合金製)、
3は°蒸着用溶融金属、5aは矩形板10間のすき間に
浸透した蒸着用溶融金属5で形成されためし、4は冷却
水通路、2aは該冷却水通路を構成するるつぼ本体2の
壁面である。
図示のとおシ、本実施例では、水冷るつぼ本体2を凹形
とし、ハースライナ1をタイル型の複数の矩形板10で
形成し、各矩形板10間に所定のすき間10′を設けて
水冷るつは本体2に接着し、冷却水通路4に冷却水を通
した後、蒸着用溶融金属5を溶融させ、各矩形板10間
に蒸着用溶融金属3の浸透固化し友めじ5ai形成させ
友。
各矩形板10の大きさと、めじ3aの寸法については、
伝熱解析と熱変形応力解析を行って適正値を選定した。
上記の実施例では、水冷るつぼ本体2の形状を凹形とし
たが、本発明の場合、この形状はこの形に限定しなくて
もよく、例えば凹形としてもよい。
更に、必要によっては、タイル型の矩形板10と水冷る
つぼ本体2との間に矩形板1oよシ大きさの小さいスペ
ーサを介在させるか、水冷るつぼ本体2そのものをスペ
ーサと同様形状に加工して矩形板10の裏側に空間部を
設け、蒸着用溶融金楓3によるめじ3aの大きさ、形状
をコントロールして矩形板10の温度分布をコントロー
ルすることもできる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ハースライナをタイル型の複数の矩形
板で形成し、その温度分布全コントロールして適正な値
とすることができるため、熱変形や熱応力を大幅に低減
でき、ハースライナの破損トラブルをなくシ、性能上問
題なく、かつ強度信頼性の大きなるつぼ全提供すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す断面因、第2図は従来
のるつぼの構造を示す横断面図、第3図は第2図に示す
従来の構造のるつぼにおける蒸着中の温度分布の解析例
を示す模式図である。 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 高温の蒸着用溶融金属を保持するハースライナと該ハー
    スライナを保持かつ冷却する水冷るつぼ本体から構成さ
    れる真空蒸着装置用るつぼにおいて、 (1)ハースライナをタイル型の複数の矩形板で形成し
    、 (2)複数の矩形板を水冷るつぼ本体で保持し、(3)
    複数の各矩形板間に溶融金属の浸透するすき間を設け、
    このすき間に前記蒸着用溶融金属が浸透して固化するこ
    とを利用して各矩形板間のめじを形成させてなる ことを特徴とする真空蒸着装置用るつぼ。
JP26827387A 1987-10-26 1987-10-26 真空蒸着装置用るつぼ Pending JPH01111885A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26827387A JPH01111885A (ja) 1987-10-26 1987-10-26 真空蒸着装置用るつぼ

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26827387A JPH01111885A (ja) 1987-10-26 1987-10-26 真空蒸着装置用るつぼ

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JPH01111885A true JPH01111885A (ja) 1989-04-28

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ID=17456271

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26827387A Pending JPH01111885A (ja) 1987-10-26 1987-10-26 真空蒸着装置用るつぼ

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JP (1) JPH01111885A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002097565A (ja) * 2000-09-20 2002-04-02 Dainippon Printing Co Ltd 真空蒸着用るつぼ
CN104528730A (zh) * 2014-12-25 2015-04-22 大连理工大学 一种降低石墨衬底内部热应力的电子束熔炼方法及石墨衬底
CN104528731A (zh) * 2014-12-25 2015-04-22 大连理工大学 一种降低电子束连续拉锭熔炼过程中硅锭内应力的装置及方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002097565A (ja) * 2000-09-20 2002-04-02 Dainippon Printing Co Ltd 真空蒸着用るつぼ
CN104528730A (zh) * 2014-12-25 2015-04-22 大连理工大学 一种降低石墨衬底内部热应力的电子束熔炼方法及石墨衬底
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