JPH01110268U - - Google Patents

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JPH01110268U
JPH01110268U JP567688U JP567688U JPH01110268U JP H01110268 U JPH01110268 U JP H01110268U JP 567688 U JP567688 U JP 567688U JP 567688 U JP567688 U JP 567688U JP H01110268 U JPH01110268 U JP H01110268U
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holding jig
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growth
phase epitaxial
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例の断面図、第2図は従
来装置を示す断面図である。 1……反応管、2……加熱炉、3,4……成長
室、5,6……原料ソース、7,8……原料ガス
導入管、9……基板保持治具、10……基板、1
1……支持部、12……結合部、13……切欠き
(脆弱部)、14……移動機構、15……過負荷
検出機構。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 複数の成長室を有する気相エピタキシアル成
    長装置において、成長室の対向位置間を順次移動
    する基板保持治具と該基板保持治具を支える支持
    部との結合部に、基板保持治具が成長室に衝突し
    た際に切損させる脆弱部を設けたことを特徴とす
    る気相エピタキシアル成長装置。 2 複数の成長室を有する気相エピタキシアル成
    長装置において、成長室の対向位置間に基板保持
    治具を順次移動させる移動機構に、基板保持治具
    が成長室に衝突した際の過負荷を検出して該移動
    機構に駆動停止指令を発する過負荷検出機構を装
    備したことを特徴とする気相エピタキシアル成長
    装置。
JP567688U 1988-01-20 1988-01-20 気相エピタキシアル成長装置 Expired - Lifetime JPH0613264Y2 (ja)

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JP567688U JPH0613264Y2 (ja) 1988-01-20 1988-01-20 気相エピタキシアル成長装置

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JP567688U JPH0613264Y2 (ja) 1988-01-20 1988-01-20 気相エピタキシアル成長装置

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Publication Number Publication Date
JPH01110268U true JPH01110268U (ja) 1989-07-25
JPH0613264Y2 JPH0613264Y2 (ja) 1994-04-06

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ID=31209260

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP567688U Expired - Lifetime JPH0613264Y2 (ja) 1988-01-20 1988-01-20 気相エピタキシアル成長装置

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JPH0613264Y2 (ja) 1994-04-06

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